JP6369620B1 - はんだ合金 - Google Patents
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Abstract
Description
(1)質量%で、Cu:0.8〜10%、残部Snからなる合金組成を有するとともに金属間化合物を有するはんだ合金であって、前記はんだ合金の表面からの厚さが50μm以上の領域において、金属間化合物の最大結晶粒径が100μm以下であることを特徴とするはんだ合金。
(3)金属間化合物は、主として(Cu、Ni)6Sn5である、上記(2)に記載のはんだ合金。
(4)合金組成は、更に、質量%で、P:0.3%以下、Ge:0.3%以下、およびGa:0.3%以下の少なくとも1種を含有する、上記(1)〜(3)のいずれか1項に記載のはんだ合金。
(5)合金組成は、更に、Bi、In、Sb、Zn、およびAgの少なくとも1種を合計で5%以下からなる群、ならびにMn、Cr、Co、Fe、Si、Al、Ti、および希土類元素の少なくとも1種を合計で1%以下からなる群、の少なくとも1群から選択される少なくとも1種を含有する、上記(1)〜(4)のいずれか1項に記載のはんだ合金。
最大結晶粒径(μm)×はんだ合金に占める金属間化合物の面積率(%)≦3000(μm・%) ・・・(1)
1.はんだ合金の合金組成
(1)Cu:0.8〜10%
本発明のはんだ合金は、粗大なCuSn金属間化合物が生成されやすい過共晶合金の場合における課題を解決することができる。Cu含有量が0.7%未満の場合には亜共晶となるために凝固時の初晶はSnであるが、Cu含有量が0.7%を超える場合には過共晶なるため凝固時の初晶はSnCu化合物となる。初晶がSnCu化合物の場合に、溶融はんだの鋳型内での流動性が劣化する。ただ、Cu含有量が0.7%をわずかに上回る程度では製造条件によらず鋳造時での金属間化合物の影響はほとんどない。Cu含有量が多いほど本発明の効果が発揮され易くなるため、Cu含有量の下限は0.8%以上であり、好ましくは1.0%以上であり、より好ましくは4.0%以上である。
Niは、SnCu金属間化合物の結晶粒径を制御することができる任意元素である。Sn−Cuはんだ合金がNiを含有すると、NiがCu6Sn5中に均一に分散して金属間化合物の粒径を微細にし、連続鋳造物の破損を抑制することができる。Ni含有量が0.4%以下であると、液相線温度の上昇が許容範囲内となるために良好な作業性を保つことができる。Ni含有量の上限は、好ましくは0.2%以下であり、より好ましくは0.15%である。一方、Niを含有する効果を発揮させるため、Ni含有量の下限は好ましくは0.03%以上であり、より好ましくは0.1%以上である。
これらの元素は、はんだ合金の酸化を抑制するとともに溶融はんだの流動性を向上させることができる任意元素である。含有量の上限が0.3%以下であると、液相線温度の上昇を抑えることができるため、凝固までの時間が短縮して合金組織の粗大化を抑制することができる。P含有量の上限は、好ましくは0.3%以下であり、より好ましくは0.1%以下であり、さらに好ましくは0.025%以下である。Ge含有量およびGa含有量の上限は、各々、好ましくは0.3%以下であり、より好ましくは0.15%以下である。一方、これらの元素を含有する効果を発揮させるため、各元素の含有量の下限は好ましくは0.005%以上であり、より好ましくは0.01%以上である。
これらの元素は、Bi、In、Sb、Zn、およびAgの少なくとも1種では合計で5%以下、Mn、Cr、Co、Fe、Si、Al、Ti、および希土類元素の少なくとも1種では合計で1%以下、であれば、本発明に係るはんだ合金の連続鋳造性に影響を及ぼすことがない。本発明において希土類元素とは、周期律表において第3族に属するSc、Yと原子番号57〜71に該当するランタン族の15個の元素を合わせた17種の元素のことである。
本発明に係るはんだ合金の残部はSnである。前述の元素の他に不可避的不純物を含有してもよい。不可避的不純物を含有する場合であっても、前述の効果に影響することはない。また、後述するように、本発明では含有しない元素が不可避的不純物として含有されても前述の効果に影響することはない。
本発明に係るはんだ合金は、はんだ合金の表面からの厚さが50μm以上の領域において、金属間化合物の最大結晶粒径が100μm以下である。
これに対し、本発明では、Sn−Cuはんだ合金に関して、はんだ接合前の連続鋳造により製造した連続鋳造物であるはんだ合金の合金組織に敢えて着目することによって、初めて連続鋳造時の課題を解決できたのである。
最大結晶粒径が小さいほど連続鋳造性に優れることから、最大結晶粒径の上限は100μm以下であり、好ましくは80μm以下であり、特に好ましくは50μm以下である。
また、本発明では、脆い金属間化合物の存在量を低減して破損を抑制する観点から、はんだ合金に占める金属間化合物の面積率は40%以下であることが好ましい。
