JP5256610B2 - 素子封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置 - Google Patents
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Description
近年の電子機器の小型化、軽量化、高性能化に伴い、実装の高密度化が進み、電子部品装置は従来のピン挿入型から、表面実装型のパッケージがなされるようになってきている。半導体装置を配線板に取り付ける場合、従来のピン挿入型パッケージはピンを配線板に挿入した後、配線板裏面から半田付けを行うため、パッケージが直接高温にさらされることはなかった。しかし、表面実装型パッケージでは半導体装置全体が半田バスやリフロー装置などで処理されるため、直接半田付け温度にさらされる。この結果、パッケージが吸湿した場合、半田付け時に吸湿水分が急激に膨張し、接着界面の剥離やパッケージクラックが発生し、実装時のパッケージの信頼性を低下させるという問題があった。
別の対策としては充てん剤の含有量を増加する方法が挙げられるが、この方法では半導体装置内部の吸湿水分は低減するものの、大幅な流動性の低下を引き起こしてしまう問題があった。これまでにエポキシ樹脂成形材料の流動性を損なうことなく充てん剤の含有量を増加する方法として、充てん剤粒度分布を最適化する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
本発明はかかる状況に鑑みなされたもので、耐半田リフロー性を低下させることなく流動性に優れる封止用エポキシ樹脂成形材料、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供しようとするものである。
本発明は、(3)(B)硬化剤がフェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂、ノボラック型フェノール樹脂及び共重合型フェノール・アラルキル樹脂の少なくとも1種を含有する上記(1)または(2)のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂成形材料に関する。
本発明は、(5)(E)硬化促進剤をさらに含有する上記(1)〜(4)のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂成形材料に関する。
本発明は、(6)(F)無機充てん剤をさらに含有する上記(1)〜(5)のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂成形材料に関する。
ノボラック型エポキシ樹脂を使用する場合、その配合量は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量に対して20質量%以上とすることが好ましく、30質量%以上がより好ましい。
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂を使用する場合、その配合量は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量に対して20質量%以上とすることが好ましく、30質量%以上がより好ましい。
下記一般式(VII)で示されるナフタレン型エポキシ樹脂としては、m個の構成単位及びn個の構成単位をランダムに含むランダム共重合体、交互に含む交互共重合体、規則的に含む共重合体、ブロック状に含むブロック共重合体が挙げられ、これらのいずれか1種を単独で用いても、2種以上を組合わせて用いてもよい。また、下記一般式(VIII)で示されるトリフェニルメタン型エポキシ樹脂としては特に制限はないが、サリチルアルデヒド型エポキシ樹脂が好ましい。
なかでも、流動性、難燃性及び耐リフロー性の観点からはフェノール・アラルキル樹脂、共重合型フェノール・アラルキル樹脂及びナフトール・アラルキル樹脂が好ましく、耐熱性、低膨張率及び低そり性の観点からはトリフェニルメタン型フェノール樹脂が好ましく、硬化性の観点からはノボラック型フェノール樹脂が好ましく、これらのフェノール樹脂の少なくとも1種を含有していることが好ましい。
nは0又は1〜10の整数を示し、平均で6以下がより好ましい。
また、Xは芳香環を含む二価の有機基を示し、たとえばフェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基等のアリーレン基、トリレン基等のアルキル基置換アリーレン基、アルコキシル基置換アリーレン基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基から得られる二価の基、キシリレン基等のアリーレン基を含む二価の基、アラルキル基置換アリーレン基などが挙げられる。なかでも、保存安定性と難燃性の観点からは置換又は非置換のフェニレン基及びビフェニレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましく、たとえば下記一般式(XVII)及び(XVIII)で示されるナフトール・アラルキル樹脂が挙げられる。
nは0又は1〜10の整数を示し、平均で6以下がより好ましい。
