JP6304271B2 - 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置 - Google Patents
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これらの要求に対応するために、これまで、主材となるエポキシ樹脂側から様々な検討がされているが、エポキシ樹脂側の改良だけでは、低吸湿化に伴う耐熱性の低下、密着性の向上に伴う硬化性の低下等が生じ、物性のバランスをとることが困難であった。従って、前記背景から種々のエポキシ樹脂改質剤が検討されており、その中の1例として素子リードフレーム等のインサートとの密着力向上に注目して、シランカップリング剤が検討されている。具体的には、エポキシ基含有シランカップリング剤又はアミノ基含有シランカップリング剤(例えば、特許文献1参照)、さらなる密着性向上を目的とした硫黄原子含有シランカップリング剤(例えば、特許文献2参照)がある。
特定構造のアミノ基含有シラン化合物と、エポキシ基含有シラン化合物とを含むことで、耐リフロー性及び成形性に優れる。
本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料は、(E1)アリールアミノ基含有アルコキシシラン化合物を含有する。
一般に、(E2)エポキシ基含有アルコキシシラン化合物は、アミノ基によって反応してしまうことから、エポキシ基含有アルコキシシラン化合物にアミノ基含有化合物を併用することは考え難い。しかしながら、本発明において、(E1)アリールアミノ基含有アルコキシシラン化合物を用いると、(E2)エポキシ基含有アルコキシシラン化合物と混合した場合であっても、その混合物の保存安定性の低下が抑えられ、混合物の粘度の上昇やゲル化が抑制される。そして、(E1)アリールアミノ基含有アルコキシシラン化合物、及び(E2)エポキシ基含有アルコキシシラン化合物のそれぞれの機能が発揮され、耐リフロー性及び成形性に優れる封止用エポキシ樹脂成形材料となる。
これら(E1)アリールアミノ基含有アルコキシシラン化合物は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料は、(E2)エポキシ基含有アルコキシシラン化合物を含有する。
本発明における、エポキシ基含有アルコキシシラン化合物は、エポキシ基を有するアルコキシシラン化合物であれば、その構造は特に制限されない。例えば、本発明で用いられる(E2)エポキシ基含有アルコキシシラン化合物は、下記一般式(II)および(III)で示される化合物の少なくとも1種であることが好ましい。
これら(E2)エポキシ基含有アルコキシシラン化合物は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。2種以上の(E2)エポキシ基含有アルコキシシラン化合物を用いる場合、上記一般式(II)で示される化合物のみ又は上記一般式(III)で示される化合物のみであってもよく、または上記一般式(II)で示される化合物及び上記一般式(III)で示される化合物を併用してもよい。
更にこの範囲の中でも、E1含有率が高いほど、吸水率が低減するとともに難燃性に優れる傾向にある。またE1含有率が10質量%以上80質量%以下であると、耐リフロー性、成形性及び難燃性を同時にかつ十分に向上することができる。
更にこの範囲の中でも、「E1+E2含有率」が高いほど流動性に優れる傾向にある。
本発明において用いられるエポキシ樹脂は、封止用エポキシ樹脂成形材料に一般的に使用されているものであれば、特に制限はない。中でも1分子中にエポキシ基を2個以上含有するものであることが好ましい。具体的には、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン骨格を有するエポキシ樹脂をはじめとするフェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のフェノール類及びα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類からなる群より選ばれる少なくとも1種と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したノボラック型エポキシ樹脂;アルキル置換、芳香環置換又は非置換のビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ビフェノール、チオジフェノール等のジグリシジルエーテルであるエポキシ樹脂;スチルベン型エポキシ樹脂;ハイドロキノン型エポキシ樹脂;フタル酸、ダイマー酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂;ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエンとフェノール類の共縮合樹脂をエポキシ化したジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;ナフタレン環を有するエポキシ樹脂;フェノール類及びナフトール類の少なくとも1種とジメトキシパラキシレン又はビス(メトキシメチル)ビフェニルから合成されるフェノール・アラルキル樹脂;ナフトール・アラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂のエポキシ化物;トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂;テルペン変性エポキシ樹脂;オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂;脂環族エポキシ樹脂などが挙げられる。これらは1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
