JP6490018B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents
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Description
第1実施形態に係る半導体記憶装置について説明する。以下では、半導体記憶装置として、メモリセルトランジスタが半導体基板上に三次元に積層された三次元積層型NAND型フラッシュメモリを例に挙げて説明する。
1.1.1 半導体記憶装置の全体構成について
まず、本実施形態に係る半導体記憶装置の全体構成について、図1を用いて説明する。図1は、本実施形態に係るNAND型フラッシュメモリのブロック図である。
次に、上記ブロックBLKの構成について図2を用いて説明する。前述の通り、ブロックBLKは例えば4つのストリングユニットSUを含み、各々のストリングユニットSUは複数のNANDストリング6を含む。
次に、センスアンプ4の構成について、図4を用いて説明する。
次にセンスアンプユニットSAUの構成について、図5を用いて説明する。なお、本実施形態では、ビット線BLを流れる電流をセンスする電流センス方式のセンスアンプユニットSAUを例に説明するが、電圧センス方式のセンスアンプユニットSAUを用いても良い。
次に、本実施形態に係るメモリセルトランジスタMTの取り得る閾値分布について、図6を用いて説明する。以下、本実施形態では、メモリセルトランジスタMTが8値のデータを保持可能な場合について説明するが、保持可能なデータは8値に限定されてない。本実施形態においては、メモリセルトランジスタMTが4値以上のデータ(2ビット以上のデータ)を保持可能であれば良い。
次にセンスアンプ部SAを用いたAND演算及びOR演算について説明する。
まず、AND演算について説明する。以下では、AND演算の例として、ラッチ回路BDLの保持するデータとCDLの保持するデータとのAND演算を行い、その結果をラッチ回路SDLに保持する場合について説明する。図7は、AND演算の各処理に対して、ラッチ回路BDL、CDL、及びSDLと、ノードSENと、バスLBUSとが保持するデータを示している。図7のテーブル(a)は、ラッチ回路BDL及びCDLが“1”データを保持する場合の演算過程を示している。テーブル(b)は、ラッチ回路BDLが“1”データを保持し、ラッチ回路CDLが“0”データを保持する場合の演算過程を示している。テーブル(c)は、ラッチ回路BDLが“0”データを保持し、ラッチ回路CDLが“1”データを保持する場合の演算過程を示している。テーブル(d)は、ラッチ回路BDL及びCDLが“0”データを保持する場合の演算過程を示している。また、図7において、“1”なる表記は、“H”レベルの信号(電圧)を示し、“0”なる表記は“L”レベルの信号(電圧)を示す。また、図7のテーブルにおいて、斜線で示している欄は、各ステップにおける演算結果を示している。
次に、制御回路5は、信号LSLを“H”レベルにし、トランジスタ50をオン状態にする(ステップ2)。するとバスLBUSが“1”データを保持する場合、トランジスタ49がオン状態となるため、ノードSENは“0”データを保持する(図7(a)及び(b))。バスLBUSが“0”データを保持する場合、トランジスタ49がオフ状態となり、ノードSENは“1”データを保持する(図7(c)及び(d))。すなわち、ラッチ回路BDLが“1”データを保持する場合、ノードSENは“0”データを保持し、ラッチ回路BDLが“0”データを保持する場合、ノードSENは“1”データを保持する。
次に、OR演算について、図8を用いて説明する。以下では、AND演算と異なる点についてのみ説明する。
次に、本実施形態に係るデータの書き込み動作について簡単に説明する。書き込み動作は、大まかにはプログラム動作とベリファイ動作とを含む。
1.4.1 書き込み動作の全体の流れについて
まず、書き込み動作の全体の流れについて、図9を用いて説明する。図9は、書き込み動作の流れを示すフローチャートである。