アセナフチレンを含む芳香族オレフィンの重合物を得る方法としては、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合等が挙げられる。また、重合に際しては従来公知の触媒を用いることができるが、触媒を使用せずに熱だけで行うこともできる。この際、重合温度は80〜160℃が好ましく、90〜150℃がより好ましい。得られるアセナフチレンを含む芳香族オレフィンの重合物の軟化点は、60〜150℃が好ましく、70〜130℃がより好ましい。60℃より低いと成形時の染み出しにより成形性が低下する傾向にあり、150℃より高いと樹脂との相溶性が低下する傾向にある。
上記一般式(XIX)中のRとしては、たとえば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、ハロゲン化アルキル基、アミノ基置換アルキル基、メルカプト基置換アルキル基などの炭素数1〜10の置換又は非置換の一価の炭化水素基が挙げられ、なかでもメチル基、エチル基等のアルキル基及び水素原子が好ましく、メチル基及び水素原子がより好ましい。
トリフェニルメタン型フェノール樹脂を用いる場合、その配合量はその性能を発揮するために硬化剤全量に対して30質量%以上とすることが好ましく、50質量%以上がより好ましい。
上記一般式(XX)中のRとしては、たとえば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、ハロゲン化アルキル基、アミノ基置換アルキル基、メルカプト基置換アルキル基などの炭素数1〜10の置換又は非置換の一価の炭化水素基が挙げられ、なかでもメチル基、エチル基等のアルキル基及び水素原子が好ましく、水素原子がより好ましく、nの平均値が0〜8であることが好ましい。
ノボラック型フェノール樹脂を用いる場合、その配合量はその性能を発揮するために硬化剤全量に対して30質量%以上とすることが好ましく、50質量%以上がより好ましい。
上記一般式(XXI)中のRとしては、たとえば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基等の鎖状アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の環状アルキル基や環状アルケニル基、ベンジル基、フェネチル基等のアリール基置換アルキル基、メトキシ基置換アルキル基、エトキシ基置換アルキル基、ブトキシ基置換アルキル基等のアルコキシ基置換アルキル基、アミノアルキル基、ジメチルアミノアルキル基、ジエチルアミノアルキル基等のアミノ基置換アルキル基、水酸基置換アルキル基、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等の無置換アリール基、トリル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、ブチルフェニル基、tert−ブチルフェニル基、ジメチルナフチル基等のアルキル基置換アリール基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、tert−ブトキシフェニル基、メトキシナフチル基等のアルコキシ基置換アリール基、アミノアリール基、ジメチルアミノアリール基、ジエチルアミノアリール基等のアミノ基置換アリール基、水酸基置換アリール基などが挙げられ、なかでも水素原子又はメチル基が好ましい。
n及びmは0又は1〜10の整数を示し、平均で6以下がより好ましい。
上記一般式(XXI)中のXとしては、たとえばフェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基等のアリーレン基、トリレン基等のアルキル基置換アリーレン基、アルコキシル基置換アリーレン基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基から得られる二価の基、キシリレン基等のアリーレン基を含む二価の基、アラルキル基置換アリーレン基などが挙げられ、なかでも、置換又は非置換のフェニレン基及びビフェニレン基が好ましい。
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等のシクロアルキル基、
ベンジル基、フェネチル基等のアリール基置換アルキル基、
フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等の無置換アリール基、
トリル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、ブチルフェニル基、tert−ブチルフェニル基、ジメチルナフチル基等のアルキル基置換アリール基、
メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、tert−ブトキシフェニル基等のアルコキシ基置換アリール基などが挙げられ、成形性と流動性の観点からはプロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、ベンジル基、フェニル基が好ましい。
R6の炭化水素基の炭素数は1〜6が好ましく、2〜6がより好ましい。pは1〜3の整数を示すが、接着性と硬化性の観点からは2又は3が好ましい。これらのいずれか1種を単独で用いても、2種以上を組合わせて用いてもよい。
