JP6415337B2 - 積層セラミックコンデンサ - Google Patents

積層セラミックコンデンサ Download PDF

Info

Publication number
JP6415337B2
JP6415337B2 JP2015014179A JP2015014179A JP6415337B2 JP 6415337 B2 JP6415337 B2 JP 6415337B2 JP 2015014179 A JP2015014179 A JP 2015014179A JP 2015014179 A JP2015014179 A JP 2015014179A JP 6415337 B2 JP6415337 B2 JP 6415337B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
concentration
donor element
multilayer ceramic
dielectric layer
ceramic capacitor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2015014179A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2016139720A (ja
Inventor
浩一郎 森田
浩一郎 森田
知栄 川村
知栄 川村
穣 龍
穣 龍
克哉 谷口
克哉 谷口
一路 広井
一路 広井
誉志紀 岩崎
誉志紀 岩崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiyo Yuden Co Ltd
Original Assignee
Taiyo Yuden Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taiyo Yuden Co Ltd filed Critical Taiyo Yuden Co Ltd
Priority to JP2015014179A priority Critical patent/JP6415337B2/ja
Priority to KR1020150142070A priority patent/KR101730813B1/ko
Priority to TW104137079A priority patent/TWI586528B/zh
Priority to CN201610028979.2A priority patent/CN105826074B/zh
Priority to US15/002,324 priority patent/US9666371B2/en
Publication of JP2016139720A publication Critical patent/JP2016139720A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6415337B2 publication Critical patent/JP6415337B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002Details
    • H01G4/018Dielectrics
    • H01G4/06Solid dielectrics
    • H01G4/08Inorganic dielectrics
    • H01G4/12Ceramic dielectrics
    • H01G4/1209Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material
    • H01G4/1218Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material based on titanium oxides or titanates
    • H01G4/1227Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material based on titanium oxides or titanates based on alkaline earth titanates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/46Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates
    • C04B35/462Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates
    • C04B35/465Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates
    • C04B35/468Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates based on barium titanates
    • C04B35/4682Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates based on barium titanates based on BaTiO3 perovskite phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • C04B35/62605Treating the starting powders individually or as mixtures
    • C04B35/62685Treating the starting powders individually or as mixtures characterised by the order of addition of constituents or additives
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/30Stacked capacitors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3205Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
    • C04B2235/3206Magnesium oxides or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3205Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
    • C04B2235/3215Barium oxides or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3224Rare earth oxide or oxide forming salts thereof, e.g. scandium oxide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3231Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3232Titanium oxides or titanates, e.g. rutile or anatase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3231Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3251Niobium oxides, niobates, tantalum oxides, tantalates, or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3231Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3256Molybdenum oxides, molybdates or oxide forming salts thereof, e.g. cadmium molybdate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3231Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3258Tungsten oxides, tungstates, or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3262Manganese oxides, manganates, rhenium oxides or oxide-forming salts thereof, e.g. MnO
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/34Non-metal oxides, non-metal mixed oxides, or salts thereof that form the non-metal oxides upon heating, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3418Silicon oxide, silicic acids, or oxide forming salts thereof, e.g. silica sol, fused silica, silica fume, cristobalite, quartz or flint
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/50Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
    • C04B2235/54Particle size related information
    • C04B2235/5409Particle size related information expressed by specific surface values
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/65Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
    • C04B2235/66Specific sintering techniques, e.g. centrifugal sintering
    • C04B2235/661Multi-step sintering
    • C04B2235/662Annealing after sintering
    • C04B2235/663Oxidative annealing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/70Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
    • C04B2235/74Physical characteristics
    • C04B2235/75Products with a concentration gradient
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/70Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
    • C04B2235/74Physical characteristics
    • C04B2235/78Grain sizes and shapes, product microstructures, e.g. acicular grains, equiaxed grains, platelet-structures
    • C04B2235/781Nanograined materials, i.e. having grain sizes below 100 nm
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/70Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
    • C04B2235/74Physical characteristics
    • C04B2235/78Grain sizes and shapes, product microstructures, e.g. acicular grains, equiaxed grains, platelet-structures
    • C04B2235/786Micrometer sized grains, i.e. from 1 to 100 micron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/70Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
    • C04B2235/80Phases present in the sintered or melt-cast ceramic products other than the main phase
    • C04B2235/85Intergranular or grain boundary phases

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Capacitors (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)

