JP5966840B2 - 酸化物半導体薄膜および薄膜トランジスタ - Google Patents
酸化物半導体薄膜および薄膜トランジスタ Download PDFInfo
- Publication number
- JP5966840B2 JP5966840B2 JP2012226439A JP2012226439A JP5966840B2 JP 5966840 B2 JP5966840 B2 JP 5966840B2 JP 2012226439 A JP2012226439 A JP 2012226439A JP 2012226439 A JP2012226439 A JP 2012226439A JP 5966840 B2 JP5966840 B2 JP 5966840B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- oxide semiconductor
- semiconductor thin
- oxide
- tungsten
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D62/00—Semiconductor bodies, or regions thereof, of devices having potential barriers
- H10D62/80—Semiconductor bodies, or regions thereof, of devices having potential barriers characterised by the materials
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D30/00—Field-effect transistors [FET]
- H10D30/60—Insulated-gate field-effect transistors [IGFET]
- H10D30/67—Thin-film transistors [TFT]
- H10D30/674—Thin-film transistors [TFT] characterised by the active materials
- H10D30/6755—Oxide semiconductors, e.g. zinc oxide, copper aluminium oxide or cadmium stannate
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D62/00—Semiconductor bodies, or regions thereof, of devices having potential barriers
- H10D62/40—Crystalline structures
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D62/00—Semiconductor bodies, or regions thereof, of devices having potential barriers
- H10D62/80—Semiconductor bodies, or regions thereof, of devices having potential barriers characterised by the materials
- H10D62/875—Semiconductor bodies, or regions thereof, of devices having potential barriers characterised by the materials being semiconductor metal oxide, e.g. InGaZnO
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
Landscapes
- Thin Film Transistor (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012226439A JP5966840B2 (ja) | 2012-10-11 | 2012-10-11 | 酸化物半導体薄膜および薄膜トランジスタ |
| CN201380049309.3A CN104685634B (zh) | 2012-10-11 | 2013-10-10 | 氧化物半导体薄膜以及薄膜晶体管 |
| US14/434,939 US9299791B2 (en) | 2012-10-11 | 2013-10-10 | Oxide semiconductor thin film and thin film transistor |
| PCT/JP2013/077610 WO2014058019A1 (ja) | 2012-10-11 | 2013-10-10 | 酸化物半導体薄膜および薄膜トランジスタ |
| KR1020157007278A KR102062280B1 (ko) | 2012-10-11 | 2013-10-10 | 산화물 반도체 박막 및 박막 트랜지스터 |
| TW102136713A TWI595668B (zh) | 2012-10-11 | 2013-10-11 | 氧化物半導體薄膜及薄膜電晶體 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012226439A JP5966840B2 (ja) | 2012-10-11 | 2012-10-11 | 酸化物半導体薄膜および薄膜トランジスタ |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014078645A JP2014078645A (ja) | 2014-05-01 |
| JP2014078645A5 JP2014078645A5 (enExample) | 2015-10-08 |
| JP5966840B2 true JP5966840B2 (ja) | 2016-08-10 |
Family
ID=50477485
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012226439A Expired - Fee Related JP5966840B2 (ja) | 2012-10-11 | 2012-10-11 | 酸化物半導体薄膜および薄膜トランジスタ |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9299791B2 (enExample) |