これらを例示すると、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルジメチルメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルジメチルエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−[ビス(β−ヒドロキシエチル)]アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(トリメトキシシリルプロピル)エチレンジアミン、イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルシランジオール、トリフェニルメトキシシラン、トリフェニルエトキシシラン、トリフェニルシラノール、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリエトキシシラン、2−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−(3−トリエトキシシリルプロピル)フェニルイミン、3−(3−(トリエトキシシリル)プロピルアミノ)−N,N−ジメチルプロピオンアミド、N−トリエトキシシリルプロピル−β−アラニンメチルエステル、3−(トリエトキシシリルプロピル)ジヒドロ−3,5−フランジオン、ビス(トリメトキシシリル)ベンゼン等のシラン系化合物、
1H−イミダゾール、2−アルキルイミダゾール、2,4−ジアルキルイミダゾール、4−ビニルイミダゾール等のイミダゾール化合物とγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のγ−グリシドキシプロピルアルコキシシランの反応物であるイミダゾール系シラン化合物、
アクリロキシ基又はメタクリロキシ基を有するシラン化合物の重合物、アクリル酸アルキルエステル及びメタクリル酸アルキルエステル、アクリル酸アリールエステル、メタクリル酸アリールエステル等のアクリル化合物とアクリロキシ基又はメタクリロキシ基を有するシラン化合物との共重合物等のシラン化合物が挙げられ、これらの1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の三級アミン類及びこれらの誘導体、
2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール等のイミダゾール類及びこれらの誘導体、
トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス(4−メチルフェニル)ホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン等の有機ホスフィン類及びこれらのホスフィン類に無水マレイン酸、上記キノン化合物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合物を付加してなる、分子内分極を有するリン化合物、
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムエチルトリフェニルボレート、テトラブチルホスホニウムテトラブチルボレート等のテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾール・テトラフェニルボレート、N−メチルモルホリン・テトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩及びこれらの誘導体などが挙げられ、これらの1種を単独で用いても2種以上組み合わせて用いてもよい。
なかでも、硬化性及び流動性の観点からは第三ホスフィンとキノン化合物との付加物が好ましく、保存安定性の観点からはシクロアミジン化合物とフェノール樹脂との付加物が好ましく、ジアザビシクロウンデセンのノボラック型フェノール樹脂塩がより好ましい。これらの硬化促進剤の配合量は硬化促進剤全量に対して合わせて60質量%以上が好ましく、80質量%以上がより好ましい。
また、第三ホスフィンとキノン化合物との付加物に用いられるキノン化合物としては特に制限はないが、たとえば、o−ベンゾキノン、p−ベンゾキノン、ジフェノキノン、1,4−ナフトキノン、アントラキノン等が挙げられ、耐湿性又は保存安定性の観点からはp−ベンゾキノンが好ましい。
Mg1−XAlX(OH)2(CO3)X/2・mH2O (XXII)
(式(XXII)中、0<X≦0.5、mは正の数)
水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化亜鉛等の無機物及び/又はフェノール樹脂等の熱硬化性樹脂等で被覆された赤リン、
リン酸エステル等のリン化合物、メラミン、メラミン誘導体、メラミン変性フェノール樹脂、トリアジン環を有する化合物、シアヌル酸誘導体、イソシアヌル酸誘導体等の窒素含有化合物、シクロホスファゼン等のリン及び窒素含有化合物、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム及び下記組成式(XXIII)で示される複合金属水酸化物などが挙げられる。
p(M1 aOb)・q(M2 cOd)・r(M3 eOf)・mH2O (XXIII)
(式(XXIII)で、M1、M2及びM3は互いに異なる金属元素を示し、a、b、c、d、p、q及びmは正の数、rは0又は正の数を示す。)
