JP5829248B2 - 基板処理装置、レシピ遷移プログラム、半導体装置の製造方法及び基板処理装置のレシピ表示方法 - Google Patents

基板処理装置、レシピ遷移プログラム、半導体装置の製造方法及び基板処理装置のレシピ表示方法 Download PDF

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Description

本発明は、半導体デバイス等の基板を処理するための基板処理装置、レシピ遷移プログラム、半
導体装置の製造方法及び基板処理装置のレシピ表示方法に関する。
この種の基板処理装置において、運転レシピ(プロセスレシピ)が装置本体に表示画面
に表示されるものが知られており、例えば、プロセスレシピのステップ一覧において実行
終了ステップは青色、実行中のステップは赤色など色別に表示し、該プロセスレシピの進
捗状況を表していた。
しかしながら、プロセスレシピ内に記述されたステップの指示により他のレシピ(例え
ばサブレシピ)が実行された場合、どのようなステップの指示があり、サブレシピが実行
されたのか、また、現在実行中のサブレシピと該サブレシピの履歴状況が分からず、装置
にトラブル(障害)が発生した際にはリカバリ(復旧)処理(この場合は、障害発生の原
因究明)に時間がかかっていた。また、リセットレシピが実行されて装置が一時停止して
いる場合、ユーザ(オペレータ)の意思より実行されたものなのか、もしくは装置にエラ
ーが発生したことにより実行されたものかが分からない。すなわちリセットレシピが実行
されるまでのレシピの遷移履歴やリセットレシピが実行された要因が把握できないため、
どのようなリカバリ処理が適切であるか経験に頼らざるを得ず、特に作業者が初心者の場
合、トラブル処置を行なうまでに時間がかかっていた。(ここで、サブレシピとはプロセ
スレシピ内で複数回繰り返し使用されるステップをプロセスレシピから独立して作成され
たレシピであり、プロセスレシピの所定ステップで呼び出すことによって実行される。)
本発明は、複数のレシピにおける遷移履歴を把握し、トラブル時に費やす時間を短縮さ
せる基板処理装置、レシピ遷移プログラム、半導体装置の製造方法及び基板処理装置のレシピ表示方法を提供することを目的とする。
本発明の第1の特徴とするところは、複数のステップから構成されるレシピを少なくと
も一つ以上格納するレシピ格納手段と、前記レシピを実行させる実行指示を受け付ける表
示制御手段と、前記表示制御手段により指示された前記レシピを操作画面に表示する表示
手段とを含む基板処理装置であって、所定のレシピを実行中に前記レシピ格納手段に格納
された他のレシピを実行させる実行指示を受けると、前記他のレシピのうち現在実行中の
ステップ情報と前記所定のレシピのうち前記実行指示が発生していた時に実行していたス
テップ情報を前記操作画面に表示させると共に、前記他のレシピを実行させる実行指示が
発生した要因を前記所定のレシピと前記他のレシピの間に表示させることを特徴とする基
板処理装置にある。
本発明の第2の特徴とするところは、複数のステップから構成されるレシピを実行して
基板を処理する制御手段と、前記制御手段により実行された前記レシピを操作画面に表示
する表示手段と、前記複数のステップから構成されるレシピのうち所定のレシピを実行中
にレシピ格納手段に格納された他のレシピを実行させる実行指示を受けると、前記他のレ
シピのうち現在実行中のステップ情報と前記所定のレシピのうち前記実行指示が発生して
いた時に実行していたステップ情報を前記操作画面に表示させると共に、前記他のレシピ
を実行させる実行指示が発生した要因を前記所定のレシピと前記他のレシピの間に表示さ
せる表示制御手段と、を含む基板処理装置にある。
本発明の第3の特徴とするところは、複数のステップから構成されるレシピのうち所定
のレシピを実行中にレシピ格納手段に格納された他のレシピを実行させる実行指示を受け
ると、前記他のレシピのうち現在実行中のステップ情報と前記所定のレシピのうち前記実
行指示が発生していた時に実行していたステップ情報を操作画面に表示させると共に、前
記他のレシピを実行させる実行指示が発生した要因を前記所定のレシピと前記他のレシピ
の間に表示させる基板処理装置にある。
本発明の第4の特徴とするところは、レシピ格納手段により複数のステップから構成さ
れるレシピのうち所定のレシピを実行させる実行指示を受け付ける工程と、前記所定のレ
シピを操作画面に表示する工程と、前記所定のレシピを実行中に他のレシピを実行させる
実行指示を受けると、前記他のレシピのうち現在実行中のステップ情報と前記所定のレシ
ピのうち前記実行指示が発生していた時に実行していたステップ情報を前記操作画面に表
示させると共に、前記他のレシピを実行させる実行指示が発生した要因を前記所定のレシ
ピと前記他のレシピの間に表示させる工程と、前記実行指示された前記任意のレシピを実
行して基板を処理する工程と、を含む基板処理方法にある。
本発明の第5の特徴とするところは、複数のステップから構成されるレシピを実行して
基板を処理する半導体装置の製造方法であって、実行された前記レシピを操作画面に表示
する工程と、前記複数のステップから構成されるレシピのうち所定のレシピを実行中にレ
シピ格納手段に格納された他のレシピを実行させる実行指示を受けると、前記他のレシピ
のうち現在実行中のステップ情報と前記所定のレシピのうち前記実行指示が発生していた
時に実行していたステップ情報を前記操作画面に表示させると共に、前記他のレシピを実
行させる実行指示が発生した要因を前記所定のレシピと前記他のレシピの間に表示させる
工程と、を含む半導体装置の製造方法にある。
本発明の第6の特徴とするところは、所定のレシピを実行中にレシピ格納手段に格納さ
れた他のレシピを実行させる実行指示を受けると、前記他のレシピのうち現在実行中のス
テップ情報と前記所定のレシピのうち前記実行指示が発生していた時に実行していたステ
ップ情報を操作画面に表示させると共に、前記他のレシピを実行させる実行指示が発生し
た要因を前記所定のレシピと前記他のレシピの間に表示させることを特徴とするレシピ表示方法にある。
ここで実行指示とは、ユーザ(オペレータ)が操作画面上のボタン等の入力手段を用い
て入力して与える指示、又はホストコンピュータ等の外部装置からの指示のことをいう。
制御指示とは、レシピ等に予め設定されている目標値になるように装置を構成する部品等
に与える指示(目標値)のことをいう。
本発明によれば、任意のレシピを実行中に他のレシピを実行させる実行指示があると、
この他のレシピを実行させる実行指示が発生した要因を表示すると共に任意のレシピと他
のレシピとを操作画面に表示するので、レシピの遷移や該レシピの遷移における要因を迅
速に把握することができ、トラブル(障害)発生時におけるトラブル処置の時間短縮が可
能となり、更にリカバリ(復旧)処理時間を短縮することができる。
本発明の実施形態に係る基板処理装置を示す斜視図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置を示す透視側面図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置が用いられた基板処理システムの構成を例示す図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置のハードウェア構成を、PMCを中心に例示する図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置の操作画面におけるレシピ遷移履歴を例示する図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置の主制御部により実行されるシーケンスプログラムを説明するフローチャートである。 本発明の実施形態に係る基板処理装置の操作画面におけるレシピ遷移履歴の第2の例示例を示す図であり、(a)はリセットレシピが単独実行されたときのレシピ遷移履歴の表示例であり、(b)は何らかの要因で他のレシピから遷移してリセットレシピが実行されたときのレシピ遷移履歴の表示例である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置の操作画面におけるレシピ遷移履歴の第3の表示例を示す図であり、プロセスレシピから遷移によりリセットレシピが実行されたときのレシピ遷移履歴を表示例である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置の操作画面におけるステップ履歴の表示例を示す図である。 比較例におけるレシピの運転一覧(実行状況)表示を例示する図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置の操作画面におけるステップNo.及びステップ名称の表示例を示す図である。
本発明を実施する最良の形態において、基板処理装置は、一例として、半導体装置(I
C)の製造方法における処理装置を実施する半導体製造装置として構成されている。なお
、以下の説明では、基板処理装置として基板に酸化、拡散処理やCVD処理などを行なう
縦型の装置(以下、単に処理装置という)を適用した場合について述べる。図1は、本発
明に適用される基板処理装置の斜視図として示されている。また、図2は図1に示す基板
処理装置の側面透視図である。
図1および図2に示されているように、シリコン等からなるウエハ(基板)200を収