| JP (1) | JP5966840B2 (enExample) |
| KR (1) | KR102062280B1 (enExample) |
| CN (1) | CN104685634B (enExample) |
| TW (1) | TWI595668B (enExample) |
| WO (1) | WO2014058019A1 (enExample) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6119773B2 (ja) | 2014-03-25 | 2017-04-26 | 住友電気工業株式会社 | 酸化物焼結体およびその製造方法、スパッタターゲット、ならびに半導体デバイス |
| CN105745183B (zh) * | 2014-08-12 | 2018-03-13 | 住友电气工业株式会社 | 氧化物烧结体及其制造方法、溅射靶、以及半导体器件 |
| JP6357664B2 (ja) * | 2014-09-22 | 2018-07-18 | 株式会社Joled | 薄膜トランジスタ及びその製造方法 |
| JP6501385B2 (ja) * | 2014-10-22 | 2019-04-17 | 日本放送協会 | 薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
| WO2016063557A1 (ja) | 2014-10-22 | 2016-04-28 | 住友電気工業株式会社 | 酸化物焼結体および半導体デバイス |
| JP2016111125A (ja) * | 2014-12-04 | 2016-06-20 | 日本放送協会 | 薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
| JP6551414B2 (ja) * | 2015-01-26 | 2019-07-31 | 住友電気工業株式会社 | 酸化物半導体膜および半導体デバイス |
| WO2016129146A1 (ja) * | 2015-02-13 | 2016-08-18 | 住友電気工業株式会社 | 酸化物焼結体およびその製造方法、スパッタターゲット、ならびに半導体デバイス |
| JP6394518B2 (ja) * | 2015-07-02 | 2018-09-26 | 住友電気工業株式会社 | 半導体デバイスおよびその製造方法 |
| WO2017017966A1 (ja) * | 2015-07-30 | 2017-02-02 | 出光興産株式会社 | 結晶質酸化物半導体薄膜、結晶質酸化物半導体薄膜の製造方法及び薄膜トランジスタ |
| JP6350466B2 (ja) * | 2015-09-16 | 2018-07-04 | 住友電気工業株式会社 | 酸化物焼結体およびその製造方法、スパッタターゲット、ならびに半導体デバイスの製造方法 |
| JP6308191B2 (ja) * | 2015-09-16 | 2018-04-11 | 住友電気工業株式会社 | 酸化物焼結体およびその製造方法、スパッタターゲット、ならびに半導体デバイスの製造方法 |
| JP6593257B2 (ja) * | 2016-06-13 | 2019-10-23 | 住友電気工業株式会社 | 半導体デバイスおよびその製造方法 |
| WO2018211724A1 (ja) * | 2017-05-16 | 2018-11-22 | 住友電気工業株式会社 | 酸化物焼結体およびその製造方法、スパッタターゲット、酸化物半導体膜、ならびに半導体デバイスの製造方法 |
| JP6493601B2 (ja) * | 2018-05-31 | 2019-04-03 | 住友電気工業株式会社 | 酸化物焼結体およびその製造方法、スパッタターゲット、ならびに半導体デバイスの製造方法 |
| WO2024042997A1 (ja) * | 2022-08-25 | 2024-02-29 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 酸化物半導体膜、薄膜トランジスタ、および電子機器 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI254080B (en) * | 2002-03-27 | 2006-05-01 | Sumitomo Metal Mining Co | Transparent conductive thin film, process for producing the same, sintered target for producing the same, and transparent, electroconductive substrate for display panel, and organic electroluminescence device |
| KR101019337B1 (ko) | 2004-03-12 | 2011-03-07 | 도꾸리쯔교세이호징 가가꾸 기쥬쯔 신꼬 기꼬 | 아몰퍼스 산화물 및 박막 트랜지스터 |
| US7646015B2 (en) * | 2006-10-31 | 2010-01-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing method of semiconductor device and semiconductor device |
| JP4662075B2 (ja) | 2007-02-02 | 2011-03-30 | 株式会社ブリヂストン | 薄膜トランジスタ及びその製造方法 |
| WO2008117739A1 (ja) | 2007-03-23 | 2008-10-02 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 半導体デバイス、多結晶半導体薄膜、多結晶半導体薄膜の製造方法、電界効果型トランジスタ、及び、電界効果型トランジスタの製造方法 |
| KR101346472B1 (ko) | 2008-06-06 | 2014-01-02 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 산화물 박막용 스퍼터링 타겟 및 그의 제조 방법 |
| JP2010045263A (ja) * | 2008-08-15 | 2010-02-25 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 酸化物半導体、スパッタリングターゲット、及び薄膜トランジスタ |
| CN102187467A (zh) * | 2008-10-23 | 2011-09-14 | 出光兴产株式会社 | 薄膜晶体管及其制造方法 |