Description

本発明は、誘電体層を構成するセラミック粒子における所定のドナー元素及びアクセプタ元素の濃度の比率が、セラミック粒子の部位によって異なる、積層セラミックコンデンサに関するものである。
近年、携帯電話やタブレット端末などのデジタル電子機器に使用される電子回路の高密度化に伴う電子部品の小型化に対する要求は高く、当該回路を構成する積層セラミックコンデンサ(MLCC)の小型化、大容量化が急速に進んでいる。
積層セラミックコンデンサの容量は、当該コンデンサを構成する誘電体層の構成材料の誘電率や誘電体層の積層数に比例し、誘電体層一層あたりの厚みに反比例する。そこで、小型化の要求にもこたえるため、材料の誘電率を高め、かつ誘電体層の厚みを薄くしてその積層数を増加させることが求められる。
しかし、誘電体層を薄層化すると、単位厚み当りにかかる電圧が増し、誘電体層の寿命時間が短くなり、積層セラミックコンデンサの信頼性が低下してしまう。そこで寿命の改善のため、ドナー元素であるMoやWを添加する誘電体組成が提案されている。
また、誘電体層を構成するセラミック粒子中における前記ドナー元素などの添加元素の存在割合の分布も、MLCCの性能に影響する。この点に関して例えば特許文献1には、絶縁破壊電圧の向上を図ることができる誘電体磁器として、結晶粒の粒界から中心までの全域に、Mn,V,Cr,Co,Ni,Fe,Nb,Mo,Ta,W等の添加元素(耐還元性を向上させる成分とされている)がほぼ均一に分布している誘電体磁器が記載されている。
特許文献2には、誘電体層を多層化・薄層化しても絶縁破壊等に起因する寿命の低下がない、小型大容量化が可能な積層セラミックコンデンサとして、セラミック粒子を結晶性のコア部と該コア部を囲繞するシェル部とで構成し、該コア部にMn、V、Cr、Mo、Fe、Ni、Cu、Coなどの添加元素を添加し、かつ、これらの添加元素の濃度が、コア部の中心からシェル部に向かって高くなる構成とした、積層セラミックコンデンサが提案されている。
また、特許文献3には、容量温度特性が良好で、かつ寿命特性に優れた積層セラミックコンデンサを与える誘電体セラミックとして、コア部及びシェル部を備え、副成分として希土類元素R、及びM(MはMg,Mn,Ni,Co,Fe,Cr,Cu,Al,Mo,W及びVからなる群より選ばれる少なくとも一種)を含み、R及びMの合計濃度が、粒界からコア部に向かって勾配を有し、かつ、極小となる部分と極大となる部分とを有していることを特徴とする、チタン酸バリウム系セラミック粒子が記載されている。
特開平10−330160号公報 特開2001−230150号公報 特開2011−256091号公報
しかしながら、これらの文献に記載の発明では誘電体層の厚みが0.8μm以下である場合の寿命特性に改善の余地がある。例えば、ドナー元素であるMoは酸素欠陥を抑制することで寿命特性を向上させると考えられているが、特許文献2のような、Moの濃度がセラミック粒子のコア部の中心からシェル部に向かって高くなる構成では、Mo高濃度領域の体積を大きくとれないため、寿命特性向上効果を十分に得られない。
一方、本発明者らの検討の結果、セラミック粒子の中心を含めてMoなどのドナー元素を十分に含有させた場合には、ドナー元素により供給された電子が電気伝導に寄与しうるものであり、このため、積層セラミックコンデンサの寿命特性は向上するものの、その漏れ電流が大きくなる問題が発生することが明らかとなった。
そこで本発明は、誘電体層厚みが0.8μm以下でも寿命特性に優れ、かつ漏れ電流が抑制された積層セラミックコンデンサを提供することを目的とする。
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討したところ、Nb、Mo、Ta及びWがドナー元素として特に有効であることを見出した。そして漏れ電流の問題については、MgやMnなどのアクセプタ元素を添加して、ドナー元素により供給された電子をトラップして絶縁性を改良し、漏れ電流を抑制することを着想した。
しかし、アクセプタ元素の添加によりセラミック粒子の系の電荷を完全に中和すると、ドナー元素添加による酸素欠陥生成抑制に基づく寿命特性向上効果も消滅させられてしまう。
そこで本発明は、積層セラミックコンデンサの誘電体層を構成するセラミック粒子において、その中心部分と外縁部分においてドナー元素とアクセプタ元素との濃度の比率に差異を持たせ、中心部分ではドナー元素をリッチにすることで、ドナー元素高濃度領域の体積を十分にとって寿命特性を向上し、同時に、外縁部分ではアクセプタ元素をリッチにすることで、外縁部分の電子濃度を下げ、これにより漏れ電流を抑制したものである。
すなわち本発明は、誘電体層と極性の異なる内部電極層とが交互に積層されてなる積層体を備える積層セラミックコンデンサであって、前記誘電体層は、BaTiOを主成分とするセラミック粒子を含み、該セラミック粒子はNb,Mo,Ta及びWからなる群より選ばれる少なくとも一種のドナー元素(D)、並びに、Mg及びMnからなる群より選ばれる少なくとも一種のアクセプタ元素(A)を含み、前記セラミック粒子の中心部分において、ドナー元素(D)の濃度とアクセプタ元素(A)の濃度との比(D/A)が1より大きく、前記セラミック粒子の外縁部分において、D/Aが1未満である(ただし、A=0の場合にはD/A=∞とし、D=A=0であることはない)、積層セラミックコンデンサである。
前記誘電体層中におけるドナー元素(D)の濃度は、積層セラミックコンデンサの寿命特性及び漏れ電流抑制の観点から、BaTiO100molに対して0.05〜0.3molであることが好ましい。
前記誘電体層中におけるアクセプタ元素(A)の濃度は、積層セラミックコンデンサの寿命特性及び漏れ電流抑制の観点から、BaTiO100molに対して0.3molより大きく2.0mol未満であることが好ましい。
前記セラミック粒子の中心部分及び外縁部分に存在するドナー元素(D)の種類は、寿命特性のコントロールの容易性の観点から、同一であることが好ましい。
前記セラミック粒子の平均粒子径は、誘電体層の薄層化の観点から80〜800nmであることが好ましい。
本発明によれば、誘電体層厚みが0.8μm以下でも寿命特性に優れ、かつ漏れ電流が抑制された積層セラミックコンデンサが提供される。
図1は、本発明の一実施形態による、積層セラミックコンデンサの概略の縦断面図である。 図2は、セラミック粒子におけるドナー元素(D)及びアクセプタ元素(A)の濃度を測定する箇所である中心部分(「中央」と表記)及び外縁部分(「端」と表記)を示す模式図である。 図3は、セラミック粒子の外縁部分より中側の部分が、D/Aについてフラットな態様(a)と、D/Aについて勾配を有する態様(b)とを示す図である。
以下、本発明の一実施形態による積層セラミックコンデンサを説明する。図1は、本発明の積層セラミックコンデンサ1の概略縦断面図である。
[積層セラミックコンデンサ]
積層セラミックコンデンサ1は、規格で定められたチップ寸法及び形状(例えば1.0×0.5×0.5mmの直方体)を有するセラミック焼結体10と、セラミック焼結体10の両側に形成される一対の外部電極20とから概ね構成される。セラミック焼結体10は、BaTiOの粒子結晶を主成分とし、内部に誘電体層12と内部電極層13とが交互に積層されてなる積層体11と、積層方向上下の最外層として形成されるカバー層15とを有している。
積層体11は、静電容量や要求される耐圧等の仕様に応じて、2枚の内部電極層13で挟まれる誘電体層12の厚さが0.8μm以下であって、全体の積層数が百〜数百の高密度多層構造を有している。
積層体11の最外層部分に形成されるカバー層15は、誘電体層12及び内部電極層13を外部からの湿気やコンタミ等の汚染から保護し、それらの経時的な劣化を防ぐ。
また、内部電極層13はその端縁が、誘電体層12の長さ方向両端部にある極性の異なる一対の外部電極20に交互に引き出されている。