納したウエハキャリアとしてフープ(基板収容器。以下ポッドという。)110が使用さ
れている本発明の基板処理装置100は、筐体111を備えている。筐体111の正面壁
111aの正面前方部にはメンテナンス可能なように設けられた開口部としての正面メン
テナンス口103が開設され、この正面メンテナンス口103を開閉する正面メンテナン
ス扉104、104がそれぞれ建て付けられている。
筐体111の正面壁111aにはポッド搬入搬出口(基板収容器搬入搬出口)112が
筐体111の内外を連通するように開設されており、ポッド搬入搬出口112はフロント
シャッタ(基板収容器搬入搬出口開閉機構)113によって開閉されるようになっている

ポッド搬入搬出口112の正面前方側にはロードポート(基板収容器受渡し台)114
が設置されており、ロードポート114はポッド110を載置されて位置合わせするよう
に構成されている。ポッド110はロードポート114上に工程内搬送装置(図示せず)
によって搬入され、かつまた、ロードポート114上から搬出されるようになっている。
筐体111内の前後方向の略中央部における上部には、回転式ポッド棚(基板収容器載
置棚)105が設置されており、回転式ポッド棚105は複数個のポッド110を保管す
るように構成されている。すなわち、回転式ポッド棚105は垂直に立設されて水平面内
で間欠回転される支柱116と、支柱116に上中下段の各位置において放射状に支持さ
れた複数枚の棚板(基板収容器載置台)117とを備えており、複数枚の棚板117はポ
ッド110を複数個宛それぞれ載置した状態で保持するように構成されている。
筐体111内におけるロードポート114と回転式ポッド棚105との間には、ポッド
搬送装置(基板収容器搬送装置)118が設置されており、ポッド搬送装置118は、ポ
ッド110を保持したまま昇降可能なポッドエレベータ(基板収容器昇降機構)118a
と搬送機構としてのポッド搬送機構(基板収容器搬送機構)118bとで構成されており
、ポッド搬送装置118はポッドエレベータ118aとポッド搬送機構118bとの連続
動作により、ロードポート114、回転式ポッド棚105、ポッドオープナ(基板収容器
蓋体開閉機構)121との間で、ポッド110を搬送するように構成されている。
筐体111内の前後方向の略中央部における下部には、サブ筐体119が後端にわたっ
て構築されている。サブ筐体119の正面壁119aにはウエハ200をサブ筐体119
内に対して搬入搬出するためのウエハ搬入搬出口(基板搬入搬出口)120が一対、垂直
方向に上下二段に並べられて開設されており、上下段のウエハ搬入搬出口120、120
には一対のポッドオープナ121、121がそれぞれ設置されている。ポッドオープナ1
21はポッド110を載置する載置台122、122と、ポッド110のキャップ(蓋体
)を着脱するキャップ着脱機構(蓋体着脱機構)123、123とを備えている。ポッド
オープナ121は載置台122に載置されたポッド110のキャップをキャップ着脱機構
123によって着脱することにより、ポッド110のウエハ出し入れ口を開閉するように
構成されている。
サブ筐体119はポッド搬送装置118や回転式ポッド棚105の設置空間から流体的
に隔絶された移載室124を構成している。移載室124の前側領域にはウエハ移載機構
(基板移載機構)125が設置されており、ウエハ移載機構125は、ウエハ200を水
平方向に回転ないし直動可能なウエハ移載装置(基板移載装置)125aおよびウエハ移
載装置125aを昇降させるためのウエハ移載装置エレベータ(基板移載装置昇降機構)
125bとで構成されている。図1に模式的に示されているようにウエハ移載装置エレベ
ータ125bは耐圧筐体111右側端部とサブ筐体119の移載室124前方領域右端部
との間に設置されている。これら、ウエハ移載装置エレベータ125bおよびウエハ移載
装置125aの連続動作により、ウエハ移載装置125aのツイーザ(基板保持体)12
5cをウエハ200の載置部として、ボート(基板保持具)217に対してウエハ200
を装填(チャージング)および脱装(ディスチャージング)するように構成されている。
移載室124の後側領域には、ボート217を収容して待機させる待機部126が構成
されている。待機部126の上方には、処理炉202が設けられている。処理炉202の
下端部は、炉口シャッタ(炉口開閉機構)147により開閉されるように構成されている
図1に模式的に示されているように、耐圧筐体111右側端部とサブ筐体119の待機
部126右端部との間にはボート217を昇降させるためのボートエレベータ(基板保持
具昇降機構)115が設置されている。ボートエレベータ115の昇降台に連結された連
結具としてのアーム128には蓋体としてのシールキャップ219が水平に据え付けられ
ており、シールキャップ219はボート217を垂直に支持し、処理炉202の下端部を
閉塞可能なように構成されている。
ボート217は複数本の保持部材を備えており、複数枚(例えば、50〜125枚程度
)のウエハ200をその中心を揃えて垂直方向に整列させた状態で、それぞれ水平に保持
するように構成されている。
図1に模式的に示されているように移載室124のウエハ移載装置エレベータ125b
側およびボートエレベータ115側と反対側である左側端部には、清浄化した雰囲気もし
くは不活性ガスであるクリーンエア133を供給するよう供給ファンおよび防塵フィルタ
で構成されたクリーンユニット134が設置されており、ウエハ移載装置125aとクリ
ーンユニット134との間には、図示はしないが、ウエハの円周方向の位置を整合させる
基板整合装置としてのノッチ合わせ装置135が設置されている。
クリーンユニット134から吹き出されたクリーンエア133は、ノッチ合わせ装置1
35およびウエハ移載装置125a、待機部126にあるボート217に流通された後に
、図示しないダクトにより吸い込まれて、筐体111の外部に排気がなされるか、もしく
はクリーンユニット134の吸い込み側である一次側(供給側)にまで循環され、再びク
リーンユニット134によって、移載室124内に吹き出されるように構成されている。
次に、本発明の基板処理装置100の動作について説明する。
図1および図2に示されているように、ポッド110がロードポット114に供給される
と、ポッド搬入搬出口112がフロントシャッタ113によって開放され、ロードポート
114の上のポッド110はポッド搬送装置118によって筐体111の内部へポッド搬
入搬出口112から搬入される。
搬入されたポッド110は回転式ポッド棚105の指定された棚板117へポッド搬送
装置118によって自動的に搬送されて受け渡され、一時的に保管された後、棚板117
から一方のポッドオープナ121に搬送されて受け渡され、一時的に保管された後、棚板
117から一方のポッドオープナ121に搬送されて載置台122に移載されるか、もし
くは直接ポッドオープナ121に搬送されて載置台122に移載される。この際、ポッド
オープナ121のウエハ搬入搬出口120はキャップ着脱機構123によって閉じられて
おり、移載室124にはクリーンエア133が流通され、充満されている。例えば、移載
室124にはクリーンエア133として窒素ガスが充満することにより、酸素濃度が20
ppm以下と、筐体111の内部(大気雰囲気)の酸素濃度よりも遥かに低く設定されて
いる。
載置台122に載置されたポッド110はその開口側端面がサブ筐体119の正面壁1
19aにおけるウエハ搬入搬出口120の開口縁辺部に押し付けられるとともに、そのキ
ャップがキャップ着脱機構123によって取り外され、ウエハ出し入れ口を開放される。
ポッド110がポッドオープナ121によって開放されると、ウエハ200はポッド1
10からウエハ移載装置125aのツイーザ125cによってウエハ出し入れ口を通じて
ピックアップされ、図示しないノッチ合わせ装置135にてウエハを整合した後、移載室
124の後方にある待機部126へ搬入され、ボート217に装填(チャージング)され
る。ボート217にウエハ200を受け渡したウエハ移載装置125aはポッド110に
戻り、次のウエハ110をボート217に装填する。
この一方(上段または下段)のポッドオープナ121におけるウエハ移載機構125に
よるウエハのボート217への装填作業中に、他方(下段または上段)のポッドオープナ
121には回転式ポッド棚105から別のポッド110がポッド搬送装置118によって
搬送されて移載され、ポッドオープナ121によるポッド110の開放作業が同時進行さ
れる。
予め指定された枚数のウエハ200がボート217に装填されると、炉口シャッタ14
7によって閉じられていた処理炉202の下端部が、炉口シャッタ147によって、開放
される。続いて、ウエハ200群を保持したボート217はシールキャップ219がボー
トエレベータ115によって上昇されることにより、処理炉202内へ搬入(ローディン
グ)されて行く。
ローディング後は、処理炉202にてウエハ200に任意の処理が実施される。
処理後は、図示しないノッチ合わせ装置135でのウエハの整合工程を除き、概上述の
逆の手順で、ウエハ200およびポッド110は筐体の外部へ払出される。
次に、上述した基板処理装置100を用いた基板処理システム300の一例を図3に基
づいて説明する。
図3に示すように、基板処理システム300は、ホストコンピュータ302及び上述し