一般式(IV)中のR1〜R8として具体的には、水素原子;メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert−ブチル基等の炭素数1〜10のアルキル基;ビニル基、アリル基、ブテニル基等の炭素数1〜10のアルケニル基;メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1〜10のアルコキシ基;などが挙げられる。なかでも水素原子又はメチル基が好ましい。
そのようなエポキシ樹脂としては市販品として三菱化学社製商品名YX−4000、YL−6121Hとして入手可能である。
一般式(V)中のR1〜R8として具体的には、水素原子;メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert−ブチル基等の炭素数1〜10のアルキル基;ビニル基、アリル基、ブテニル基等の炭素数1〜10のアルケニル基;メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1〜10アルコキシ基;などが挙げられる。なかでも水素原子、メチル基又はtert−ブチル基が好ましい。
一般式(VI)中のR1〜R8として具体的には、水素原子;メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert−ブチル基等の炭素数1〜10のアルキル基;ビニル基、アリル基、ブテニル基等の炭素数1〜10のアルケニル基;メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1〜10のアルコキシ基;などが挙げられる。なかでも水素原子又はメチル基が好ましい。
なかでも、前記一般式(VII)中のRとしては、水素原子;メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数1〜10のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜10のアルコキシ基;が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。
nは0〜3の整数が好ましい。
また一般式(X)中のnとしては平均で6以下がより好ましい。
そのようなエポキシ樹脂としては、市販品として日本化薬株式会社製商品名NC−3000Sとして入手可能である。
nは0又は1〜10の整数を示し、平均で6以下がより好ましい。
また前記エポキシ樹脂の軟化点又は融点は特に制限されない。なかでも成形性、耐リフロー性の観点から、40℃〜180℃であることが好ましく、封止用エポキシ樹脂成型材料作製時における取扱い性の観点からは50℃〜130℃であることがより好ましい。
前記封止用エポキシ樹脂成形材料は、硬化剤の少なくとも1種を含む。前記硬化剤は、封止用エポキシ樹脂成形材料に一般に使用されているものであれば特に制限はない。たとえば、フェノール、クレゾール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、チオジフェノール、アミノフェノール等のフェノール類及びα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類からなる群より選択される少なくとも1種と、ホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂;フェノール類及びナフトール類からなる群より選択される少なくとも1種と、ジメトキシパラキシレン又はビス(メトキシメチル)ビフェニルとから合成されるフェノール・アラルキル樹脂;ナフトール・アラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂;フェノール・ノボラック構造とフェノール・アラルキル構造とがランダム、ブロック又は交互に繰り返された共重合型フェノール・アラルキル樹脂;パラキシリレン変性フェノール樹脂;メタキシリレン変性フェノール樹脂;メラミン変性フェノール樹脂;テルペン変性フェノール樹脂;ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂;シクロペンタジエン変性フェノール樹脂;多環芳香環変性フェノール樹脂が挙げられる。これらは1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
下記一般式(XXXVI)及び一般式(XXXVII)中、nは0〜10の整数を示し、平均で6以下が好ましい。
前記重合物の軟化点が60℃以上であると、成形時の染み出しが抑制され成形性が向上する傾向にある。また150℃以下であると、エポキシ樹脂及び硬化剤との相溶性が向上する傾向にある。
これら脂肪族オレフィンの使用量は、フェノール・アラルキル樹脂及びナフトール・アラルキル樹脂との予備混合に供される重合モノマー全量中20質量%以下が好ましく、9質量%以下がより好ましい。
前記の方法により予備混合物(アセナフチレン変性硬化剤)が、製造される。溶融混合は、硬化剤及びアセナフチレンの少なくとも一方の軟化点以上の温度であれば制限はない。中でも100℃〜250℃が好ましく、120℃〜200℃がより好ましい。また、溶融混合は両者が均一に混合すれば混合時間に制限はないが、中でも1時間〜20時間が好ましく、2時間〜15時間がより好ましい。硬化剤とアセナフチレンを予備混合する場合、混合中にアセナフチレンが重合もしくは硬化剤と反応しても構わない。