また、難燃剤には酸化亜鉛、錫酸亜鉛、硼酸亜鉛、酸化鉄、酸化モリブデン、モリブデン酸亜鉛、ジシクロペンタジエニル鉄等の金属元素を含む化合物などが挙げられ、これらの1種を単独で用いても2種以上を組合わせて用いてもよい。
難燃剤の配合量は特に制限はないが、(A)エポキシ樹脂100質量部に対して1〜30質量部が好ましく、2〜15質量部がより好ましい。
さらに、その他の添加剤として、シリコーンオイルやシリコーンゴム粉末等の応力緩和剤等を必要に応じて配合することができる。
合成例1:シラン化合物1の合成
撹拌装置、窒素ガス導入管、温度計及び環流冷却管を備えた30mlのガラス製反応容器に乾燥窒素を充填し、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン(チッソ株式会社製シランカップリング剤、サイラエース(登録商標)S330)1.00g、トリエチルアミン0.492g(和光純薬工業株式会社製)、脱水ヘキサン10ml(和光純薬工業株式会社製)を加えて、均一になるまで撹拌した。次にトリイソプロピルシリルクロリド0.824g(チッソ株式会社製)を10分間かけて滴下した後、25℃で48時間撹拌して反応を終了した。続いて、析出したトリエチルアミン塩酸塩をガラスフィルターでろ別し、ヘキサンを留去した。次に減圧蒸留(180℃/67Pa)することにより、下記一般式(XXIV)で示されるN−トリ(イソプロピル)シリル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン0.99gを得た。
撹拌装置、窒素ガス導入管、温度計及び環流冷却管を備えた200mlのガラス製反応容器に乾燥窒素を充填し、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン(チッソ株式会社製シランカップリング剤、サイラエース(登録商標)S330)11.05g、トリエチルアミン6.14g(和光純薬工業株式会社製)、脱水ヘキサン100ml(和光純薬工業株式会社製)を加えて、均一になるまで撹拌した。次にtert‐ブチルジフェニルクロロシラン13.74g(東京化成工業株式会社製)を10分間かけて滴下した後、加熱還流条件で72時間撹拌して反応を終了した。続いて、析出したトリエチルアミン塩酸塩をガラスフィルターでろ別し、ヘキサンを留去した。次に減圧蒸留(180℃/1.3Pa)することにより、下記一般式(XXV)で示されるN−tert‐ブチルジフェニルシリル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン11.47gを得た。
撹拌装置、窒素ガス導入管、温度計及び環流冷却管を備えた200mlのガラス製反応容器に乾燥窒素を充填し、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン18.11g(東京化成工業株式会社製)、トリエチルアミン11.36g(和光純薬工業株式会社製)、脱水ヘキサン100ml(和光純薬工業株式会社製)、tert‐ブチルジフェニルクロロシラン27.55g(東京化成工業株式会社製)を加えて、均一になるまで撹拌した。次に加熱還流条件で50時間撹拌して反応を終了した。続いて、析出したトリエチルアミン塩酸塩をガラスフィルターでろ別し、ヘキサンを留去した。次に減圧蒸留(155℃/1.3Pa)することにより、下記一般式(XXVI)で示されるN−tert‐ブチルジフェニルシリル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン18.56gを得た。
撹拌装置、窒素ガス導入管、温度計及び環流冷却管を備えた300mlのガラス製反応容器に乾燥窒素を充填し、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン18.10g(東京化成工業株式会社製)、トリエチルアミン11.49g(和光純薬工業株式会社製)、脱水ヘキサン350ml(和光純薬工業株式会社製)、トリフェニルクロロシラン30.10g(東京化成工業株式会社製)を加えて、25℃で24時間撹拌して反応を終了した。続いて、析出したトリエチルアミン塩酸塩をガラスフィルターでろ別し、ヘキサンを留去した。次に減圧蒸留(165℃/2.3Pa)することにより、下記一般式(XXVII)で示されるN−トリフェニルシリル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン18.56gを得た。
撹拌装置、窒素ガス導入管、温度計及び環流冷却管を備えた300mlのガラス製反応容器に乾燥窒素を充填し、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン18.10g(東京化成工業株式会社製)、トリエチルアミン11.49g(和光純薬工業株式会社製)、脱水ヘキサン350ml(和光純薬工業株式会社製)を加えて、均一になるまで撹拌した。次にトリイソプロピルシリルクロリド21.02g(チッソ株式会社製)を10分間かけて滴下した後、25℃で48時間撹拌して反応を終了した。続いて、析出したトリエチルアミン塩酸塩をガラスフィルターでろ別し、ヘキサンを留去した。次に減圧蒸留(180℃/67Pa)することにより、下記一般式(XXVIII)で示されるN−トリ(イソプロピル)シリル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン21.55gを得た。