次に、プログラム動作における各配線の電圧について、図10を用いて説明する。
次に本実施形態におけるベリファイ動作について説明する。本実施形態では、ベリファイ動作時に、ラッチ回路SDLのデータに応じて、プリチャージ電圧を印加するビット線BLが選択される(以下、「選択プリチャージ」と呼ぶ)。より具体的には、例えばセンスアンプユニットSAUは、ラッチ回路SDLに“0”データ(“L”データ)が保持されている場合に、対応するビット線BLにプリチャージ電圧を印加する。他方でセンスアンプユニットSAUは、ラッチ回路SDLに“1”データ(“H”データ)が保持されている場合、対応するビット線BLに例えば接地電圧VSSを印加し、プリチャージ電圧を印加しない。以下、プリチャージ電圧を印加するビット線をBL(“pre-charge”)と表記し、プリチャージ電圧を印加しないビット線をBL(“lockout”)と表記する。
次に、ベリファイ動作時におけるラッチ回路SDLの保持データについて、図11を用いて説明する。
次に、ベリファイ動作における各配線の電圧について、図12を用いて説明する。図12は、ベリファイ動作におけるメモリセルアレイ2及びセンスアンプユニットSAUにおける各配線の電圧を示すタイミングチャートである。
本実施形態の書き込み動作につき、より具体的に説明する。図13及び図14では、プログラム動作とベリファイ動作との組み合わせが19回繰り返されることによって、データが書き込まれる場合を例に示している。以下、この繰り返し動作を「ループ」と呼ぶ。
次に、データの書き込み動作においてラッチ回路XDL、ADL、BDL、CDL、及びSDLが保持するデータの具体例について、特に1回目のループに着目して、図16乃至図18を用いて説明する。図16乃至図18はラッチ回路XDL、ADL、BDL、CDL、及びSDLが保持するデータを示す図である。
本実施形態に係る構成であると、処理能力を向上できる。本効果につき、以下説明する。
次に、第2実施形態について説明する。第1実施形態と異なる点は、ベリファイ動作において、ラッチ回路ADL、BDL、及びCDLの保持データの演算結果からプリチャージ電圧を印加するビット線BLを決定する点である。以下、第1実施形態と異なる点についてのみ説明する。
まず、ベリファイ動作時にラッチ回路SDLが保持しているデータについて、図19を用いて説明する。
本実施形態の書き込み動作につき、より具体的に説明する。本実施形態におけるプログラム動作とベリファイ動作との組み合わせは、第1実施形態の図13及び図14と同じである。
上記実施形態に係る半導体記憶装置は、少なくとも4つの閾値電圧のいずれかに設定可能な第1メモリセル(MT@図2)と、第1メモリセルに接続された第1ビット線(BL(“A”)@図15)と、第1メモリセルのゲートに接続されたワード線(選択WL@図15)と、第1ビット線に接続された第1センスアンプ(SAU@図5)とを含む。第1メモリセルにデータを書き込むプログラム動作の後に、第1メモリセルの閾値電圧を確認するベリファイ動作が行われる。ワード線に第1電圧(VfyA@図15)が印加される第1ベリファイ動作(ループ1回目@図15)において、第1センスアンプは、第1ビット線に充電電圧(VPCH@図15)を印加する。ワード線に第1電圧よりも高い第2電圧(VfyB@図15)が印加される第2ベリファイ動作(ループ3回目の”B”ベリファイ@図15)において、第1センスアンプは、第1ビット線に充電電圧を印加しない。ワード線に第2電圧よりも高い第3電圧(VfyF@図15)が印加される第3ベリファイ動作(ループ11回目の”F”ベリファイ@図15)において、第1センスアンプは、第1ビット線に充電電圧を印加する。
(1)読み出し動作では、Aレベルの読み出し動作に選択されたワード線に印加される電圧は、例えば0V〜0.55Vの間である。これに限定されることなく、0.1V〜0.24V、0.21V〜0.31V、0.31V〜0.4V、0.4V〜0.5V、及び0.5V〜0.55Vのいずれかの間にしても良い。
Claims (5)
- 少なくとも4つの閾値電圧のいずれかに設定可能な第1メモリセルと、