た複数の基板処理装置100を有する。複数の基板処理装置100及びホストコンピュー
タ302は例えばLANなどの通信回線304を介して接続され、ホストコンピュータ3
02からの指示(出力信号)がそれぞれの基板処理装置100に対して送信(出力)され
るようになっている。
入出力装置306は、基板処理装置100と一体に、又はネットワークを介して設けら
れており、操作画面308を有する。操作画面308には、ユーザ(オペレータ)により
所定のデータが入力される入力画面及び装置の状況等を示す表示画面が表示されるように
なっている。さらには、種々のコマンドボタンが設けられている。
また、基板処理装置100内にはプロセスモジュールコントローラ(PMC:Process
module controller)310が設けられ、該PMC310により、基板処理装置100内
の各装置が制御される。
図4にPMC310を中心としたハードウェア構成が示されている。
PMC310は、第1の制御手段としての主制御部(メインコントローラ)312の一
部と、第2の制御手段としての副制御部(サブコントローラ)314とを有する。
主制御部312は、CPU316、記憶手段としての記憶部317、入出力装置306
やホストコンピュータ302とのデータの送受信を行なう送受信処理部322、CPU3
16と副制御部314とのI/O制御を行なうI/O制御部324及び入出力装置306
とを有し、上述した入出力装置306の操作画面308で作成又は編集された種々のレシ
ピの実行指示により、基板を処理するための制御データ(制御指示)を副制御部314に
送信するようになっている。
記憶部317は、例えばROM(read-only memory)318及びRAM(random-acces
s memory)320等からなり、シーケンスプログラム、複数のレシピ、入出力装置306
より入力される入力データ(入力指示)、レシピのコマンド(PMコマンドやステップコ
マンド)の履歴データ及びレシピの履歴データ等が格納される。
なお、レシピにはプロセスレシピ、サブレシピの他、後述するアラームレシピ、アボー
トレシピ、リセットレシピなど種々のレシピがあり、これらのレシピは記憶部317に格
納されている。また、記憶部317は、レシピの履歴データとして生産情報(温度、ガス
流量、圧力等のデータ)だけでなく、アラーム発生情報やレシピ遷移情報等の履歴データ
を記憶する。レシピ遷移情報には、レシピ画面遷移情報やレシピ遷移要因情報も含まれる
入出力装置306は、操作画面308からのオペレータ(ユーザ)の入力データ(入力
指示)を受け付ける入力部332、記憶部317に格納されているデータ等を表示する表
示部334、入力部332に受け付けられた入力データが後述する表示制御部336によ
り送受信処理部322に送信されるまでの間記憶する一時記憶部335、入力部332か
らの入力データ(入力指示)を受け付け、該入力データを表示部334もしくは送受信処
理部322に送信する表示制御部336を有する。
なお、後述するように、表示制御部336は、送受信処理部322を介してCPU31
6による記憶部317に格納された複数のレシピのうち任意のレシピを実行させる指示(
実行指示)を受け付けるようになっており、また表示部334は、表示制御部336から
の指示により指示された任意のレシピを操作画面308に表示するようになっている。
副制御部314は、後述する温度制御部326、ガス制御部328及び圧力制御部33
0と図示しない搬送制御部を有する。温度制御部326は、上述した処理炉202の外周
部に設けられたヒータ338により該処理室202内の温度を制御し、ガス制御部328
は、処理炉202のガス配管340に設けられたMFC(マスフローコントローラ)34
2からの出力値に基づいて処理炉202内に供給する反応ガスの供給量等を制御し、圧力
制御部330は、処理炉202の排気配管344に設けられた圧力センサ346の出力値
に基づいてバルブ348を開閉することにより処理室202内の圧力を制御するようにな
っている。また、図示しない搬送制御部により、ウエハ移載機125やボートエレベータ
126等が制御される。このように副制御部314は、主制御部312からの制御指示に
従って基板処理装置100(図1に示す)の各部(ヒータ338、MFC342及びバル
ブ348等)の制御を行なうようになっている。
例えば、入出力装置306の入力部332により、レシピを設定する為のデータが入力
されると、該入力データ(入力指示)は、記憶部335に格納されると共に表示制御部3
36を介して表示部334に表示され、さらに表示制御部336によりPMC310の送
受信処理部322に送信される。主制御部312のCPU316は、該入力データを記憶
部317の例えばRAM320に格納し、例えばROM318に格納されたレシピの設定
入力を確定させる。CPU316は、シーケンスプログラムを起動し、該シーケンスプロ
グラムに従って、例えば記憶部317のRAM320に格納されたレシピのコマンドを呼
び込み実行することで、ステップが逐次実行され、I/O制御部324を介して副制御装
置314に基板を処理するための制御指示が送信される。副制御装置314は、主制御指
示からの制御指示に従って基板処理装置100内の各部(ヒータ338、MFC342及
びバルブ348等)の制御を行なう。これにより、上述したウエハ200(図2に示す)
の処理が行なわれる。なお、ホストコンピュータ302からの指示についても同様に上記
のレシピ実行処理が行われるようにしてもよい。
次にレシピ遷移履歴の表示について図5乃至図8に基づいて説明する。
図5にレシピ遷移履歴の表示例が示されている。図5に示すように、入出力装置306
の操作画面308に履歴表示部352a,352b,352c、要因表示部354a,3
54b,354c及び表示ボタン356が表示されている。例えばオペレータ(ユーザ)
が表示ボタン356を押下すると、上述した履歴表示部352a,352b,352c及
び要因表示部354a,354b,354cが表示されるようになっている。
ここでは、プロセスレシピ(図5の履歴表示部352a)の第3ステップ(デポ:DE
PO)から第1のサブレシピ(図5の履歴表示部352b)が呼ばれ、さらに第1のサブ
レシピから第2のサブレシピ(図5の履歴表示部352c)が呼ばれた状況を示すレシピ
遷移履歴が表示されている。
すなわち、上述した表示制御部336(図4に示す)は、任意のレシピ(本例において
はプロセスレシピ)を実行中に記憶部317に格納された他のレシピ(本例においてはサ
ブレシピ)を実行させる実行指示(本例においてはプロセスレシピのおける指示)を受け
ると、この他のレシピを実行させる実行指示が発生した要因(本例においてはステップコ
マンド)と共に他のレシピとを操作画面308に表示するように指示している。
より具体的には、プロセスレシピ(図5の履歴表示部352a)からステップコマンド
(図5の要因表示部354a)にて第一階層目のサブレシピ(図5の履歴表示部352b
のA)が呼ばれ、第一階層目のサブレシピから第二階層目のサブレシピ(図5の履歴表示
部352bのB)が呼ばれ、第二階層目のサブレシピから第三階層目のサブレシピ(図5
の履歴表示部352bのC)が呼ばれ、第三階層目のサブレシピから第四階層目のサブレ
シピ(図5の履歴表示部352bのD)が呼ばれ、第四階層目のサブレシピからステップ
コマンド(図5の要因表示部534b)にて第五階層目のサブレシピ(図5の履歴表示部
352cのE)が呼ばれている状況を表している。
このように、表示制御部336(図4に示す)は、初めに実行されたレシピ(本例にお
いてはプロセスレシピ)から実行中のレシピ(本例においてはサブレシピ)に至るまでの
履歴を操作画面308に表示し、さらにそれぞれのレシピの遷移の要因(本例においては
ステップコマンド)も操作画面308に表示するよう表示部334に指示している。
ここで、ステップコマンドとは、レシピ編集時に記載(入力)されるものであり、プロ
セスレシピ中にステップコマンドの設定されているステップでは、このステップコマンド
の内容に従ってレシピが実行される。
要因表示部352a,352bには所定のレシピが遷移するトリガー(要因)が表示さ
れる。図5においては、プロセスレシピが「ステップコマンド」によって遷移した例を示
している。なお、上記第一階層目のサブレシピから上記第四階層目のサブレシピまで重な
って表示されているが、各階層のサブレシピが呼ばれた要因もそれぞれ表示するようにし
てもよい。
なお、ステップコマンドには「RESET」,「END」,「HOLD」,「BUZZ
ER」,「JUMP(STEP)」,「SUB RECIPE」等があり、図5において
はレシピが遷移する要因(トリガー)となる「SUB RECIPE」が設定されている

「SUB RECIPE」以外のステップコマンドについて簡単に説明すると、「RE
SET」は、実行中のレシピを即時中断して「RESET」とし、「END」は、実行中
のレシピを即時中断して「ABNORMAL END」とするものである。また、「HO
LD」は、指示したステップを実行後次のステップへ移行せず、HOLD状態とし、「B
UZZER」は、BUZZERを指示してそのステップを実行し、「JUMP(STEP
)」はプロセスレシピ内の指定するステップへジャンプ(JUMP)するものである。ま
た、これらステップコマンド毎に要因を表示するかどうか指定するようにしてもかまわな
い。
また、図5においては、ステップコマンドを要因(トリガー)としてレシピが遷移した