そして本発明の積層セラミックコンデンサ1の誘電体層12は、BaTiOを主成分とするセラミック粒子を含み、当該セラミック粒子におけるドナー元素(D)及びアクセプタ元素(A)の濃度の比率が、セラミック粒子内の部分において所定の分布を有している。
前記ドナー元素(D)は具体的には、Nb,Mo,Ta及びWである。また前記アクセプタ元素(A)は具体的には、Mg及びMnである。また前記所定の分布とは、前記セラミック粒子の中心部分において、ドナー元素(D)の濃度とアクセプタ元素(A)の濃度との比(D/A)が1より大きく、前記セラミック粒子の外縁部分において、D/Aが1未満であるというように、セラミック粒子の部位によってD/Aが異なることである。なお、A=0の場合にはD/A=∞とし、D=A=0であることはない。
このようにドナー元素(D)とアクセプタ元素(A)との濃度比が、セラミック粒子の中心部分においてドナー元素(D)リッチであり、外縁部分においてアクセプタ元素(A)リッチであることにより、まず中心部分においてはドナー元素(D)による寿命特性向上効果が好適に奏される。そしてセラミック粒子の外縁部分においては、アクセプタ元素(A)によってドナー元素(D)により供給された電子がトラップされて外縁部分の電子濃度が下がり、これにより漏れ電流が抑制される。
本発明はこのようにドナー元素(D)及びアクセプタ元素(A)の濃度比にセラミック粒子内において所定の分布を持たせることによって、それぞれの好ましい特性を主に発揮させ、不良な特性(ドナー元素(D)については漏れ電流の発生であり、アクセプタ元素(A)についてはドナー元素(D)による寿命特性向上の消滅である)は顕在化しないようにしたものである。
なお、図2に示す通り、本発明においてセラミック粒子の中心部分とは、セラミック粒子を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察したとき、その最大直径に沿った、該直径の中点であり、セラミック粒子の外縁部分とは、前記最大直径と粒界の交点からセラミック粒子内部に向かって、最大直径に沿って20nm侵入した部分である。
本発明においては、これらの中心部分及び外縁部分における20nm×20nmの領域について、TEM-EDSによりドナー元素(D)及びアクセプタ元素(A)の濃度を測定し、これらの濃度比D/Aを求める。なお、前記外縁部分について、最大直径と粒界の交点は二つあるため、一つのセラミック粒子について外縁部分は2か所存在するが、本発明においては、これらのうち任意の一つの外縁部分について、ドナー元素(D)及びアクセプタ元素(A)の濃度を測定すればよい。
なお、本発明においては、誘電体層を構成する任意の10個のセラミック粒子について、中心部分及び外縁部分におけるドナー元素(D)及びアクセプタ元素(A)の濃度、並びにD/Aを求める。そして10個のセラミック粒子について得られた、中心部分及び外縁部分におけるD/Aの平均値が本発明で規定する要件を満たせば、それは本発明で規定されるセラミック粒子に該当するものと判断される。
一つの例として、後述する実施例1において得られた、10個のセラミック粒子におけるドナー元素(D)及びアクセプタ元素(A)の濃度、D/A、並びにD/Aの平均値を下記表1に示す。
なお、以上のドナー元素(D)及びアクセプタ元素(A)の濃度の測定は、積層セラミックコンデンサ1から所定の試料を作製し、当該試料においてセラミック粒子を観察することにより行う。試料の作製方法並びにドナー元素(D)及びアクセプタ元素(A)の濃度の測定方法については、実施例でその詳細を説明する。
本発明においては、上述の通りセラミック粒子の中心部分及び外縁部分におけるD/Aの平均値が本発明で規定する要件を満たすことが重要であり、10個のセラミック粒子のうち、単独でみた場合に本発明の要件を満たさない粒子が存在してもよい。
積層セラミックコンデンサ1の寿命特性及び漏れ電流の抑制の観点からは、10個のセラミック粒子のうち、5個以上のセラミック粒子が、単独でみた場合に本発明の要件を満たすことが好ましく、10個すべてのセラミック粒子が、単独でみた場合に本発明の要件を満たすことがより好ましい。
なお、本発明においてはセラミック粒子の中心部分及び外縁部分のドナー元素(D)及びアクセプタ元素(A)の濃度の比率を規定しているが、中心部分と外縁部分の間の部分、つまりセラミック粒子の外縁部分よりは中側の部分については、図3(a)に示されるように、D/Aが中心部分と同じ程度であってもよいし(中側全体でD/Aがフラットな態様)、図3(b)に示されるように、D/Aが、中心部分から外縁部分に近づくにつれて外縁部分のD/Aに近づくように小さくなっていてもよい(中側においてD/Aが勾配を有する態様。外縁部分にも、粒界に近づくほどD/Aが小さくなる勾配が存在してもよい)。
また、誘電体層12中におけるドナー元素(D)の濃度(セラミック粒子1個についてではなく、誘電体層全体におけるドナー元素(D)の濃度)は、本発明の効果を奏する限り特に制限されるものではないが、誘電体層12中におけるBaTiO100molに対して0.05〜0.3molであることが好ましい。0.05mol以上であると、ドナー元素(D)による寿命特性向上効果が好適に奏され、また、0.3mol以下であると、ドナー元素(D)の濃度が過大にならず、漏れ電流をアクセプタ元素(A)により抑制しやすい。なお、誘電体層12中におけるBaTiOに対するドナー元素(D)の濃度は、誘導結合プラズマ(ICP)測定法により測定可能である。BaTiOに対するアクセプタ元素(A)の濃度についても、本方法により測定可能である。
また、ドナー元素(D)としては、積層セラミックコンデンサ1の寿命特性及び漏れ電流抑制の観点から、Moが好ましい。なお、本発明においてはドナー元素(D)を単独で、または任意の組合せで使用することが可能であるが、セラミック粒子の中心部分と外縁部分とで、存在するドナー元素(D)の種類が同一であると、寿命特性のコントロールが容易であるので、好ましい。
さらに、誘電体層12中におけるアクセプタ元素(A)の濃度は、本発明の効果を奏する限り特に制限されるものではないが、誘電体層12中におけるBaTiO100molに対して0.3molより大きく2.0mol未満であることが好ましい。0.3molより大きいと、アクセプタ元素(A)による漏れ電流抑制効果が好適に奏され、2.0mol未満であると、アクセプタ元素(A)の濃度が過大にならず、ドナー元素(D)により好適に寿命特性を向上させることができる。なお、本発明においてはアクセプタ元素(A)は単独で、または組み合わせて使用することができる。
本発明においては、アクセプタ元素(A)はセラミック粒子の外縁部分においてリッチであり、前述の通りドナー元素(D)により供給された電子をトラップして漏れ電流を抑制するという効果を発揮している。さらにアクセプタ元素(A)は、BaTiOに耐還元性を付与し、積層セラミックコンデンサの絶縁抵抗を高めるという効果も併せて発揮する。
本発明の積層セラミックコンデンサ1は、誘電体層12が、以上説明した、ドナー元素(D)及びアクセプタ元素(A)の濃度の比率が、セラミック粒子内の部分において所定の分布を有する、新規なセラミック粒子を含んでいる。
このようなセラミック粒子の平均粒子径は特に制限されるものではないが、誘電体層12の薄層化の観点から、好ましくは80〜800nmである。なお、本明細書において平均粒子径とは、走査型電子顕微鏡(SEM)またはTEMでセラミック粒子を観察し、1つの画像に80粒子程度となるように倍率を調整し、合計で300粒子以上となるように複数枚の写真を得て、写真上の粒子全数について計測したFeret径の平均値である。なお、Feret径とは、粒子を挟む2本の平行接線間の距離で定義される定方向接線径である。
[積層セラミックコンデンサの製造方法]
以下、以上説明した本発明の積層セラミックコンデンサの製造方法について説明する。
まず、誘電体層を形成するための原料粉末を用意する。前記誘電体層は通常、BaTiOを主成分とするセラミック粒子を焼結体の形で含んでいる。