R1が水素原子であり、mが0である前記ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂としてはDPP(新日本石油化学株式会社製商品名)等が市販品として入手可能である。
またnの平均値は0〜8であることが好ましい。
上記一般式(XXXXII)で示されるノボラック型フェノール樹脂としては、明和化成株式会社製商品名:H−4が市販品として入手可能である。
また前記硬化剤の軟化点又は融点は特に制限されない。なかでも成形性と耐リフロー性の観点から、40℃〜180℃であることが好ましく、封止用エポキシ樹脂成型材料作製時における取扱い性の観点からは50℃〜130℃であることがより好ましい。
前記封止用エポキシ樹脂成形材料は硬化促進剤の少なくとも1種を含む。硬化促進剤としては、封止用エポキシ樹脂成形材料で一般に使用されているものであれば特に限定はない。例えば、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5、5,6−ジブチルアミノ−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7等のシクロアミジン化合物;これらのシクロアミジン化合物に無水マレイン酸、1,4−ベンゾキノン、2,5−トルキノン、1,4−ナフトキノン、2,3−ジメチルベンゾキノン、2,6−ジメチルベンゾキノン、2,3−ジメトキシ−5−メチル−1,4−ベンゾキノン、2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノン、フェニル−1,4−ベンゾキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物;ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の第三級アミン化合物;これらの第三級アミン化合物の誘導体、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール等のイミダゾール化合物;これらのイミダゾール化合物の誘導体、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス(4−メチルフェニル)ホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン等の有機ホスフィン化合物;これらの有機ホスフィン化合物に無水マレイン酸、上記キノン化合物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有するリン化合物;テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムエチルトリフェニルボレート、テトラブチルホスホニウムテトラブチルボレート等のテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート;2−エチル−4−メチルイミダゾール・テトラフェニルボレート、N−メチルモルホリン・テトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩;これらのテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート及びテトラフェニルボロン塩の誘導体などが挙げられる。これらは1種を単独で用いても2種以上組み合わせて用いてもよい。
これらの特定硬化促進剤の含有率は、硬化促進剤全量中に、合わせて60質量%以上とすることが好ましく、80質量%以上がより好ましい。
前記封止用エポキシ樹脂成形材料は無機充てん剤の少なくとも1種を含む。前記無機充てん剤を含むことで、吸湿性抑制、線膨張係数低減、熱伝導性向上及び強度向上がより効果的に達成される。前記無機充てん剤は、封止用エポキシ樹脂成形材料に一般に使用されているものであれば特に制限されるものではない。例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、チタン酸カリウム、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア等の粉体、又はこれらを球形化したビーズ、ガラス繊維が挙げられる。これらは1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。なかでも、線膨張係数低減の観点からは溶融シリカが好ましい。また高熱伝導性の観点からはアルミナが好ましい。一方、無機充てん剤形状は、成形時の流動性及び金型摩耗性の点から球形が好ましい。
前記無機充てん剤としては、特にコストと性能のバランスの観点からは球状溶融シリカが好ましい。
また前記無機充てん剤の比表面積は特に制限されない。なかでも成形性と強度の観点から、0.5m2/g〜12m2/gであることが好ましく、1m2/g〜5m2/gであることがより好ましい。なお、無機充てん剤の比表面積は、JIS Z 8830に準じて77Kでの窒素吸着能から測定される。
前記封止用エポキシ樹脂成形材料は、成形材料中の樹脂成分と無機成分との接着性の向上等の観点から、必要に応じて、前記(E1)アリールアミノ基含有アルコキシシラン化合物及び(E2)エポキシ基含有アルコキシシラン化合物以外のその他のシラン化合物を含むことができる。その他のシラン化合物としては、メルカプトシラン、アミノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン等の各種シラン系化合物を挙げることができる。なお、その他のシラン化合物からは、(E1)アリールアミノ基含有アルコキシシラン化合物及び(E2)エポキシ基含有アルコキシシラン化合物と重複するシラン系化合物は除かれる。