状況を例示しているが、その他レシピが遷移する要因としては、アラーム条件、PMコマ
ンド等がある。ここで、アラーム条件とは、エラー発生時に該エラーに対する処理を「ア
ラーム条件パラメータ(テーブル)」(各エラーに対する処理をテーブルとしたもの)で
定義されるもので、PMC310(図4に示す)のエラー監視機能の1つである。また、
PMコマンドとは、PMC310が受けることのできるコマンド指示であり、外部ユニッ
トとしての入出力装置306からの指示とPMC310内部(上述したアラーム条件テー
ブル)からの指示とがある。例えば、「ABORT」等のボタンが操作画面308に設け
られ、これらのボタンが押下される場合が前者で、アラーム条件テーブルにアボートレシ
ピが設定されてる場合が後者である。
また、図5においては、プロセスレシピからサブレシピに遷移した状況を例示している
が、その他、所定のレシピに遷移できるレシピの種類として、リセットレシピ、アラーム
レシピ及びアボートレシピ等の種類がある。
ここで、アラームレシピとは、プロセスレシピに関連付けられ、異常発生時のリカバリ
処理及び危険回避(異常発生原因を取り除く処理、または、該異常発生原因を回避させる
処理等)に使用され、上述したアラーム条件テーブルの設定を使用してのみ指定可能なも
のである。なお、このアラームレシピ終了後は、プロセスレシピの呼び出し元以降のステ
ップが実行される。また、アボートレシピとは、上記アラームレシピとほぼ同様のもので
あるが、アボートレシピの終了後は、アボートレシピ最終ステップの状態が維持される。
また、リセットレシピとは、上記アボートレシピとほぼ同様のものであるが、プロセスレ
シピ実行中でなくても任意に実行することができるものである(図7を用いて後述)。
例えば図10に示す比較例のように、操作画面308にレシピの実行状況しか表示され
ていない場合、プロセスレシピからどのように遷移して該リセットレシピが実行されたの
かを把握することが出来ないが、図5のように、操作画面308にレシピ遷移履歴が表示
されれば、所定レシピのどのステップで障害が発生し、どの要因(例えばステップコマン
ド、アラーム条件及びPMコマンド)で実行中のレシピへ遷移したか等のレシピ遷移の状
況を容易に且つ迅速に把握することができる。
次に、主制御部312によって実行されるシーケンスプログラムによるシーケンス処理
について説明する。
図6は、シーケンス処理(S10)を説明するフローチャートである。本シーケンスプ
ログラムは、入出力装置306の入力部332からの入力指示やホストコンピュータ30
2からの指示によるレシピ開始指示により起動される。
図6に示すように、レシピ開始指示を受けると、ステップS100において、主制御部
312は、実行するレシピがプロセスレシピか否かを判定し、プロセスレシピである場合
はステップS105の処理に移行し、その他の場合、すなわちプロセスレシピでない場合
はステップS180の処理に移行する。
ステップS105において、主制御部312は、プロセスレシピを実行し、ステップS
110の処理に移行する。
ステップS110において、主制御部312は、実行中のプロセスレシピにステップコ
マンド、アラーム条件及びPMコマンド等によりレシピ変更指示が有るか否かを判定し、
レシピ変更指示が有ると判定した場合はステップS120の処理に移行し、レシピ変更指
示が無いと判定した場合はステップS115の処理に移行する。
ステップS115において、主制御部312は、プロセスレシピの所定ステップを実行
し、該プロセスレシピを終了させる。
ステップS120において、表示制御部336は、他のレシピに遷移する要因(トリガ
ー)を操作画面308の要因表示部354に表示し、ステップS124の処理に移行する
ステップS124において、主制御部312は、遷移後のレシピがサブレシピであるか
否かを判定し、遷移後のレシピがサブレシピである場合はステップS129の処理に移行
し、サブレシピでない場合はステップS125の処理に移行する。
ステップS129において、主制御部312は、サブレシピを実行し、ステップS13
4の処理に移行する。
ステップS134において、主制御部312は、実行中のサブレシピにステップコマン
ド、アラーム条件及びPMコマンド等によりレシピ変更指示があるか否かを監視し、レシ
ピ変更指示がある場合はステップS139の処理に移行し、レシピ変更指示がない場合は
ステップS144の処理に移行する。
ステップS139において、表示制御部336は、他のレシピに遷移する要因(トリガ
ー)を操作画面308の要因表示部354に表示し、ステップS125の処理に移行する
ステップS144において、主制御部312は、サブレシピの所定ステップを実行し、
該サブレシピを終了させ、再度ステップS105の処理に移行する。
ステップS125において、主制御部312は、遷移後のレシピがアラームレシピであ
るか否かを判定し、遷移後のレシピがアラームレシピである場合はステップS130の処
理に移行し、アラームレシピでない場合はステップS150の処理に移行する。
ステップS130において、主制御部312は、アラームレシピを実行し、ステップS
135の処理に移行する。
ステップS135において、主制御部312は、実行中のアラームレシピにステップコ
マンド、アラーム条件及びPMコマンド等によりレシピ変更指示が有るか否かを監視し、
レシピ変更指示が有る場合はステップS140の処理に移行し、レシピ変更指示が無い場
合はステップS145の処理に移行する。
ステップS140において、表示制御部336は、他のレシピに遷移する要因(トリガ
ー)を操作画面308の要因表示部354に表示し、ステップS150の処理に移行する
ステップS145において、主制御部312は、アラームレシピの所定ステップを実行
し、該アラームレシピを終了させ、再度ステップS105の処理に移行する。
ステップS150において、主制御部312は、遷移後のレシピがアボートレシピであ
るか否かを判定し、遷移後のレシピがアボートレシピである場合はステップS155の処
理に移行し、アボートレシピでない場合はステップS175の処理に移行する。
ステップS155において、主制御部312は、アボートレシピを実行し、ステップS
160の処理に移行する。
ステップS160において、主制御部312は、実行中のアボートレシピにステップコ
マンド、アラーム条件及びPMコマンド等によりレシピ変更指示が有るか否かを監視し、
レシピ変更指示が有る場合はステップS165の処理に移行し、レシピ変更指示が無い場
合はステップS170の処理に移行する。
ステップS165において、表示制御部336は、他のレシピ(リセットレシピ)に遷
移する要因(トリガー)を操作画面308の要因表示部354に表示し、ステップS18
0の処理に移行する。
ステップS170において、主制御部312は、アボートレシピの所定ステップを実行
して終了する。このとき、基板処理装置100は、安全な状態で稼働停止となっている。
また、この状態でオペレータは後述するトラブル処理を行う。
ステップS180において、主制御部312は、リセットレシピを実行し、ステップS
175の処理に移行する。
ステップS175において、主制御部312は、リセットレシピの所定ステップを実行
して終了する。このときも、基板処理装置100は安全な状態で稼働停止となっており、
オペレータは、この状態で後述するトラブル処理を行うことができる。
図7にレシピ遷移履歴の第2の表示例が示されている。
図7(a)は、リセットレシピが単独で実行された場合のレシピ遷移履歴を例示する図
であり、図7(b)は、リセットレシピが何らかの要因で他のレシピから遷移して実行さ
れた場合のレシピ遷移履歴を例示する図である。
リセットレシピとは、アラーム条件としてRESET処理が設定されており、このRE
SET処理を行なうアラームが発生したとき、もしくはステップコマンドとしてRESE
Tが設定されており、この設定ステップになったとき、もしくは操作画面308に表示さ
れたPMコマンドボタン358(後述)の操作によって表示されるRESETボタン(図
示せず)が押下されたときに実行されるものである。したがって、リセットレシピは、オ
ペレータ(ユーザ)の意思によって実行(単独実行)される場合と、プロセスレシピ等の
他のレシピから遷移して実行される場合とがある。
図7(a)に示すように、例えば、オペレータ(ユーザ)により操作画面308に表示
されたPMコマンドボタン358が操作されることによって表示されるRESETボタン
(図示せず)が押下されると、リセットレシピが実行され、該操作画面308に履歴表示
部352が表示されるようになっている。プロセスレシピが実行中でない場合にRESE
Tボタン(図示せず)が押下されるとリセットレシピが実行(単独実行)されるようにな
っており、上記同様に操作画面308に履歴表示部352が表示されるようになっている
一方、図7(b)に示すように、例えばプロセスレシピから遷移してリセットレシピが
実行されると、操作画面308に履歴表示部352a,352b,352c及び要因表示
部354a,354b,354c等が表示される。図7(b)では、プロセスレシピ(図
7(b)の履歴表示部352a)を実行中にPMコマンド(図7の要因表示部354a)
を要因としてアボートレシピ(図7の履歴表示部352b)に遷移し、さらにPMコマン
ド(図7の要因表示部354b)を要因としてリセットレシピ(図7の履歴表示部352
c)が実行している状況が表示されている。