BaTiOはペロブスカイト構造を有する正方晶化合物であって、高い誘電率を示す。このBaTiOは、一般的に、二酸化チタンなどのチタン原料と炭酸バリウムなどのバリウム原料とを反応させることで合成できる。チタン原料の比表面積は、微細なBaTiOの合成の観点から10〜300m/gの範囲にあることが好ましく、バリウム原料の比表面積は、微細なBaTiOの合成の観点から10〜50m/gの範囲にあることが好ましい。
前記BaTiOの合成方法としては従来種々の方法が知られており、例えば固相法、ゾルゲル法、水熱法等が知られている。本発明においては、これらのいずれも採用可能である。
なお、本発明においては誘電体層においてセラミック粒子の中心部分におけるドナー元素(D)とアクセプタ元素(A)の濃度の比率D/Aを1より大きくするために、チタン原料とバリウム原料にドナー元素(D)を含む化合物(例えば酸化物)を混合してBaTiOの合成反応を実施して、予めドナー元素(D)が略均一に固溶したBaTiO粒子とする。BaTiO粒子の合成においては、800〜1000℃程度の温度で仮焼を実施してもよい。また、所望により、BaTiO合成の際に、セラミック粒子の中心部分におけるD/Aが1より大きいという条件を満たす範囲でアクセプタ元素(A)を含む化合物を添加してもよい。
得られたセラミック粉末にアクセプタ元素(A)を含む化合物(例えば酸化物)を添加し、通常の積層セラミックコンデンサの製造工程において焼成して、粒成長させつつBaTiO粒子にアクセプタ元素(A)を取り込ませることで、セラミック粒子の中心部分においてはドナー元素(D)リッチであり、外縁部分においてはアクセプタ元素(A)リッチな分布を有する、本発明におけるセラミック粒子が生成する。
なお、前記セラミック粉末には、目的に応じて所定の添加化合物を添加してもよい。前記添加化合物としては、希土類元素(Y,Dy,Tm,Ho及びEr)の酸化物、並びにY,Sm,Eu,Gd,Tb,Er,Tm,Cr,V,Co,Ni,Li,B,Na、K及びSiの酸化物が挙げられる。このような添加化合物を前記セラミック粉末とともに湿式混合し、乾燥、粉砕する。さらに、所望により、前記セラミック粉末に、セラミック粒子の外縁部分におけるD/Aが1より小さいという条件を満たす範囲でドナー元素(D)を含む化合物を添加してもよい。
また、例えば以上説明した方法により得られ、本発明の積層セラミックコンデンサの製造に用いられるBaTiO粒子の平均粒子径は、誘電体層の薄層化の観点から、好ましくは50〜150nmである。前記平均粒子径の測定方法は、上述の誘電体層におけるセラミック粒子の平均粒子径の測定方法と同様である。
例えば上記のようにして得られたセラミック粉末について、必要に応じて粉砕処理して粒径を調節したり、あるいは分級処理と組み合わせることで粒径を整えてもよい。
そして前記セラミック粉末に、ポリビニルブチラール(PVB)樹脂等のバインダ、エタノール及びトルエン等の有機溶剤並びにフタル酸ジオクチル(DOP)等の可塑剤を加えて湿式混合する。得られたスラリーを使用して、例えばダイコータ法やドクターブレード法により、基材上に厚み1.2μm以下の帯状の誘電体グリーンシートを塗工して乾燥させる。そして、誘電体グリーンシートの表面に、有機バインダを含む金属導電ペーストをスクリーン印刷やグラビア印刷により印刷することで、極性の異なる一対の外部電極に交互に引き出される内部電極層のパターンを配置する。前記金属としては、コストの観点からニッケルが広く採用されている。なお、前記金属導電ペーストには共材として、平均粒子径が50nm以下のチタン酸バリウムを均一に分散させてもよい。
その後、内部電極層パターンが印刷された誘電体グリーンシートを所定の大きさに打ち抜いて、打ち抜かれた前記誘電体グリーンシートを、基材を剥離した状態で、内部電極層13と誘電体層12とが互い違いになるように、かつ内部電極層が誘電体層の長さ方向両端面に端縁が交互に露出して極性の異なる一対の外部電極に交互に引き出されるように、所定層数(例えば5〜500層)だけ積層する。積層した誘電体グリーンシートの上下にカバー層15となるカバーシートを圧着させ、所定チップ寸法(例えば1.0mm×0.5mm)にカットし、その後に外部電極20となるNi導電ペーストを、カットした積層体の両側面に塗布して乾燥させる。これにより、積層セラミックコンデンサ1の成型体が得られる。なお、スパッタリング法によって、積層体の両端面に外部電極を厚膜蒸着してもよい。
このようにして得られた積層セラミックコンデンサの成型体を、250〜500℃のN雰囲気中で脱バインダした後に、還元雰囲気中で1100〜1300℃で10分〜2時間焼成することで、前記誘電体グリーンシートを構成する各化合物が焼結して粒成長する。このようにして、内部に焼結体からなる誘電体層12と内部電極層13とが交互に積層されてなる積層体11と、積層方向上下の最外層として形成されるカバー層15とを有する積層セラミックコンデンサ1が得られる。
なお、本発明においてはさらに、600〜1000℃で再酸化処理を実施してもよい。
また、積層セラミックコンデンサの製造方法に関する他の実施形態としては、外部電極と誘電体層とを別の工程で焼成させてもよい。例えば誘電体層を積層した積層体を焼成した後に、その両端部に導電ペーストを焼き付けて外部電極を形成してもよい。
以下、実施例により本発明をより詳細に説明する。しかしながら、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。
[実施例1]
<積層セラミックコンデンサの作製>
ドナー元素(D)にはMoを用いた。七モリブデン酸六アンモニウム四水和物をイオン交換水に溶解させ、分散剤を添加した水溶液に、BaCO(30m/g)及びTiO(50m/g)をBa/Tiモル比=0.999となるよう加えてスラリーとし、ビーズミルを使用して混合・分散した。なお、当該スラリーにおいて、BaTiOを100molとしたとき、Mo添加量はMoO換算で0.20molとした。前記スラリーを乾燥し水を除去して、900℃で仮焼を行い、SEM写真から求めた平均粒子径が80nmのMo含有BaTiOを合成した。
次に、アクセプタ元素(A)としてMgを使用することとし、前記Mo含有BaTiO100molに対し、Ho=0.5mol、MgO=0.5mol、SiO=1.0molの比率で添加剤を添加し、またBaCOを添加してBa/Tiモル比が1.000となるようにし、溶剤を加えてスラリーとした。そのスラリーにPVBバインダーを加え、PETフィルム上に1.0μmの厚みでグリーンシートを塗工した。
続いて、内部電極としてNi導電ペーストを前記グリーンシート上に印刷し、これを用いて1005形状の10層の積層セラミックコンデンサを作製した。脱バインダー処理を行った後、焼成については、1250℃還元雰囲気で焼成、N雰囲気800℃で再酸化処理を行った。焼成後の誘電体の層厚は0.8μmであった。
<各種特性等の測定>
得られた積層セラミックコンデンサの誘電体層中に含まれるMo量(ドナー元素(D)の総量)は、ICPにて測定し、BaTiO100molとしたとき、MoO換算で0.20molであることを確認し、同様にMg量(アクセプタ元素(A)の総量)はMgO換算で0.50molである事を確認した。
続いて、誘電体セラミック粒子の各部位におけるドナー元素(D)及びアクセプタ元素(A)の濃度を、TEM-EDS(日本電子(株)製TEM JEM-2100F、EDS検出器 日本電子(株)製JED-2300T)により測定した。観察用の試料は、再酸化処理後の積層セラミックコンデンサを機械研磨(内部電極層と直角な面で研磨した)およびイオンミリングによって薄片化して作製し、試料厚みは0.05μmとした。EDS測定の領域は、Ni内部電極で挟まれた誘電体層部分で、図2のように、セラミック粒子の中心部分と外縁部分の2箇所をそれぞれ20nm×20nm範囲で測定した。
