JP5754178B2 - インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置 - Google Patents
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Description
ABO3
(式中、Aは、Sr、Ba、Ca又はLaであり、Bは、Ru、Co又はNiである。)
で表される化合物を主成分とする複合金属酸化物であることが好ましい。このような複合金属酸化物の具体例としては、SrRuO3、CaRuO3、(Sr1−xCax)RuO3、LaNiO3、SrCoO3、(La1−ySry)(Ni1−yCoy)O3等が挙げられる。
ABO3
(式中、Aは、Pb、Ba又はSrであり、Bは、Ti、Zr、Sn、Ni、Zn、Mg又はNbである。)
で表される化合物を主成分とする。このような複合金属酸化物の具体例としては、(Pb1−xBax)(Zr,Ti)O3、(Pb1−xSrx)(Zr,Ti)O3が挙げられる。これらは、PZTのPbの一部をBa又はSrで置換した化合物である。PZTのPbは、2価の元素により置換することができ、熱処理中の鉛の蒸発による特性の劣化を低減させることができる。
ABO3
(式中、Aは、Sr、Ba、Ca又はLaであり、Bは、Ru、Co又はNiである。)
で表される化合物を主成分とする複合金属酸化物であることが好ましい。このような複合金属酸化物の具体例としては、SrRuO3、CaRuO3、(Sr1−xCax)RuO3、LaNiO3、SrCoO3、(La1−ySry)(Ni1−yCoy)O3等が挙げられる。
酢酸鉛三水和物をメトキシエタノールに溶解させた後、脱水し、酢酸鉛三水和物のメトキシエタノール溶液を得た。一方、イソプロポキシドチタン、イソプロポキシドジルコニウムをメトキシエタノールに溶解させた後、アルコール交換反応及びエステル化反応を進行させた。次に、酢酸鉛三水和物のメトキシエタノール溶液を加え、0.5mol/LのPZT前駆体溶液を得た。このとき、熱処理中のいわゆる鉛抜けによる結晶性の低下を防ぐため、化学量論組成に対して、鉛を10mol%過剰にした。
シリコンウェハ上に、膜厚が1μmの熱酸化膜(振動板112a)を形成し、熱酸化膜上に、膜厚が50nmのチタン膜、膜厚が200nmの白金膜及び膜厚が100nmのSrRuO3膜の積層体をスパッタにより成膜した。
Al2O3膜(絶縁膜131)及びZrO2膜(絶縁膜132)の膜厚を20nmとした以外は、実施例1と同様にして、インクジェットヘッド100を得た。絶縁膜132は、絶縁膜133が形成されていない領域の膜厚が9nmとなった。
Al2O3膜(絶縁膜131)及びZrO2膜(絶縁膜132)の膜厚を100nmとした以外は、実施例1と同様にして、インクジェットヘッド100を得た。絶縁膜132は、絶縁膜133が形成されていない領域の膜厚が25nmとなった。
ZrO2膜(絶縁膜132)を成膜しなかった以外は、実施例1と同様にして、インクジェットヘッドを得た。
実施例1〜3及び比較例1のインクジェットヘッドの電気特性を評価した。次に、80℃、85%RHの環境下にインクジェットヘッドを100時間放置した後に、電気特性を評価した。
実施例1〜3及び比較例1のインクジェットヘッドの共通電極121と個別電極123の間に、単純Push波形により−10〜−30Vの電圧を印加し、粘度が5cpであるインクの吐出状況を評価した。なお、インクを吐出できる場合を○、インクを吐出できない場合を×として、判定した。
110 液室
111 ノズル基板
111a ノズル
112 液室基板
112a 振動板
112b 隔壁
120 圧電素子
121 共通電極
122 圧電体
123 個別電極
131、132、133、134 絶縁層
131a、132a、133a 開口部
131b、132b、133b 開口部
134a、134b コンタクトホール
140、150 配線
Claims (7)
- 複数のノズルが形成されているノズル基板と、前記ノズル基板上に配置されている振動板の間の空間が隔壁により隔てられている複数の液室を有するインクジェットヘッドであって、
前記振動板の前記隔壁により隔てられている空間上に、共通電極、圧電体及び個別電極が順次積層されている圧電素子が形成されており、
前記共通電極は、前記隔壁上に延在しており、
前記圧電素子が形成されている前記振動板上に、第一の開口部が形成されている第一の絶縁膜及び第二の開口部が形成されている第二の絶縁膜が順次積層されており、
前記第二の絶縁膜の前記共通電極の一部を含む領域上に第一の配線が形成されており、
前記第一の配線は、前記第一の開口部及び前記第二の開口部を介して、前記個別電極と電気的に接続されており、
前記第二の絶縁膜と前記第一の配線を含む領域との間に、第三の開口部が形成されている第三の絶縁膜が形成されており、
前記第一の配線は、前記第三の開口部をさらに介して、前記個別電極と電気的に接続されており、
前記第一の配線上に、第四の開口部が形成されている第四の絶縁膜が形成されており、
前記第一の配線は、前記第四の開口部を介して、駆動回路と電気的に接続されており、
前記第三の絶縁膜及び前記第四の絶縁膜は、前記隔壁により隔てられている空間上の前記第一の配線を含む領域を除く領域に形成されておらず、
前記第二の絶縁膜は、前記第三の絶縁膜が形成されている領域の膜厚が前記第三の絶縁膜が形成されていない領域の膜厚よりも大きいことを特徴とするインクジェットヘッド。 - 前記第三の絶縁膜及び前記第四の絶縁膜は、エッチングすることにより形成されており、
前記第二の絶縁膜は、前記エッチングする際のマスク層であることを特徴とする請求項1に記載のインクジェットヘッド。 - 前記第二の絶縁膜は、ALD法により形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のインクジェットヘッド。
- 前記第二の絶縁膜は、前記第三の絶縁膜が形成されていない領域の膜厚が5nm以上40nm以下であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のインクジェットヘッド。
- 前記第一の絶縁膜は、膜厚が20nm以上100nm以下であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載のインクジェットヘッド。
- 前記第一の絶縁膜は、ALD法により形成されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載のインクジェットヘッド。
- 請求項1乃至6のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドを有することを特徴とするインクジェット記録装置。
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