図7(b)の画面上から、オペレータは、プロセスレシピの第1ステップからアボート
レシピが実行されアボートレシピの第1ステップからリセットレシピが実行されたことが
わかる。また、この画面上で要因がPMコマンドなので操作画面308の実行ボタンを押
下してアボートレシピやリセットレシピが実行されたことがわかる。
これらの情報から(操作画面308から)、オペレータがプロセスレシピを実行後、さ
ほど時間が経たないうちに(第1ステップの間に)不注意で(誤って)アボートレシピを
実行したため、すぐにリセットレシピを実行させるボタンを押下したと推測できる。更に
、履歴表示部352a、352b、352cはそれぞれボタンになっているので、これら
のボタンを押下することにより詳細な情報を確認することができる。
このように、リセットレシピが単独実行された場合と、何らかの要因で他のレシピから
遷移して実行された場合とでは、操作画面308に表示されるレシピ遷移履歴の表示が異
なるので、ユーザ(オペレータ)は該操作画面部308を視認することにより、実行中の
レシピ(リセットレシピ)が実行されるまでの状況を把握することができる。
上述したように、リセットレシピが単独実行されている場合は、オペレータ(ユーザ)
が自らの意思により基板処理装置100(図1に示す)の状態を把握して該リセットレシ
ピを実行させていると推測されるが、一方、プロセスレシピから遷移してリセットレシピ
が実行されている場合は、基板処理装置100にトラブル(障害等)が発生して該リセッ
トレシピが実行されていることとなる。すなわち、リセットレシピがプロセスレシピ等か
ら遷移して実行されたことが確認された場合は、早急に基板処理装置100の調査を行な
うか、あるいはメンテナンス担当者等に連絡して、早急なトラブル処置が必要となる。
なお、リセットレシピは、例えばプロセスレシピの実行状態から安全な状態で終了する
よう処理するレシピであり、リセットレシピを実行するのみで、基板処理装置100の物
理的なトラブルを復旧させることはできない。例えば基板処理装置100のバルブ348
(図4に示す)の故障でリセットレシピが実行されると、基板処理装置100は安全な状
態で終了するようになっているが、その後オペレータ(ユーザ)やメンテナンス担当者等
によるバルブ348の復旧(交換・修理等)が必要となる。同様に、例えばヒータ338
(図4に示す)の熱電対が切れた場合、リセットレシピが実行されるが、該リセットレシ
ピによりこの熱電対を復旧することはできない。トラブル処置というのは、実際にリセッ
トレシピを実行するきっかけとなった要因を取り除くための処置のことであり、具体的に
はポンプやヒータの交換・修理等の作業を含むものである。
本発明においては、リセットレシピが実行された要因(履歴)が迅速に把握できるので
、トラブル処置開始までの時間短縮が可能となり、リカバリ(復旧)処理時間の短縮を実
現することができる。
図8にレシピ遷移履歴の第3の表示例が示されている。
図8は、プロセスレシピ実行中に直接リセットレシピに遷移した場合の表示例を説明す
る図である。
図8では、プロセスレシピを実行中に該プロセスレシピの5ステップ(図8の履歴表示
部352a)で障害が発生し、アラーム条件(図8の要因表示部354)によりリセット
レシピへ遷移し、該リセットレシピの3ステップ(図8の履歴表示部352b)が実行中
である状況が操作画面308に表示されている。これにより、オペレータ(ユーザ)は、
操作画面308を視認することにより、プロセスレシピの5ステップ目で障害が発生し、
5ステップで設定していたアラーム条件によりリセットレシピに遷移し、現在リセットレ
シピの3ステップ目を実行中であると把握することができる。したがって、オペレータ(
ユーザ)は、図11によりプロセスレシピの5ステップ目のレシピ設定及び障害情報等を
確認し、5ステップ目のどこの設定で障害が発生したのかを確定し、発生した障害に最適
なリカバリ処理を行ない、再度同様の障害が発生しないよう対策をとる。このように、障
害における詳細な要因を迅速に把握することが可能であり、トラブル処置までの時間を短
縮することができ、もって装置のリカバリ(復旧)処理時間の短縮を実現することができ
る。
図11は履歴表示部352を押下すると表示される。この画面では、選択したレシピ全
てのステップのステップNo.とステップ名称が表示される。更にステップ名称を押下す
ると、メニュー画面に移行し、このメニュー画面からレシピ設定情報や障害情報が確認で
きる。なお、メニュー画面を介さずに、直接、レシピ設定情報等を表示するようにしても
よい。なお、図11の画面のESCボタンを押下すると、例えば、図8等のレシピ遷移履
歴画面に戻る。また、ステップNo.やステップ名称は処理の状況によって色を変えてい
る。未実行ステップは、灰色であり、実行中のステップは緑色と灰色のブリンク表示であ
り、実行済のステップは緑色である。
次に、図7(b)と図8のように異なる要因でリセットレシピが実行されている場合の
オペレータの操作を具体的に説明する。
図7(b)のように、オペレータがミスした場合、大きく分けてボートが処理炉内にあ
るかどうかで異なる。ボートが処理炉から降下している状態であれば、ウエハディスチャ
ージをした後、念のため装置に異常がないか確認するだけでよい。ボートが処理炉内にあ
る場合、ボートを取り出すために、処理炉内を安全な状態にする。例えば、サイクルパー
ジ等をマニュアル(手動)で行う。ボートを取り出した後、ウエハディスチャージをした
後、同様に装置に異常がないか確認するだけでよい。
図8において、アラーム発生要因を調査する。アラーム発生要因がヒータ断線であれば
ヒータを用意し、熱電対の断線であれば熱電対を用意する。操作画面308でどのステッ
プでリセットレシピが実行されたかを確認し、ボートが処理炉内にあるか否かを把握する
。ボートが処理炉から降下した状態であれば、ウエハディスチャージを行って、準備して
おいたヒータ(若しくは熱電対)を交換する。処理炉内にボートがある場合、装置の状態
を確認する。安全な状態でなければ、サイクルパージ等をマニュアル(手動)で行う。そ
して、装置を安全な状態にしてボートを降下し、引き続きウエハディスチャージを行った
後、復旧作業(ヒータ又は熱電対の交換)を行う。アラーム発生の要因でリセットレシピ
が実行されるのは、装置に重大な障害が発生していることが考えられるため、初期動作が
重要となる。本実施例では、その初期動作が迅速に行える。また、本実施例では、操作画
面308上に複数のレシピにおける遷移履歴と共にその遷移要因を表示するので、装置の
状態の把握が容易に行うことができる。よって、装置にトラブル(障害やオペレータによ
るミス等)が発生しても、リカバリ処理が容易に行えるため、装置のリカバリ処理時間を
短縮することができる。
次にステップ履歴の表示について図9に基づいて説明する。
図9にステップ履歴の表示例が示されている。
図9では、操作画面308に実行中のステップと該ステップの前後ステップとが表示さ
れている。具体的には、操作画面308にプロセスレシピにおける複数の(本図において
は5つ)ステップがステップ表示部360a,360b,360c,360d,360e
に表示されている。ステップ表示部360dは、実行中のステップであり、ステップ表示
部360a,360b,360cは、終了後の直前ステップであり、ステップ表示部36
0eは、これから実行が予定されているステップである。各ステップ表示部360a〜3
60dには、ステップ番号362、ステップID(ステップ名称)364、ステップ残時
間366及びステップ実行回数368等が表示されるようになっている。
このように、操作画面308にステップ履歴が表示されることにより、現在実行中のス
テップと該ステップの前後ステップの状況とを容易に且つ短時間で把握することができる。
以上のように、本発明によれば、複数のレシピにおける遷移履歴の表示と、ステップ履
歴の表示とにより、例えばリセットレシピが実行していたとき、該リセットレシピが単独
で実行したものか、もしくは他のレシピから何らかの要因で実行したのかを把握すること
ができるので、トラブル時に迅速な対応が可能となり、トラブル処置までの時間を短縮で
き、もって装置のリカバリ処理時間(ダウンタイム)を短縮することができる。また、基
板処理装置100内で製品(基板)が処理中であった場合、装置の状態を迅速に把握する
ことができるので、製品のロットアウトを防ぐ対処がしやすくなる。
なお、本発明は、基板処理装置として、半導体製造装置だけでなくLCD装置のような
ガラス基板を処理する装置でも適用することができる。また、成膜処理には、例えば、C
VD、PVD、酸化膜、窒化膜を形成する処理、金属を含む膜を形成する処理等を含むも
のである。また、本実施形態では、縦型装置について記載したが、枚葉装置についても同
様に適用することができる。
本発明は、半導体デバイス等の基板を処理する基板処理装置、レシピ遷移プログラム、半導体装
置の製造方法及び基板処理装置のレシピ表示方法に利用することができる。
100 基板処理装置
103 正面メンテナンス口
104 正面メンテナンス扉
105 回転式ポッド棚
110 ポッド
111 筐体
111a 正面壁
112 ポッド搬入搬出口
113 フロントシャッタ
114 ロードポート
115 ボートエレベータ
116 支柱
117 棚板
118 ポッド搬送装置
118a ポッドエレベータ
118b ポッド搬送機構
119 サブ筐体
119a サブ筐体の正面壁