17.5keV付近のMoKαピーク面積からMo濃度を求めた。Mo濃度は、予めMo添加量を0.05molから0.50molまで変えたBaTiO焼結体を作製し、ICPによって得られた濃度とTEM-EDSで検出されるMoKαピーク面積との関係から作成された検量線を利用して決定した。Mgその他の元素の濃度についても,同様に検量線法で濃度を決定した。
誘電体層の中で任意に選んだ10個のセラミック粒子について、ドナー元素(D)濃度及びアクセプタ元素(A)濃度を測定した。測定された10個のセラミック粒子それぞれにおける、粒子の中心部分および外縁部分のドナー元素(D)濃度及びアクセプタ元素(A)濃度、並びにD/Aを下記表2に示した。本発明で規定されるD/Aの関係を満たした粒子は10個中10個であった。なお、D/Aの平均値は小数点第2位を四捨五入によって丸めた(以下の実施例及び比較例においても同様である)。
TEM-EDS測定結果は検量線のもつ誤差を考慮し、元素の濃度の最小単位を0.05mol%とし、この最小単位に満たない値は四捨五入によって丸めた(以下の実施例及び比較例においても同様である)。
この最小単位で濃度分布を定義したとき、本サンプルではセラミック粒子の中心部と外縁部でMoの平均濃度は同じ0.20mol%であった。あらかじめMo化合物とBaCOとTiOを混合し反応させた事で、誘電体セラミック粒子において、粒子中心部分及び外縁部分でのMo濃度が均一になったと推察される。
一方Mgは粒子中心部分には殆ど確認されなかったことから、BaTiOの端部に局在化している。この場合、局在化しているが故に外縁部分のMg濃度は配合Mg濃度(Mg総量濃度)より高い濃度となるはずであるが、実際には配合Mg濃度と同程度の値であった。これはセラミック粒子内部に固溶していないMgが粒界部に残されているためと考えられる。
なお、TEM観察から求めたセラミック粒子の平均粒子径は150nmであった。
<積層セラミックコンデンサの評価>
(寿命試験)
続いて、作製した積層セラミックコンデンサの寿命を次の方法で判定した。積層セラミックコンデンサ100個それぞれについて、150℃、20V/μm直流電界下で抵抗値を経時でモニタリングし、抵抗値が2桁以上低下したものを故障と定義し、始めの1個目の故障品が発生するまでの時間を調べ、最大400hまで寿命試験を行った。
400hより前に故障が発生したものについてはその時間を記録した。本試験においては、1個目の故障品が発生するまでの時間が200h以上であるものを合格とする。好ましくは前記時間が300h以上である。
この方法によって実施例1のサンプルを評価したところ、400hまで故障ゼロで合格であった。
(漏れ電流試験)
作製した積層セラミックコンデンサの漏れ電流を次の方法で判定した。積層セラミックコンデンサ10個それぞれに150℃、10V/μmの電流を印加し60秒後の電流値を測定し、その値を漏れ電流と定義し、10個のセラミックコンデンサの漏れ電流の最大値が100nA以下であれば合格とする。好ましくは50nA以下である。
この方法によって実施例1のサンプルを評価したところ、漏れ電流の最大値は30nAであり合格であった。なお電流値は10nAを最小単位としてそれ未満の値は四捨五入によって丸めた。以下の実施例及び比較例についても同様である。
[実施例2〜22及び比較例1〜8]
ドナー元素(D)及びアクセプタ元素(A)の配合量を、下記表3に示すように変更した以外は、実施例1と同様に積層セラミックコンデンサを作製し、実施例1と同様に積層セラミックコンデンサの各種特性等の測定や積層セラミックコンデンサの評価を行った。結果を実施例1のものとあわせて下記表3に示す。なお、表3に示されたD/Aの数値は、10個のセラミック粒子についての平均値である。また、本発明で規定される要件を満たさない部分について下線を引いた。また、寿命試験において400hと表示されているものは、400hの時点で故障品がゼロであったことを示す。
表3より以下のことがわかる。
中心部分にドナー元素(D)もアクセプタ元素(A)も存在しない純粋なBaTiOであるセラミック粒子を使用した比較例1では、セラミック粒子内部にドナー元素(D)が無いので酸素欠陥多く寿命が短い。
中心部分にドナー元素(D)があるがアクセプタ元素(A)リッチである(D/A<1)比較例2では、結果として粒子全体がアクセプタリッチであり、アクセプタ過剰による酸素欠陥量が過剰であり、寿命が短い。
中心部分のD/A=1である比較例3では、ドナー元素(D)の添加効果がアクセプタ元素(A)で中和され、ドナー元素(D)による酸素欠陥抑制効果が奏されず、寿命が短い。
以上の実施例1及び比較例1〜3から、中心部分におけるD/Aが1より大きいことが、寿命特性の向上に必要であることがわかる。
実施例2では、セラミック粒子10個中1個は本発明で規定されるD/Aの範囲から外れた。しかし10個のセラミック粒子についてのD/Aの平均値が本発明で規定される範囲にあったため、優れた寿命及び漏れ電流の抑制が認められた。この結果は必ずしもセラミック粒子の全てが本発明で規定される範囲になくとも、前記範囲に該当する粒子の割合が十分に大きく、かつ平均値として前記範囲を満たしていれば、本発明の効果が奏されることを示唆する。
実施例3及び4より、アクセプタ元素(A)としてMgとMnを複合使用したり、Mnを単独で使用しても、本発明の効果が奏されることがわかる。
比較例4は、BaTiOの合成時にアクセプタ元素(A)であるMnをドナー元素(D)であるMoとともに添加したものであり、外縁部分のアクセプタ元素(A)濃度がゼロ(検出濃度0.05mol%未満)であり、ドナー元素(D)により電子過剰となり、漏れ電流が過大となった。
比較例5は、外縁部分にアクセプタ元素(A)が存在するが、ドナー元素(D)リッチであるため、ドナー元素(D)により電子過剰となり、漏れ電流が過大となった。なお、比較例5のセラミック粒子10個中4個の粒子ではD/Aは本発明で規定される範囲を満たしていたが、10個の平均値としては前記範囲を満たさなかった。この結果は、本発明で規定される範囲を満たす粒子がゼロでなければ効果があるわけではなく、平均値として前記範囲を満たす必要があることを示唆する。
比較例6は、外縁部分におけるD/A=1であり、ドナー元素(D)により供給された電子をアクセプタ元素(A)が十分にトラップすることができず、漏れ電流が大きい結果となった。
以上の比較例4〜6及び実施例1〜4から、外縁部分におけるD/Aが1より小さいことが、漏れ電流を抑制するために必要であることがわかる。
実施例5〜22より、ドナー元素(D)及び/又はアクセプタ元素(A)を複合使用しても、誘電体層におけるドナー元素(D)やアクセプタ元素(A)の総量濃度が、上記で説明した本発明における好ましい範囲を超えていても、セラミック粒子の中心部分と外縁部分とで存在するドナー元素(D)の種類が異なっていても、ドナー元素(D)としてNb,Ta又はWを使用しても、誘電体層の厚みを0.5μmとしても、本発明の効果が奏されることがわかる。
また、実施例7、8及び12より、ドナー元素(D)の誘電体層における総量濃度は、一定の値より低いことが、漏れ電流抑制の点から好ましいことがわかり、実施例11より、アクセプタ元素(A)の誘電体層における総量濃度は、一定の値より低いことが、寿命特性の点から好ましいことがわかる。
さらに、実施例13は、セラミック粒子10個の平均値ではD/Aは本発明で規定される範囲を満たしているが、前記範囲を満たす粒子は4個と少ない。そのためか、寿命特性は実施例の中では低いものとなった。
比較例7は比較例2と類似のセラミック粒子組成で、誘電体層厚みが0.5μmであるものだが、寿命特性が不良であった。
比較例8は比較例5と類似のセラミック粒子組成で、誘電体層厚みが0.5μmであるものだが、漏れ電流が不良であった。
1 積層セラミックコンデンサ
10 セラミック焼結体
11 積層体
12 誘電体層
13 内部電極層
15 カバー層
20 外部電極