撹拌装置、窒素ガス導入管、温度計及び環流冷却管を備えた300mlのガラス製反応容器に乾燥窒素を充填し、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン(チッソ株式会社製シランカップリング剤、サイラエース(登録商標)S330)11.05g、トリエチルアミン11.49g(和光純薬工業株式会社製)、脱水ヘキサン350ml(和光純薬工業株式会社製)を加えて、均一になるまで撹拌した。次にトリイソブチルシリルクロリド12.21g(チッソ株式会社製)を10分間かけて滴下した後、25℃で48時間撹拌して反応を終了した。続いて、析出したトリエチルアミン塩酸塩をガラスフィルターでろ別し、ヘキサンを留去した。次に減圧蒸留(180℃/67Pa)することにより、下記一般式(XXIX)で示されるN−トリ(イソブチル)シリル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン21.55gを得た。
以下の成分をそれぞれ表1〜表8に示す質量部で配合し、混練温度80℃、混練時間10分の条件でロール混練を行い、実施例1〜26及び比較例1〜19の封止用エポキシ樹脂成形材料を作製した。
エポキシ当量196、融点106℃のビフェニル型エポキシ樹脂(エポキシ樹脂2、ジャパンエポキシレジン株式会社製商品名YX−4000H)、
エポキシ当量176、融点111℃のビフェニル型エポキシ樹脂(エポキシ樹脂3、ジャパンエポキシレジン株式会社製商品名YL−6121H)、
エポキシ当量242、融点118℃のチオジフェノール型エポキシ樹脂(エポキシ樹脂4、新日本製鐵化学株式会社製商品名YSLV−120TE)、
エポキシ当量264、軟化点64℃のジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(エポキシ樹脂5、大日本インキ化学工業株式会社製商品名HP−7200)、
エポキシ当量217、軟化点72℃のナフタレン型エポキシ樹脂(エポキシ樹脂6、日本化薬株式会社製商品名NC−7300)、
エポキシ当量170、軟化点65℃のトリフェニルメタン型エポキシ樹脂(エポキシ樹脂7、日本化薬株式会社製商品名EPPN−502H)、
エポキシ当量192、融点79℃のビスフェノールF型エポキシ樹脂(エポキシ樹脂8、新日本製鐵化学株式会社製商品名YSLV−80XY)、
エポキシ当量241、軟化点96℃のビフェニレン骨格含有フェノール・アラルキル型エポキシ樹脂(エポキシ樹脂9、日本化薬株式会社製商品名CER−3000L)、
エポキシ当量265、軟化点66℃のβ‐ナフトール・アラルキル型エポキシ樹脂(エポキシ樹脂10、新日鐵化学株式会社商品名ESN‐175S)、
エポキシ当量375、軟化点80℃、臭素含有量48質量%のビスフェノールA型ブロム化エポキシ樹脂(エポキシ樹脂11)を使用した。
水酸基当量176、軟化点70℃のフェノール・アラルキル樹脂(硬化剤2、三井化学株式会社製商品名ミレックスXLC)、
水酸基当量183、軟化点79℃のナフトール・アラルキル樹脂(硬化剤3、新日鐵化学株式会社製商品名SN−170)、
水酸基当量104、軟化点83℃のトリフェニルメタン型フェノール樹脂(硬化剤4、明和化成株式会社製商品名MEH−7500)、
水酸基当量106、軟化点64℃のノボラック型フェノール樹脂(硬化剤5、明和化成株式会社製商品名H−4)、
水酸基当量156、軟化点83℃のノボラック型フェノール樹脂(硬化剤6、住金エア・ウォーター・ケミカル株式会社製商品名HE−510)を使用した。
N−tert−ブチルジフェニルシリル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン(上記合成例2で合成したシラン化合物4)、
N−tert−ブチルジフェニルシリル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン(上記合成例3で合成したシラン化合物5)、
N−トリフェニルシリル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン(上記合成例4で合成したシラン化合物6)、
N−トリ(イソプロピル)シリル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン(上記合成例5で合成したシラン化合物7)、
N−トリ(イソブチル)シリル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン(上記合成例6で合成したシラン化合物8)を、
また、比較のためにγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(シラン化合物2)、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン(シラン化合物3)を使用した。
(1)スパイラルフロー
EMMI−1−66に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いて、封止用エポキシ成形材料を上記条件で成形し、流動距離(cm)を求めた。
(2)円板フロー