120 ウエハ搬入搬出口
121 ポッドオープナ
122 載置台
123 キャップ着脱機構
124 移載室
125 ウエハ移載機構
125a ウエハ移載装置
125b ウエハ移載装置エレベータ
125c ツイーザ
126 待機部
128 アーム
133 クリーンエア
134 クリーンユニット
135 ノッチ合わせ装置
147 炉口シャッタ
200 ウエハ
202 処理炉
217 ボート
219 シールキャップ
300 基板処理システム
302 ホストコンピュータ
304 通信回線
306 入出力装置
308 操作画面
310 PMC
312 主制御部
314 副制御部
316 CPU
317 記憶部
318 ROM
320 RAM
322 送受信処理部
324 I/O制御部
326 温度制御部
328 ガス制御部
330 圧力制御部
332 入力部
334 表示部
335 一時記憶部
336 表示制御部
338 ヒータ
340 ガス配管
342 MFC
344 排気配管
346 圧力センサ
348 バルブ
352 履歴表示部
354 要因表示部
356 表示ボタン
358 RESETボタン
360 ステップ表示部
362 ステップ番号
364 ステップID
366 ステップ残時間
368 ステップ実行回数

Claims (10)

  1. 各レシピ間の遷移履歴を操作画面に表示させる際に、
    プロセスレシピ、サブレシピ、アラームレシピ、アボートレシピ、リセットレシピのうち少なくとも一つのレシピを含み、複数のステップから構成されるレシピのうち実行された任意のレシピを前記操作画面に表示させ、
    前記任意のレシピ実行中に、前記レシピのうち前記任意のレシピとは異なる他のレシピを実行させる実行指示を受けると、前記他のレシピを実行させる実行指示を発生させた要因を、前記任意のレシピを構成するステップのうち前記要因が発生した際に実行されていたステップのステップ名称と共に前記操作画面に表示させ、
    前記要因に応じて実行された前記他のレシピを構成するステップのうち現在実行中のステップのステップ名称、前記要因及び前記要因が発生した際に実行されていたステップのステップ名称と、を前記操作画面に表示させる表示制御部を備えた基板処理装置であって、
    前記表示制御部は、
    前記任意のレシピが、前記プロセスレシピの場合、前記プロセスレシピから遷移して、前記サブレシピ、前記アラームレシピ、前記アボートレシピ、前記リセットレシピから選択される少なくとも一つの前記他のレシピが実行されている状況を前記操作画面に表示させ、前記任意のレシピが、前記リセットレシピの場合、前記他のレシピを前記操作画面に表示させない基板処理装置。
  2. 前記表示制御部は、
    前記任意のレシピが、前記プロセスレシピの場合、前記プロセスレシピから遷移して前記リセットレシピが実行されている状況を前記操作画面に表示させ、
    前記任意のレシピが、前記リセットレシピの場合、前記他のレシピを前記操作画面に表示させない請求項1の基板処理装置。
  3. 記任意のレシピが前記プロセスレシピの場合、
    前記表示制御部は、前記プロセスレシピ実行中に、アラームが発生した場合、
    前記プロセスレシピを構成するステップのうち前記アラームが発生した際に実行されていたステップのステップ名称と、前記アラームと、実行されたリセットレシピを構成するステップのうち現在実行中のステップのステップ名称と、
    を前記操作画面に表示させる請求項の基板処理装置。
  4. 記任意のレシピが前記プロセスレシピの場合、
    前記表示制御部は、
    前記プロセスレシピ実行中に、前記アボートレシピを実行する実行ボタンが押下されると、前記プロセスレシピを構成するステップのうち前記実行ボタンが押下されて発行されるPMコマンドが実行されていたステップのステップ名称と、前記PMコマンドと、実行された前記アボートレシピを前記操作画面に表示させ、
    前記アボートレシピ実行中に、前記リセットレシピを実行する実行ボタンが押下されると、前記アボートレシピを構成するステップのうち前記実行ボタンが押下されて発行されるPMコマンドが実行されていたステップのステップ名称と、前記PMコマンドと、実行された前記リセットレシピを前記操作画面に表示させ、
    前記リセットレシピを構成するステップのうち現在実行中のステップのステップ名称と、
    を表示させる請求項1の基板処理装置。
  5. 記任意のレシピが前記プロセスレシピの場合、
    前記表示制御部は、前記プロセスレシピを構成するステップのうちサブレシピを実行するステップに到達すると、
    前記サブレシピを実行するためのステップのステップ名称と、前記サブレシピを実行するためのコマンドと、実行されたサブレシピを構成するステップのうち現在実行中のステップのステップ名称と、
    を前記操作画面に表示させる請求項1の基板処理装置。
  6. 前記表示制御部は、
    前記プロセスレシピを実行中に前記他のレシピを実行させる実行指示を受けると、前記他のレシピを実行させる実行指示が発生した際に実行していたステップのステップ名称と、前記他のレシピを実行させる実行指示を発生させた要因と、実行された前記他のレシピのうち現在実行中のステップのステップ名称と、を前記操作画面に表示させる請求項1の基板処理装置。
  7. 前記表示制御部は、
    前記プロセスレシピが実行されると、前記プロセスレシピを含む各レシピ間の遷移履歴を操作画面に表示させると共に、
    前記プロセスレシピを構成するステップのうち現在実行中のステップのステップ名称と前記現在実行中のステップの少なくとも前後のステップ名称と、を前記操作画面に表示させる請求項6の基板処理装置。
  8. 各レシピ間の遷移履歴を操作画面に表示させる表示制御部を備えた基板処理装置で実行されるレシピ遷移プログラムあって、
    プロセスレシピ、サブレシピ、アラームレシピ、アボートレシピ、リセットレシピのうち少なくとも一つのレシピを含み、複数のステップから構成されるレシピのうち実行された任意のレシピを前記操作画面に表示させる処理と、
    前記任意のレシピ実行中に、前記レシピのうち前記任意のレシピとは異なる他のレシピを実行させる実行指示を受けると、前記他のレシピを実行させる実行指示を発生させた要因を、前記任意のレシピを構成するステップのうち前記要因が発生した際に実行されていたステップのステップ名称と共に前記操作画面に表示させる処理と、
    前記要因に応じて実行された前記他のレシピを構成するステップのうち現在実行中のステップのステップ名称、前記要因及び前記要因が発生した際に実行されていたステップのステップ名称と、を前記操作画面に表示させる処理と、
    を有し、
    前記表示制御部に、
    前記任意のレシピが、前記プロセスレシピの場合、前記プロセスレシピから遷移して、前記サブレシピ、前記アラームレシピ、前記アボートレシピ、前記リセットレシピから選択される少なくとも一つの前記他のレシピが実行されている状況を前記操作画面に表示させるようにし、前記任意のレシピが、前記リセットレシピの場合、前記他のレシピを前記操作画面に表示させないようにするレシピ遷移プログラム。
  9. 基板を処理する基板処理工程と、各レシピ間の遷移履歴を操作画面に表示させる表示工程と、を有し、
    前記表示工程では、
    プロセスレシピ、サブレシピ、アラームレシピ、アボートレシピ、リセットレシピのうち少なくとも一つのレシピを含み、複数のステップから構成されるレシピのうち実行された任意のレシピを前記操作画面に表示させ、
    前記任意のレシピ実行中に、前記レシピのうち前記任意のレシピとは異なる他のレシピを実行させる実行指示を受けると、前記他のレシピを実行させる実行指示を発生させた要因を、前記任意のレシピを構成するステップのうち前記要因が発生した際に実行されていたステップのステップ名称と共に前記操作画面に表示させ、
    前記要因に応じて実行された前記他のレシピを構成するステップのうち現在実行中のステップのステップ名称、前記要因及び前記要因が発生した際に実行されていたステップのステップ名称と、を前記操作画面に表示させる半導体装置の製造方法であって、
    前記表示工程では更に、
    前記任意のレシピが、前記プロセスレシピの場合、前記プロセスレシピから遷移して、前記サブレシピ、前記アラームレシピ、前記アボートレシピ、前記リセットレシピから選択される少なくとも一つの前記他のレシピが実行されている状況を前記操作画面に表示させ、前記任意のレシピが、前記リセットレシピの場合、前記他のレシピを前記操作画面に表示させない半導体装置の製造方法
  10. 各レシピ間の遷移履歴を操作画面に表示させる際に、
    プロセスレシピ、サブレシピ、アラームレシピ、アボートレシピ、リセットレシピのうち少なくとも一つのレシピを含み、複数のステップから構成されるレシピのうち実行された任意のレシピを前記操作画面に表示させ、
    前記任意のレシピ実行中に、前記レシピのうち前記任意のレシピとは異なる他のレシピを実行させる実行指示を受けると、前記他のレシピを実行させる実行指示を発生させた要因を、前記任意のレシピを構成するステップのうち前記要因が発生した際に実行されていたステップのステップ名称と共に前記操作画面に表示させ、
    前記要因に応じて実行された前記他のレシピを構成するステップのうち現在実行中のステップのステップ名称、前記要因及び前記要因が発生した際に実行されていたステップのステップ名称と、を前記操作画面に表示させる表示制御部を備えた基板処理装置のレシピ表示方法であって、