Claims (5)

  1. 誘電体層と極性の異なる内部電極層とが交互に積層されてなる積層体を備える積層セラミックコンデンサであって、
    前記誘電体層は、BaTiOを主成分とするセラミック粒子を含み、
    該セラミック粒子はNb,Mo,Ta及びWからなる群より選ばれる少なくとも一種のドナー元素(D)、並びに、Mg及びMnからなる群より選ばれる少なくとも一種のアクセプタ元素(A)を含み、
    前記セラミック粒子の中心部分において、ドナー元素(D)の濃度とアクセプタ元素(A)の濃度との比(D/A)が1より大きく、前記セラミック粒子の外縁部分(ここで、外縁部分は粒界を含まない。)において、D/Aが1未満である(ただし、A=0の場合にはD/A=∞とし、D=A=0であることはない)、
    積層セラミックコンデンサ。
  2. 前記誘電体層中におけるドナー元素(D)の濃度が、BaTiO100molに対して0.05〜0.3molである、請求項1に記載の積層セラミックコンデンサ。
  3. 前記誘電体層中におけるアクセプタ元素(A)の濃度が、BaTiO100molに対して0.3molより大きく2.0mol未満である、請求項1又は2に記載の積層セラミックコンデンサ。
  4. 前記セラミック粒子の中心部分及び外縁部分に存在するドナー元素(D)の種類が同一である、請求項1〜3のいずれかに記載の積層セラミックコンデンサ。
  5. 前記セラミック粒子の平均粒子径が80〜800nmである、請求項1〜4のいずれかに記載の積層セラミックコンデンサ。
JP2015014179A 2015-01-28 2015-01-28 積層セラミックコンデンサ Active JP6415337B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015014179A JP6415337B2 (ja) 2015-01-28 2015-01-28 積層セラミックコンデンサ
KR1020150142070A KR101730813B1 (ko) 2015-01-28 2015-10-12 적층 세라믹 콘덴서
TW104137079A TWI586528B (zh) 2015-01-28 2015-11-10 Laminated ceramic capacitors
CN201610028979.2A CN105826074B (zh) 2015-01-28 2016-01-15 层叠陶瓷电容器
US15/002,324 US9666371B2 (en) 2015-01-28 2016-01-20 Multilayer ceramic capacitor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015014179A JP6415337B2 (ja) 2015-01-28 2015-01-28 積層セラミックコンデンサ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016139720A JP2016139720A (ja) 2016-08-04
JP6415337B2 true JP6415337B2 (ja) 2018-10-31