200mm(W)×200mm(D)×25mm(H)の上型と200mm(W)×200mm(D)×15mm(H)の下型を有する円板フロー測定用平板金型を用いて、上皿天秤にて秤量した封止用エポキシ樹脂成形材料5gを180℃に加熱した下型の中心部にのせ、5秒後に180℃に加熱した上型を閉じて、荷重78N、硬化時間90秒の条件で圧縮成形し、ノギスで成形品の長径(mm)及び短径(mm)を測定して、その平均値(mm)を円板フローの値とした。
(3)接着保持率
上記条件で30μmのアルミ箔上に封止用エポキシ樹脂成形材料を成形、後硬化して試験片を作製し、PCT処理(121℃、0.2MPa、100時間)前後で試験片の90度方向のピール強度(N/m)を測定し、接着保持率(%)=PCT処理後アルミピール強度/PCT処理前アルミピール強度×100で評価した。
42アロイリードフレーム上に8×10mmのシリコーンチップを搭載した外形寸法20×14×2mmの80ピンフラットパッケージを、封止用エポキシ樹脂成形材料を用いて上記条件で成形、後硬化して作製し、85℃、85%RHの条件で加湿して所定時間ごとに240℃、10秒の条件でリフロー処理を行い、クラックの発生の有無を観察し、試験パッケージ数(10)に対するクラック発生パッケージ数で評価した。
(5)吸水率
封止用エポキシ樹脂成形材料を上記条件で直径50mm×厚さ3mmの円板を成形、上記条件で後硬化し、85℃、85%RHの条件下で72時間放置し、放置前後の質量変化を測定して、吸水率(質量%)={(放置後の円板質量−放置前の円板質量)/放置前の円板質量}×100で評価した。
(6)ガラス転移温度(Tg)
上記条件で19mm×3mm×3mmの形状に封止用エポキシ樹脂成形材料を成形、後硬化して試験片を作製し、株式会社リガク製の熱機械分析装置(TMA−8140、TAS−100)により、昇温速度5℃/minの条件で測定を行い、線膨張曲線の屈曲点からガラス転移温度(Tg、単位:℃)を求めた。
(7)難燃性
厚さ1/16インチ(約1.6mm)の試験片を成形する金型を用いて、封止用エポキシ樹脂成形材料を上記条件で成形して後硬化を行い、UL−94試験法に従って難燃性を評価した。
特に、実施例2に示すようにエポキシ樹脂としてエポキシ樹脂2(ビフェニル型エポキシ樹脂)、硬化剤として硬化剤2(フェノール・アラルキル樹脂)を併用した場合、及び実施例12に示すようにエポキシ樹脂8(ビスフェノールF型エポキシ樹脂)、硬化剤として硬化剤1(フェノール・アラルキル樹脂)及び硬化剤4(トリフェニルメタン型フェノール樹脂)を併用した場合は流動性に優れる。
また、実施例1に示すようにエポキシ樹脂としてエポキシ樹脂1(オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂)、硬化剤として硬化剤5(ノボラック型フェノール樹脂)を併用した場合、及び実施例5、10、12に示すように硬化剤として硬化剤4(トリフェニルメタン型フェノール樹脂)を使用した場合は高いTgを示し、中でもエポキシ樹脂としてエポキシ樹脂7(トリフェニルメタン型エポキシ樹脂)を併用した実施例10は特にTgが高いため耐熱性に優れることがわかる。
Claims (7)
- (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)下記一般式(I)で示されるシラン化合物を含有する封止用エポキシ樹脂成形材料であって、前記(C)シラン化合物の全配合量が封止用エポキシ樹脂成形材料に対して0.03〜0.8質量%である素子封止用エポキシ樹脂成形材料。
(ここで、R1はアリール基置換、アルキル基置換、アルコキシ基置換又は非置換の、炭素数2〜12の直鎖アルキル基、分岐アルキル基、シクロアルキル基、アリール基であり、R2〜R5はアリール基置換、アルキル基置換、アルコキシ基置換又は非置換の、炭素数1〜12の直鎖アルキル基、分岐アルキル基、シクロアルキル基、アリール基であり、同一でも異なっても良く、R6は炭素数1〜10の2価の炭化水素基であり、pは1〜3の整数を示す。) - (A)エポキシ樹脂がビフェニル型エポキシ樹脂、チオジフェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノール・アラルキル型エポキシ樹脂及びナフトール・アラルキル型エポキシ樹脂の少なくとも1種を含有する請求項1記載の素子封止用エポキシ樹脂成形材料。
- (B)硬化剤がフェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂、ノボラック型フェノール樹脂及び共重合型フェノール・アラルキル樹脂の少なくとも1種を含有する請求項1または2のいずれかに記載の素子封止用エポキシ樹脂成形材料。
- (D)前記(C)一般式(I)で示されるシラン化合物以外のシラン化合物をさらに含有する請求項1〜3のいずれかに記載の素子封止用エポキシ樹脂成形材料。
- (E)硬化促進剤をさらに含有する請求項1〜4のいずれかに記載の素子封止用エポキシ樹脂成形材料。
- (F)無機充てん剤をさらに含有する請求項1〜5のいずれかに記載の素子封止用エポキシ樹脂成形材料。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の素子封止用エポキシ樹脂成形材料により封止された素子を備える電子部品装置。
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