    前記表示制御部は、
    前記任意のレシピが、前記プロセスレシピの場合、前記プロセスレシピから遷移して、前記サブレシピ、前記アラームレシピ、前記アボートレシピ、前記リセットレシピから選択される少なくとも一つの前記他のレシピが実行されている状況を前記操作画面に表示させ、前記任意のレシピが、前記リセットレシピの場合、前記他のレシピを前記操作画面に表示させない基板処理装置のレシピ表示方法



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Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4796574B2 (ja) * 2006-02-07 2011-10-19 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置の制御装置および基板処理装置の制御プログラム
US8150541B2 (en) 2007-11-13 2012-04-03 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Methods and apparatus to modify a recipe process flow associated with a process control system during recipe execution
US8825189B2 (en) * 2007-11-13 2014-09-02 Fisher Rosemount Systems, Inc. Methods and apparatus to execute an auxiliary recipe and a batch recipe associated with a process control system
US8555206B2 (en) * 2007-12-21 2013-10-08 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Methods and apparatus to present recipe progress status information
JP4486692B2 (ja) 2008-03-14 2010-06-23 株式会社日立国際電気 基板処理装置
US9348339B2 (en) 2010-09-29 2016-05-24 Mks Instruments, Inc. Method and apparatus for multiple-channel pulse gas delivery system
US10353408B2 (en) * 2011-02-25 2019-07-16 Mks Instruments, Inc. System for and method of fast pulse gas delivery
US10031531B2 (en) 2011-02-25 2018-07-24 Mks Instruments, Inc. System for and method of multiple channel fast pulse gas delivery
US10126760B2 (en) 2011-02-25 2018-11-13 Mks Instruments, Inc. System for and method of fast pulse gas delivery
JP5570468B2 (ja) * 2011-04-14 2014-08-13 パナソニック株式会社 プラズマ処理装置及び残留ガスの排気方法
US10918112B2 (en) 2013-05-23 2021-02-16 Duke Manufacturing Co. Dough preparation apparatus and methods
EP2999999A4 (en) 2013-05-23 2017-03-29 Duke Manufacturing Co. Food preparation apparatus and methods
JP5709286B2 (ja) * 2014-02-26 2015-04-30 株式会社日立国際電気 基板処理装置、基板処理装置の制御方法及び半導体装置の製造方法
JP6448957B2 (ja) * 2014-09-11 2019-01-09 住友化学株式会社 基板処理装置の制御装置および基板処理制御プログラム
CN109073879A (zh) 2016-01-11 2018-12-21 元素科学雷射有限责任公司 在样品处理过程中的同步图案扫描布局
WO2018182502A1 (en) * 2017-03-31 2018-10-04 Neitas Pte. Ltd. Information processing device
WO2018182503A1 (en) * 2017-03-31 2018-10-04 Neitas Pte. Ltd. Information processing device
KR102389689B1 (ko) * 2017-09-04 2022-04-22 가부시키가이샤 코쿠사이 엘렉트릭 기판 처리 장치, 기판 처리 장치의 이상 감시 방법, 및 기록 매체에 저장된 프로그램
CN109960496A (zh) * 2017-12-25 2019-07-02 北京创昱科技有限公司 设备控制方法、装置、电子设备和存储介质
KR101930456B1 (ko) 2018-05-03 2018-12-18 주식회사 유진테크 기판 처리 시스템
CN113424294B (zh) * 2019-03-20 2024-01-23 株式会社国际电气 制程生成方法、半导体器件的制造方法、基板处理装置及记录介质
KR102418948B1 (ko) 2020-11-24 2022-07-11 주식회사 유진테크 기판 처리 시스템

Family Cites Families (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05135064A (ja) * 1991-11-11 1993-06-01 Kokusai Electric Co Ltd 半導体製造装置とその制御方法及び制御装置
JPH08222887A (ja) 1995-02-11 1996-08-30 Sony Corp 製品製造変更履歴・不良履歴管理システム
US5591299A (en) * 1995-04-28 1997-01-07 Advanced Micro Devices, Inc. System for providing integrated monitoring, control and diagnostics functions for semiconductor spray process tools
JPH0982589A (ja) * 1995-09-18 1997-03-28 Kokusai Electric Co Ltd 半導体製造装置の処理システム
JPH09134857A (ja) * 1995-11-09 1997-05-20 Kokusai Electric Co Ltd 半導体製造における異常対策処理方法
WO1997047032A1 (en) * 1996-06-07 1997-12-11 Tokyo Electron Limited Device for controlling treating station
US6115034A (en) * 1997-01-31 2000-09-05 Canon Kabushiki Kaisha Step managing apparatus and method
US6148244A (en) * 1998-04-13 2000-11-14 Intellution, Inc. Equipment pathing and unit allocation for a process control system
JP4489853B2 (ja) 1998-09-01 2010-06-23 株式会社日立国際電気 半導体製造装置
US6629003B1 (en) * 1998-12-04 2003-09-30 Vector Corporation Batch processing control system recipe management and batch information system
JP2000208385A (ja) * 1999-01-18 2000-07-28 Kokusai Electric Co Ltd 半導体処理方法
JP2000260674A (ja) * 1999-03-09 2000-09-22 Toshiba Corp 製造装置の動作分析方法並びにその方法を実施するための製造装置
US6952808B1 (en) * 1999-07-01 2005-10-04 Honeywell Inc. Process variable gauge interface and methods regarding same
US6834370B1 (en) * 1999-07-08 2004-12-21 Osi Software, Inc. Method for creating master recipes