前記第1メモリセルに接続された第1ビット線と、
前記第1メモリセルのゲートに接続されたワード線と、
前記第1ビット線に接続された第1センスアンプと
を具備し、
前記第1メモリセルにデータを書き込むプログラム動作の後に、前記第1メモリセルの閾値電圧を確認するベリファイ動作が行われ、
前記ワード線に第1電圧が印加される第1ベリファイ動作において、前記第1センスアンプは、前記第1ビット線に充電電圧を印加し、
前記ワード線に前記第1電圧よりも高い第2電圧が印加される第2ベリファイ動作において、前記第1センスアンプは、前記第1ビット線に前記充電電圧を印加せず、
前記ワード線に前記第2電圧よりも高い第3電圧が印加される第3ベリファイ動作において、前記第1センスアンプは、前記第1ビット線に前記充電電圧を印加する
ことを特徴とする半導体記憶装置。 - 少なくとも前記4つの閾値電圧のいずれかに設定可能な第2メモリセルと、
前記第2メモリセルに接続された第2ビット線と、
前記第2ビット線に接続された第2センスアンプと
を更に具備し、
前記第1ベリファイ動作において、前記第2センスアンプは、前記第2ビット線に前記充電電圧を印加せず、
前記第2ベリファイ動作において、前記第2センスアンプは、前記第2ビット線に前記充電電圧を印加し、
前記第3ベリファイ動作において、前記第2センスアンプは、前記第2ビット線に前記充電電圧を印加しない
ことを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。 - 前記第1ベリファイ動作は、第1データのプログラム動作に対応し、
前記第2ベリファイ動作は、前記第1データと異なる第2データのプログラム動作に対応し、
前記第3ベリファイ動作は、前記第1及び第2データと異なる第3データのプログラム動作に対応し、
前記第1メモリセルに前記データを書き込む前記プログラム動作において、前記第1メモリセルに前記第1及び第3データの1つが書き込まれる
ことを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。 - 前記第1ベリファイ動作は、第1データのプログラム動作に対応し、
前記第2ベリファイ動作は、前記第1データと異なる第2データのプログラム動作に対応し、
前記第3ベリファイ動作は、前記第1及び第2データと異なる第3データのプログラム動作に対応し、
前記第1メモリセルに前記データを書き込む前記プログラム動作において、前記第1メモリセルに前記第1及び第3データの1つが書き込まれ、前記第2メモリセルに前記第2データが書き込まれる
ことを特徴とする請求項2記載の半導体記憶装置。 - 少なくとも4つの閾値電圧のいずれかに設定可能な第1及び第2メモリセルと、
前記第1及び第2メモリセルにそれぞれ接続された第1及び第2ビット線と、
前記第1及び第2メモリセルのゲートに共通に接続されたワード線と、
前記第1ビット線に接続された第1センスアンプと、
前記第2ビット線に接続された第2センスアンプと、
を具備し、
前記第1及び第2メモリセルにデータを書き込むプログラム動作の後に、前記第1及び第2メモリセルの閾値電圧を確認するベリファイ動作が行われ、
前記第1メモリセルに第1データを書き込み、前記第2メモリセルに前記第1データと異なる第2データを書き込む場合、
前記第1データに対応する第1ベリファイ動作において、前記ワード線に第1電圧が印加され、前記第1及び第2センスアンプは、前記第1及び第2ビット線に充電電圧を印加し、
前記第2データに対応する第2ベリファイ動作において、前記ワード線に前記第1電圧よりも高い第2電圧が印加され、前記第1及び第2センスアンプは、前記第1及び第2ビット線に前記充電電圧を印加し、
前記第1及び第2データと異なる第3データに対応する第3ベリファイ動作において、前記ワード線に前記第2電圧よりも高い第3電圧が印加され、前記第1及び第2センスアンプは、前記第1及び第2ビット線に前記充電電圧を印加しない
ことを特徴とする半導体記憶装置。
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