最大結晶粒径(μm)×はんだ合金に占める金属間化合物の面積率(%)≦3000(μm・%) ・・・(1)
「はんだ合金に占める金属間化合物の面積率」とは、はんだ合金を切断した切断面の面積と、その切断面に存在する金属間化合物の面積との比率(%)を表す。上記(1)式の右辺は、より好ましくは2500μm・%であり、さらに好ましくは1500μm・%である。
はんだ継手は、例えば、半導体パッケージにおけるICチップとその基板(インターポーザ)との接続、或いは半導体パッケージとプリント配線板との接続に使用される。ここで、「はんだ継手」とは電極の接続部をいう。
本発明に係るはんだ合金の製造方法は、例えば、連続鋳造法にて製造される。連続鋳造法は、まず、所定の合金組成となるように原材料を溶融炉に投入し350〜500℃程度に加熱して原材料を溶融する。
回転鋳型は、例えば環状板の幅方向中央部に溝が設けられた形状である。溶融はんだを鋳込む際には、回転鋳型を回転させながら溶融はんだが鋳型の溝に鋳込まれる。鋳型への溶融はんだの供給量は、鋳型の回転数および鋳型内の溶融はんだに印加される超音波等の微振動の周波数に応じて適宜調整する。例えば、超音波を印加する場合には、超音波振動装置を回転鋳型の側面に付設して行う。本発明において、溶融はんだに印加される超音波の周波数は特に限定されないが、例えば10kHz以上であればよい。
本発明の効果を立証するため、下記により棒はんだを作製して評価した。溶融炉に原材料を秤量し、溶融炉の設定温度を450℃として溶融した後、水を循環させた回転鋳型の溝に溶融はんだを鋳込んだ。冷却速度は概ね30℃/sであった。そして、回転鋳型に超音波発振器を付設し、溶融はんだを鋳込む際に60kHzの超音波を印加した。
その後、回転鋳型からガイドにより連続鋳造物を回転鋳型の外部に誘導した。そして、適当な長さに切断し、幅:10mm、長さ:300mmの棒はんだを含めて計10m分の棒はんだを作製した。以下に評価方法を説明する。
(2−1)金属間化合物(IMC)の面積率
作製した棒はんだの長手方向の中心部を切断し、走査型電子顕微鏡SEM(倍率:250倍)を用いて組成像の画像を撮影した。得られた画像を解析して金属間化合物を同定した。金属間化合物は濃い灰色を呈するため、その色調から金属間化合物を判断した。濃い灰色を呈する金属間化合物の面積の画像領域に占める割合を面積率として導出した。面積率が20%以下を「◎」とし、20%超え40%以下を「○」として、40%超えを「×」とした。「◎」および「○」であれば実用上問題ない。本評価では、250倍で撮影した画像領域の面積をはんだ合金の断面積であると想定し、濃い灰色部分の総面積を断面における全金属間化合物の面積であると想定することができる。
得られた画像から同定された金属間化合物の中で、目視にて最大の結晶粒を選択する。その結晶粒について、間隔が最大となるように平行な2本の接線を引き、その間隔を最大結晶粒径とした。最大結晶粒径が100μm以下を「○」とし、100μm超えを「×」とした。
上記(2−1)および(2−2)から得られた結果を乗じた値が3000(μm・%)以下を「○」とし、3000(μm・%)超えを「×」とした。
棒はんだの破損は、凝固後から切断までの棒はんだを目視にて確認した。棒はんだに欠け、破損、崩れ等が発生していなければ「○」とし、少しでも欠け、破損、崩れ等が発生していれば「×」とした。
以下に評価結果を示す。
Claims (6)
- 質量%で、Cu:0.8〜10%、残部Snからなる合金組成を有するとともに金属間化合物を有するはんだ合金であって、前記はんだ合金の表面からの厚さが50μm以上の領域において、前記金属間化合物の最大結晶粒径が100μm以下であることを特徴とするはんだ合金。
- 前記合金組成は、更に、質量%で、Ni:0.4%以下を含有する、請求項1に記載のはんだ合金。
- 前記金属間化合物は、主として(Cu、Ni)6Sn5である、請求項2に記載のはんだ合金。
- 前記合金組成は、更に、質量%で、P:0.3%以下、Ge:0.3%以下、およびGa:0.3%以下の少なくとも1種を含有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載のはんだ合金。
- 前記合金組成は、更に、Bi、In、Sb、Zn、およびAgの少なくとも1種を合計で5%以下からなる群、ならびにMn、Cr、Co、Fe、Si、Al、Ti、および希土類元素の少なくとも1種を合計で1%以下からなる群、の少なくとも1群から選択される少なくとも1種を含有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載のはんだ合金。
- 下記(1)式を満たす、請求項1〜5のいずれか1項に記載のはんだ合金。
前記最大結晶粒径(μm)×前記はんだ合金に占める前記金属間化合物の面積率(%)≦3000(μm・%) ・・・(1)
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