Family

ID=56433828

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015014179A Active JP6415337B2 (ja) 2015-01-28 2015-01-28 積層セラミックコンデンサ

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9666371B2 (ja)
JP (1) JP6415337B2 (ja)
KR (1) KR101730813B1 (ja)
CN (1) CN105826074B (ja)
TW (1) TWI586528B (ja)

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6226078B2 (ja) * 2014-08-04 2017-11-08 株式会社村田製作所 積層セラミックコンデンサ
KR101701049B1 (ko) * 2015-08-07 2017-01-31 삼성전기주식회사 적층 세라믹 전자부품 및 적층 세라믹 전자부품의 제조방법
US9919970B2 (en) * 2015-12-01 2018-03-20 Taiyo Yuden Co., Ltd. Dielectric material for multilayer ceramic capacitor, and multilayer ceramic capacitor
JP6571048B2 (ja) 2016-06-24 2019-09-04 太陽誘電株式会社 積層セラミックコンデンサ、セラミック粉末、およびそれらの製造方法
JP6933461B2 (ja) * 2016-12-21 2021-09-08 太陽誘電株式会社 積層セラミックコンデンサおよびその製造方法
JP6795422B2 (ja) * 2017-02-16 2020-12-02 太陽誘電株式会社 積層セラミックコンデンサおよびその製造方法
JP6909011B2 (ja) * 2017-02-21 2021-07-28 太陽誘電株式会社 積層セラミックコンデンサ
TWI814730B (zh) 2017-07-19 2023-09-11 日商太陽誘電股份有限公司 積層陶瓷電容器及其製造方法
KR102483896B1 (ko) 2017-12-19 2022-12-30 삼성전자주식회사 세라믹 유전체 및 그 제조 방법, 세라믹 전자 부품 및 전자장치
JP7098340B2 (ja) 2018-01-26 2022-07-11 太陽誘電株式会社 積層セラミックコンデンサおよびその製造方法
US10957485B2 (en) 2018-03-06 2021-03-23 Taiyo Yuden Co., Ltd. Multilayer ceramic capacitor and ceramic material powder
JP7338963B2 (ja) 2018-03-06 2023-09-05 太陽誘電株式会社 積層セラミックコンデンサおよびセラミック原料粉末
KR102585981B1 (ko) * 2018-03-28 2023-10-05 삼성전자주식회사 유전체, 및 이를 포함하는 적층형 커패시터, 및 전자 소자
JP7424740B2 (ja) 2018-05-18 2024-01-30 太陽誘電株式会社 積層セラミックコンデンサおよびその製造方法
JP7089402B2 (ja) * 2018-05-18 2022-06-22 太陽誘電株式会社 積層セラミックコンデンサおよびその製造方法
JP7145652B2 (ja) * 2018-06-01 2022-10-03 太陽誘電株式会社 積層セラミックコンデンサおよびその製造方法
JP7446705B2 (ja) * 2018-06-12 2024-03-11 太陽誘電株式会社 積層セラミックコンデンサおよびその製造方法
JP7476477B2 (ja) * 2018-12-12 2024-05-01 太陽誘電株式会社 セラミック原料粉末、積層セラミックコンデンサ、および積層セラミックコンデンサの製造方法
US11424075B2 (en) 2019-06-28 2022-08-23 Murata Manufacturing Co., Ltd. Multilayer electronic component and method for manufacturing multilayer electronic component
KR102516762B1 (ko) * 2019-06-28 2023-03-31 삼성전기주식회사 유전체 조성물 및 이를 포함하는 적층형 전자 부품
KR102603410B1 (ko) 2019-06-28 2023-11-17 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 적층형 전자부품 및 적층형 전자부품의 제조 방법
KR102225451B1 (ko) * 2019-06-28 2021-03-09 삼성전기주식회사 유전체 조성물 및 이를 포함하는 적층형 전자 부품
KR102523255B1 (ko) * 2019-06-28 2023-04-19 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 적층형 전자부품
CN111908913B (zh) * 2020-08-12 2021-04-23 苏州鱼得水电气科技有限公司 一种耐高腐蚀的复合压电陶瓷材料及其制备方法
JP2022068830A (ja) * 2020-10-22 2022-05-10 サムソン エレクトロ-メカニックス カンパニーリミテッド. セラミック電子部品
KR20220092246A (ko) * 2020-12-24 2022-07-01 삼성전기주식회사 적층형 전자 부품
KR102561942B1 (ko) * 2021-03-03 2023-08-01 삼성전기주식회사 유전체 조성물 및 이를 포함하는 적층형 전자 부품