また前記封止用エポキシ樹脂成形材料がシラン化合物以外のカップリング剤を含有する場合、その全含有率は、成形性及び接着性の観点から、封止用エポキシ樹脂成形材料中0.06質量%〜2質量%が好ましく、0.1質量%〜0.75質量%がより好ましく、0.2質量%〜0.7質量%がさらに好ましい全含有率が0.06質量%以上であると、接着性がより向上する傾向がある。また2質量%以下であると、ボイド等の成形不良の発生を抑制できる傾向がある。
式(XXXXIII)中、0<X≦0.5を満たす数であり、mは正の数を示す。
酸化型又は非酸化型のポリオレフィンとしては、ヘキスト株式会社製商品名H4やPE、PEDシリーズ等の数平均分子量が500〜10000程度の低分子量ポリエチレンなどが挙げられる。
式(XXXXIV)において、M1及びM2は互いに異なる金属元素を示し、a、b、c、d、p、q及びmは正の数を示す。
なお、金属元素の分類は、典型元素をA亜族、遷移元素をB亜族とする長周期型の周期律表(出典:共立出版株式会社発行「化学大辞典4」1987年2月15日縮刷版第30刷)に基づいて行った。
本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料は、各種成分を均一に分散混合できるのであれば、いかなる手法を用いても調製できる。一般的な手法として、所定の配合量の成分をミキサー等によって十分混合した後、ミキシングロール、押出機等によって溶融混練した後、冷却、粉砕する方法を挙げることができる。たとえば、上述した成分の所定量を均一に撹拌、混合し、予め70℃〜140℃に加熱してあるニーダー、ロール、エクストルーダーなどで混練、冷却し、粉砕するなどの方法で得ることができる。成形条件に合うような寸法及び質量でタブレット化すると使いやすい。
本発明の電子部品装置は、前記封止用エポキシ樹脂成形材料により封止した素子を備え、必要に応じてその他の構成要素を含んで構成される。
前記封止用エポキシ樹脂成形材料により封止した素子を備えた電子部品装置としては具体的には、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部材に、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子等の素子を搭載し、必要な部分を前記封止用エポキシ樹脂成形材料で封止した、電子部品装置などが挙げられる。このような電子部品装置としては、たとえば、リードフレーム上に半導体素子を固定し、ボンディングパッド等の素子の端子部とリード部をワイヤボンディングやバンプで接続した後、前記封止用エポキシ樹脂成形材料を用いてトランスファ成形等により封止してなる、DIP(Dual Inline Package)、PLCC(Plastic Leaded Chip Carrier)、QFP(Quad Flat Package)、SOP(Small Outline Package)、SOJ(Small Outline J-lead package)、TSOP(Thin Small Outline Package)、TQFP(Thin Quad Flat Package)等の一般的な樹脂封止型IC、テープキャリアにバンプで接続した半導体チップを、前記封止用エポキシ樹脂成形材料で封止したTCP(Tape Carrier Package)、配線板やガラス上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子及び/又はコンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子を、前記封止用エポキシ樹脂成形材料で封止したCOB(Chip On Board)モジュール、ハイブリッドIC、マルチチップモジュール、裏面に配線板接続用の端子を形成した有機基板の表面に素子を搭載し、バンプ又はワイヤボンディングにより素子と有機基板に形成された配線を接続した後、前記封止用エポキシ樹脂成形材料で素子を封止したBGA(Ball Grid Array)、CSP(Chip Size Package)などが挙げられる。また、プリント回路板にも前記封止用エポキシ樹脂成形材料は有効に使用できる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
(実施例1〜24、比較例1〜14)
以下の成分をそれぞれ下記表1〜表6に示す質量部で配合し、混練温度80℃、混練時間10分の条件でロール混練を行い、実施例1〜24及び比較例1〜14の封止用エポキシ樹脂成形材料をそれぞれ作製した。なお表中の空欄は無配合を表す。
・エポキシ樹脂1:エポキシ当量200、軟化点67℃のオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(住友化学工業株式会社製商品名ESCN−190)
・エポキシ樹脂2:エポキシ当量196、融点106℃のビフェニル型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン株式会社製商品名YX−4000H)
・エポキシ樹脂3:エポキシ当量242、融点118℃のチオジフェノール型エポキシ樹脂(新日鐵化学株式会社製商品名YSLV−120TE)
・エポキシ樹脂4:エポキシ当量241、軟化点96℃のビフェニレン骨格含有フェノール・アラルキル型エポキシ樹脂(日本化薬株式会社製商品名CER−3000L)
・エポキシ樹脂5:エポキシ当量238、軟化点52℃のフェノール・アラルキル樹脂のエポキシ化物(日本化薬株式会社製商品名NC−2000L)
・エポキシ樹脂6:エポキシ当量375、軟化点80℃、臭素含有量48質量%のビスフェノールA型ブロム化エポキシ樹脂
・エポキシ樹脂7:エポキシ当量251、軟化点60度の一般式(XXXXV)で表されるエポキシ樹脂(DIC株式会社製商品名HP−5000)