JP2001230209A (ja) 2000-02-16 2001-08-24 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
US6625512B1 (en) * 2000-07-25 2003-09-23 Advanced Micro Devices, Inc. Method and apparatus for performing final critical dimension control
US6646660B1 (en) * 2000-09-29 2003-11-11 Advanced Micro Devices Inc. Method and apparatus for presenting process control performance data
US7065714B1 (en) * 2000-10-13 2006-06-20 Oracle International Corporation Graphical user interface for navigation, viewing and maintenance of recipes
US6671570B2 (en) * 2000-10-17 2003-12-30 Brooks Automation, Inc. System and method for automated monitoring and assessment of fabrication facility
JP2003099113A (ja) * 2001-09-21 2003-04-04 Olympus Optical Co Ltd 一括管理装置
WO2003027785A1 (fr) * 2001-09-21 2003-04-03 Olympus Corporation Dispositif de gestion en mode de traitement par lots
JP2003229409A (ja) * 2002-02-05 2003-08-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体基板処理方法
JP2003272985A (ja) * 2002-03-19 2003-09-26 Tokyo Electron Ltd 処理レシピ作成方法及び処理レシピ作成装置
JP2003303008A (ja) * 2002-04-10 2003-10-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 工程管理方法
TWI328164B (en) * 2002-05-29 2010-08-01 Tokyo Electron Ltd Method and apparatus for monitoring tool performance
US20040019393A1 (en) * 2002-07-25 2004-01-29 Eileen Heider System and method for model base control
US6907308B1 (en) * 2002-08-02 2005-06-14 Advanced Micro Devices, Inc. Remote wafer flow and recipe editor for simiconductor processing control
JP4694843B2 (ja) * 2002-09-30 2011-06-08 東京エレクトロン株式会社 半導体製作プロセスの監視とコンロトールのための装置
US7877161B2 (en) * 2003-03-17 2011-01-25 Tokyo Electron Limited Method and system for performing a chemical oxide removal process
JP2005072259A (ja) * 2003-08-25 2005-03-17 Nikon Corp 基板処理装置及びエラー処理方法
JP2005294460A (ja) * 2004-03-31 2005-10-20 Tokyo Electron Ltd 塗布、現像装置
US7369913B2 (en) * 2004-04-02 2008-05-06 Siemens Medical Solutions Usa, Inc. Recipe editor and controller
KR100753463B1 (ko) * 2004-04-23 2007-08-31 동경 엘렉트론 주식회사 기판 세정 방법, 기판 세정 장치 및 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체
US7191082B2 (en) * 2005-01-19 2007-03-13 Tokyo Electron Limited Method of inspecting substrate processing apparatus, and storage medium storing inspection program for executing the method
US7477960B2 (en) * 2005-02-16 2009-01-13 Tokyo Electron Limited Fault detection and classification (FDC) using a run-to-run controller
US7676295B2 (en) * 2005-02-18 2010-03-09 Lam Research Corporation Processing information management in a plasma processing tool
JP4534972B2 (ja) * 2005-03-30 2010-09-01 エプソンイメージングデバイス株式会社 電気光学装置、及び電子機器
JP2006287061A (ja) * 2005-04-01 2006-10-19 Canon Inc 露光装置及びそのパラメータ設定方法
JP4620524B2 (ja) * 2005-05-17 2011-01-26 株式会社日立ハイテクノロジーズ プラズマ処理装置
US20070012337A1 (en) * 2005-07-15 2007-01-18 Tokyo Electron Limited In-line metrology for supercritical fluid processing
US20070038324A1 (en) * 2005-08-11 2007-02-15 Asm Japan K.K. Recipe operation using group function and/or subroutine function
US20070199655A1 (en) * 2006-02-28 2007-08-30 Tokyo Electron Limited Substrate processing apparatus, method for modifying substrate processing conditions and storage medium
US7522968B2 (en) * 2006-07-10 2009-04-21 Applied Materials, Inc. Scheduling method for processing equipment
JP5273697B2 (ja) * 2006-08-01 2013-08-28 東京エレクトロン株式会社 サーバ装置およびプログラム
JP4942174B2 (ja) * 2006-10-05 2012-05-30 東京エレクトロン株式会社 基板処理システムの処理レシピ最適化方法,基板処理システム,基板処理装置
US20080115077A1 (en) * 2006-11-09 2008-05-15 International Business Machines Corporation Persistent status indicator for calendar
JP5005388B2 (ja) * 2007-03-01 2012-08-22 東京エレクトロン株式会社 熱処理システム、熱処理方法、及び、プログラム
US8369975B2 (en) * 2007-09-21 2013-02-05 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Online recipe synchronization in a real-time batch executive environment
US20090114150A1 (en) * 2007-11-05 2009-05-07 Hitachi Kokusai Electric Inc. Substrate processing apparatus
US8555206B2 (en) * 2007-12-21 2013-10-08 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Methods and apparatus to present recipe progress status information
JP5220447B2 (ja) * 2008-03-17 2013-06-26 東京エレクトロン株式会社 基板処理システムの洗浄方法、記憶媒体及び基板処理システム

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