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2787746B2 (ja) * 1992-03-27 1998-08-20 ティーディーケイ株式会社 積層型セラミックチップコンデンサ
JP3134024B2 (ja) * 1993-03-22 2001-02-13 ティーディーケイ株式会社 積層型セラミックチップコンデンサ
JP3418091B2 (ja) 1997-05-30 2003-06-16 太陽誘電株式会社 誘電体磁器及びその製造方法
US6627570B2 (en) * 2000-02-09 2003-09-30 Tdk Corporation Dielectric ceramic composition, electronic device, and method of producing the same
JP3838845B2 (ja) * 2000-02-16 2006-10-25 太陽誘電株式会社 積層セラミックコンデンサ
JP2001230148A (ja) * 2000-02-16 2001-08-24 Taiyo Yuden Co Ltd 積層セラミックコンデンサとその製造方法
JP4326102B2 (ja) * 2000-02-16 2009-09-02 太陽誘電株式会社 積層セラミックコンデンサの製造方法
JP2001240466A (ja) * 2000-02-28 2001-09-04 Taiyo Yuden Co Ltd 誘電体磁器と積層セラミック電子部品
MY124934A (en) * 2000-06-30 2006-07-31 Taiyo Yuden Kk Dielectric ceramic composition and ceramic capacitor
DE112006000710B4 (de) * 2005-03-25 2014-05-28 Kyocera Corp. Mehrschicht-Keramikkondensator und Verfahren zu dessen Herstellung
CN101346325B (zh) * 2006-05-31 2013-02-06 株式会社村田制作所 半导体陶瓷、层叠型半导体陶瓷电容器、半导体陶瓷的制造方法、层叠型的半导体陶瓷电容器的制造方法
JP5025210B2 (ja) * 2006-09-27 2012-09-12 京セラ株式会社 誘電体原料粉末の製法
JP4967964B2 (ja) * 2007-09-28 2012-07-04 Tdk株式会社 誘電体磁器組成物および積層型電子部品
JP2011256091A (ja) 2010-06-11 2011-12-22 Murata Mfg Co Ltd 誘電体セラミックおよびそれを用いた積層セラミックコンデンサ
US9287046B2 (en) * 2012-03-30 2016-03-15 Taiyo Yuden Co., Ltd. Multi-layer ceramic capacitor
JP5655039B2 (ja) * 2012-07-31 2015-01-14 太陽誘電株式会社 誘電体セラミックス、積層セラミックコンデンサ及びそれらの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW201630730A (zh) 2016-09-01
JP2016139720A (ja) 2016-08-04
TWI586528B (zh) 2017-06-11
US20160217924A1 (en) 2016-07-28
CN105826074A (zh) 2016-08-03
CN105826074B (zh) 2018-11-16
KR101730813B1 (ko) 2017-04-27
KR20160092906A (ko) 2016-08-05
US9666371B2 (en) 2017-05-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6415337B2 (ja) 積層セラミックコンデンサ
KR101752196B1 (ko) 적층 세라믹 콘덴서
JP4626892B2 (ja) 誘電体セラミック、及び積層セラミックコンデンサ
TWI586625B (zh) Laminated ceramic capacitors
JP5246185B2 (ja) 誘電体セラミック、及び積層セラミックコンデンサ
JP6378651B2 (ja) 積層セラミックコンデンサ
JP5211262B1 (ja) 積層セラミックコンデンサ
JP5655036B2 (ja) 誘電体セラミックス、誘電体セラミックスの製造方法及び積層セラミックコンデンサ
JP2004224653A (ja) 誘電体セラミックおよびその製造方法ならびに積層セラミックコンデンサ
KR20130122781A (ko) 유전체 세라믹 및 적층 세라믹 콘덴서
JP4697582B2 (ja) 誘電体セラミック及び誘電体セラミックの製造方法、並びに積層セラミックコンデンサ
JP4552419B2 (ja) 誘電体セラミックおよび積層セラミックコンデンサ
JP5094283B2 (ja) 誘電体磁器および積層セラミックコンデンサ
JP6329236B2 (ja) 積層セラミックコンデンサ用誘電体材料および積層セラミックコンデンサ
JP2021015877A (ja) セラミック電子部品およびその製造方法
JP2010232258A (ja) 積層セラミックコンデンサ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170214

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180130

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180227

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180417

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180925

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20181002

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6415337

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250