・硬化剤1:水酸基当量199、軟化点89℃のフェノール・アラルキル樹脂(明和化成株式会社製商品名MEH−7851)
・硬化剤2:水酸基当量176、軟化点70℃のフェノール・アラルキル樹脂(三井化学株式会社製商品名ミレックスXLC)
・硬化剤3:水酸基当量106、軟化点64℃のノボラック型フェノール樹脂(明和化成株式会社製商品名H−4)
・硬化促進剤1:トリフェニルホスフィンとp−ベンゾキノンとのベタイン型付加物
・硬化促進剤2:トリブチルホスフィンとp−ベンゾキノンとのベタイン型付加物
(D)無機充てん剤としては、平均粒径17.5μm、比表面積3.8m2/gの球状溶融シリカ使用した。
(E2)エポキシ基含有アルコキシシラン化合物としては、以下を使用した。
・(E2)シラン化合物1:γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
・(E2)シラン化合物2:β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン
実施例1〜24及び比較例1〜14で作製した封止用エポキシ樹脂成形材料の特性を、次の(1)〜(6)の各特性試験により評価した。評価結果を下記表1〜表6に示した。なお、封止用エポキシ樹脂成形材料の成形は、明記しない限りトランスファ成形機により、金型温度180℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間90秒で成形した。また、必要に応じて後硬化を180℃で5時間の条件で行った。
EMMI−1−66に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いて、封止用エポキシ成形材料を上記条件で成形し、流動距離(cm)を求めた。
封止用エポキシ樹脂成形材料を上記条件で直径50mm×厚さ3mmの円板に成形し、成形後直ちにショアD型硬度計(株式会社上島製作所製HD−1120(タイプD))を用いて測定した。
封止用エポキシ樹脂成形材料を上記条件で10mm×70mm×3mmに成形、後硬化して試験片を作製した。得られた試験片を株式会社エー・アンド・デイ製テンシロンを用い、JIS−K−6911に準拠した3点支持型曲げ試験を260℃の恒温槽内で行い、260℃での曲げ弾性率(MPa)を求めた。
上記(2)で成形した円板を上記条件で後硬化した。得られた円板を85℃、60%RHの条件下で168時間放置し、放置前後の質量変化を測定して、吸水率(質量%)=(放置後の円板質量−放置前の円板質量)/放置前の円板質量×100で評価した。
8mm×10mm×0.4mmのシリコンチップを搭載した外形寸法20mm×14mm×2mmの80ピンフラットパッケージ(QFP)(リードフレーム材質:銅合金、ダイパッド部上面およびリード先端銀メッキ処理品)を、封止用エポキシ樹脂成形材料を用いて上記条件で成形、後硬化して作製した。得られたパッケージを85℃、85%RHの条件で168時間加湿した後、所定温度(235℃、245℃、255℃)、10秒の条件でリフロー処理をそれぞれ行い、パッケージ外部のクラックの有無を目視で、パッケージ内部の剥離発生の有無を超音波探傷装置(日立建機株式会社製HYE−FOCUS)でそれぞれ観察し、試験パッケージ数(10)に対する、クラック及び剥離のいずれかが発生したパッケージ数の総和で評価した。
厚さ1/16インチ(約1.6mm)の試験片を成形する金型を用いて、封止用エポキシ樹脂成形材料を上記条件で成形して後硬化を行って作製した。得られた試験片をUL−94試験法に従って難燃性を評価した。
Claims (4)
- (A)エポキシ樹脂と、(B)硬化剤と、(C)硬化促進剤と、(D)無機充てん剤と、(E1)アリールアミノ基含有アルコキシシラン化合物と、(E2)エポキシ基含有アルコキシシラン化合物と、を含有し、
前記(E1)アリールアミノ基含有アルコキシシラン化合物の合計量が、前記(E1)アリールアミノ基含有アルコキシシラン化合物及び前記(E2)エポキシ基含有アルコキシシラン化合物の合計量に対して、20質量%以上60質量%以下であり、
封止用エポキシ樹脂成形材料中の前記(E1)アリールアミノ基含有アルコキシシラン化合物及び前記(E2)エポキシ基含有アルコキシシラン化合物の合計量が、封止用エポキシ樹脂成形材料中の前記(A)エポキシ樹脂の合計量に対して7質量%以上12質量%以下である封止用エポキシ樹脂成形材料。 - 前記(E1)アリールアミノ基含有アルコキシシラン化合物が、下記一般式(I)で示される化合物である請求項1に記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
(一般式(I)中、R1及びR2はそれぞれ独立して、置換基を有してもよい炭素数1〜6の炭化水素基を示す。pは1〜3の整数を示し、qは2又は3を示す。) - 前記(E2)エポキシ基含有アルコキシシラン化合物が、下記一般式(II)および(III)で示される化合物の少なくとも1種である請求項1又は請求項2に記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
(一般式(II)中、R1及びR2はそれぞれ独立して、置換基を有してもよい炭素数1〜6の炭化水素基を示す。pは1〜3の整数を示し、qは2又は3を示す。)
(一般式(III)中、R1及びR2はそれぞれ独立して、置換基を有してもよい炭素数1〜6の炭化水素基を示す。pは1〜3の整数を示し、qは2又は3を示す。) - 請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の封止用エポキシ樹脂成形材料により封止された素子を備える電子部品装置。
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