| JP2010106291A (ja) * | 2008-10-28 | 2010-05-13 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 酸化物半導体及びその製造方法 |
| JP5553997B2 (ja) | 2009-02-06 | 2014-07-23 | 古河電気工業株式会社 | トランジスタおよびその製造方法 |
| CN102460712A (zh) | 2009-04-17 | 2012-05-16 | 株式会社普利司通 | 薄膜晶体管以及薄膜晶体管的制造方法 |
| JP2010251604A (ja) | 2009-04-17 | 2010-11-04 | Bridgestone Corp | 薄膜トランジスタの製造方法 |
| JP2010251606A (ja) * | 2009-04-17 | 2010-11-04 | Bridgestone Corp | 薄膜トランジスタ |
| KR101035357B1 (ko) * | 2009-12-15 | 2011-05-20 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 산화물 반도체 박막 트랜지스터, 그 제조방법 및 산화물 반도체 박막 트랜지스터를 구비한 유기전계 발광소자 |
| JP5437825B2 (ja) | 2010-01-15 | 2014-03-12 | 出光興産株式会社 | In−Ga−O系酸化物焼結体、ターゲット、酸化物半導体薄膜及びこれらの製造方法 |
| JP5764828B2 (ja) * | 2011-02-04 | 2015-08-19 | 住友金属鉱山株式会社 | 酸化物焼結体およびそれを加工したタブレット |
-
2012
- 2012-10-11 JP JP2012226439A patent/JP5966840B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-10-10 CN CN201380049309.3A patent/CN104685634B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2013-10-10 KR KR1020157007278A patent/KR102062280B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2013-10-10 WO PCT/JP2013/077610 patent/WO2014058019A1/ja not_active Ceased
- 2013-10-10 US US14/434,939 patent/US9299791B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2013-10-11 TW TW102136713A patent/TWI595668B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US9299791B2 (en) | 2016-03-29 |
| KR20150063046A (ko) | 2015-06-08 |
| JP2014078645A (ja) | 2014-05-01 |
| WO2014058019A1 (ja) | 2014-04-17 |
| CN104685634A (zh) | 2015-06-03 |
| TW201427033A (zh) | 2014-07-01 |
| US20150279943A1 (en) | 2015-10-01 |
| TWI595668B (zh) | 2017-08-11 |
| KR102062280B1 (ko) | 2020-01-03 |
| CN104685634B (zh) | 2017-11-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5966840B2 (ja) | 酸化物半導体薄膜および薄膜トランジスタ | |
| JP5466939B2 (ja) | 半導体デバイス、多結晶半導体薄膜、多結晶半導体薄膜の製造方法、電界効果型トランジスタ、及び、電界効果型トランジスタの製造方法 | |
| JP5386084B2 (ja) | 半導体薄膜、及びその製造方法、並びに薄膜トランジスタ | |
| JP5386179B2 (ja) | 半導体デバイス、画像表示装置、薄膜トランジスタの製造方法、及び、薄膜トランジスタ基板 | |
| TWI400806B (zh) | A semiconductor thin film, and a method for manufacturing the same, and a thin film transistor | |
| JP6376153B2 (ja) | 酸化物半導体薄膜および薄膜トランジスタ | |
| JP6107085B2 (ja) | 酸化物半導体薄膜および薄膜トランジスタ | |
| KR20110073536A (ko) | 박막 트랜지스터 및 그 제조방법 | |
| TWI640492B (zh) | 氧化物半導體薄膜、氧化物半導體薄膜之製造方法及使用其之薄膜電晶體 | |
| JP2018107316A (ja) | 酸化物半導体薄膜及びその製造方法、並びに薄膜トランジスタ | |
| JP6036984B2 (ja) | 酸窒化物半導体薄膜 | |
| JP2018104772A (ja) | 酸化物半導体薄膜の製造方法及び薄膜トランジスタの製造方法 | |
| JP2019024058A (ja) | 酸化物半導体薄膜及び薄膜トランジスタの製造方法 | |
| JP2018135589A (ja) | 酸化物半導体薄膜及び薄膜トランジスタの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150821 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150821 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160607 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160620 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5966840 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |