JP6414744B2 - 電気機械変換素子、液滴吐出ヘッドおよび画像形成装置 - Google Patents
電気機械変換素子、液滴吐出ヘッドおよび画像形成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6414744B2 JP6414744B2 JP2014251811A JP2014251811A JP6414744B2 JP 6414744 B2 JP6414744 B2 JP 6414744B2 JP 2014251811 A JP2014251811 A JP 2014251811A JP 2014251811 A JP2014251811 A JP 2014251811A JP 6414744 B2 JP6414744 B2 JP 6414744B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diffraction intensity
- peak
- plane
- peaks
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14233—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/1051—Piezoelectric or electrostrictive devices based on piezoelectric or electrostrictive films or coatings
- H10N30/10513—Piezoelectric or electrostrictive devices based on piezoelectric or electrostrictive films or coatings characterised by the underlying bases, e.g. substrates
- H10N30/10516—Intermediate layers, e.g. barrier, adhesion or growth control buffer layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/20—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators
- H10N30/204—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators using bending displacement, e.g. unimorph, bimorph or multimorph cantilever or membrane benders
- H10N30/2047—Membrane type
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/80—Constructional details
- H10N30/85—Piezoelectric or electrostrictive active materials
- H10N30/853—Ceramic compositions
- H10N30/8548—Lead based oxides
- H10N30/8554—Lead zirconium titanate based
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/03—Specific materials used
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/01—Manufacture or treatment
- H10N30/07—Forming of piezoelectric or electrostrictive parts or bodies on an electrical element or another base
- H10N30/074—Forming of piezoelectric or electrostrictive parts or bodies on an electrical element or another base by depositing piezoelectric or electrostrictive layers, e.g. aerosol or screen printing
- H10N30/077—Forming of piezoelectric or electrostrictive parts or bodies on an electrical element or another base by depositing piezoelectric or electrostrictive layers, e.g. aerosol or screen printing by liquid phase deposition
- H10N30/078—Forming of piezoelectric or electrostrictive parts or bodies on an electrical element or another base by depositing piezoelectric or electrostrictive layers, e.g. aerosol or screen printing by liquid phase deposition by sol-gel deposition
Description
図1は本実施形態に係る液滴吐出ヘッドの概略構成の一例を示す断面図である。本実施形態の液滴吐出ヘッドは、基板401、振動板402、ノズル板403、加圧液室(圧力室)404、下部電極としての第1電極405、電気機械変換膜としてのPZT膜406、上部電極としての第2電極407などを備える。加圧液室404は、基板401に形成された隔壁部401aと、振動板402と、ノズル板403とで囲まれるように形成され、ノズル板403のノズル403aに連通している。
χstdを上記範囲とすることで、上記電気機械変換素子の初期の歪変位を十分に大きくできるとともに、連続駆動させた後も歪変位が大きく低下しないようにすることができる。
ωstdを上記範囲とすることで、上記電気機械変換素子の初期の歪変位を十分に大きくできるとともに、連続駆動させた後も歪変位が大きく低下しないようにすることができる。
基板としての6インチシリコンウェハ上に、振動板としてSiO2膜(膜厚:約1.0[μm])を形成した。このSiO2膜上に、スパッタ法により350[℃]でTi膜(膜厚:約20[nm])成膜し、RTA(急速熱処理)により750[℃]で熱酸化した。引き続き、第1電極(下部電極)としてPt膜(膜厚:約160[nm])をスパッタ法により約300[℃]で成膜した。Ti膜を熱酸化したTiO2膜は、SiO2膜とPt膜との間の密着層としての役割を持つ。
振動板としてSiO2膜の上に成膜したTi膜の膜厚を約50[nm]にしたこと、PZT膜の成膜後の熱分解温度を350℃にしたこと以外は実施例1と同じ方法で液滴吐出ヘッドを作製した。
振動板としてSiO2膜の上に成膜したTi膜の、膜厚を約50[nm]、成膜温度を500℃にしたこと、PZT膜の成膜後の熱分解温度を350℃にしたこと以外は実施例1と同じ方法で液滴吐出ヘッドを作製した。
振動板としてSiO2膜の上に成膜したTi膜の成膜温度を500[℃]、PZT膜の成膜後における、乾燥温度を140[℃]、熱分解温度を350℃にしたこと以外は実施例1と同じ方法で液滴吐出ヘッドを作製した。
振動板としてSiO2膜の上に成膜したTi膜の、膜厚を約50[nm]、成膜温度を500℃にしたこと以外は実施例1と同じ方法で液滴吐出ヘッドを作製した。
[実施例6]
振動板としてSiO2膜の上に成膜したTi膜の成膜温度を500[℃]、PZT膜の成膜後における乾燥温度を140[℃]とした以外は実施例1と同じ方法で液滴吐出ヘッドを作製した。
振動板としてSiO2膜の上に成膜したTi膜の成膜後、第1酸化物層としてのPbTiO3層の代わりに、下地層となるTiO2層をスパッタ法により5[nm]成膜した以外は実施例1と同じ方法で液滴吐出ヘッドを作製した。
(態様A)
基板又は下地膜上に直接又は間接的に形成された下部電極と、前記下部電極上に形成された{100}面に優先配向されたペロブスカイト結晶構造を有する圧電体からなる電気機械変換膜と、前記電気機械変換膜上に形成された上部電極とを備える電気機械変換素子において、前記電気機械変換膜が、X線回折のθ−2θ法による測定で得られた回折強度のピークのうち{200}面に対応する回折強度のピークにおいて回折強度が最大となる位置(2θ)で、あおり角(χ)を振った測定により得られる回折強度のピークがピーク分離により3つのピークに分離することができ、前記3つのピークのそれぞれにおいて回折強度が最大となる位置での回折強度をそれぞれpeak1、peak2、peak3とし、前記3つのピークの半値幅をそれぞれσ1、σ2、σ3としたときに、peak1、peak2、peak3をそれぞれσ1、σ2、σ3の重みとしたσ1、σ2、σ3の加重平均FWHMstd(χ)(=(σ1×peak1+σ2×peak2+σ3×peak3)/(peak1+peak2+peak3))が12°以下である。
上記電気機械変換膜の結晶成長方向のばらつきが少ないと、上記電気機械変換膜においてあおり角を振った測定で得た回折強度のピークの半値幅が狭くなる。結晶成長方向のばらつきが少なければ、圧電効果によって上記電気機械変換膜を有する電気機械変換素子の歪変位が大きくなる。つまり、上記半値幅によって、電気機械変換膜を有する電気機械変換素子の歪変位の大小を判断できる。
上記電気機械変換膜において、あおり角を振った測定で得た回折強度のピークが、1つの結晶面に対応するピークの半値幅は、上記電気機械変換膜を有する電気機械変換素子の歪変位の大小と相関がある。しかし、上記あおり角を振った測定で得た回折強度のピークが、複数の結晶面に対応するピークが重なり合って1つのピークのようになったものである場合、ピーク分離をせずに半値幅を求めても電気機械変換素子の歪変位の大小を正確に判断できない。上記場合に、ピーク分離した後の各ピークに対する半値幅を各ピークにおける最大回折強度をそれぞれ重みとして加重平均したもの(FWHMstd(χ))を半値幅とすることで、電気機械変換素子の歪変位の大小を正確に判断することができる。各ピークの重みとして各ピークにおける最大回折強度を用いたのは、ピークの最大回折強度が小さければ、そのピークに対応する結晶面の、電気機械変換素子の歪変位への寄与度が小さくなるからである。上記半値幅の加重平均FWHMstd(χ)が12°以下の電気機械変換膜では、膜の厚さ方向において結晶の組成変化が少なく、上記電気機械変換膜を有する電気機械変換素子の歪変位を十分に大きくができる(圧電定数の範囲が−120〜−160[pm/V])ことを実験により確認した。
基板又は下地膜上に直接又は間接的に形成された下部電極と、前記下部電極上に形成された{100}面に優先配向されたペロブスカイト結晶構造を有する圧電体からなる電気機械変換膜と、前記電気機械変換膜上に形成された上部電極とを備える電気機械変換素子において、前記電気機械変換膜が、{200}面でX線回折のロッキングカーブ法による測定を行って得られた回折強度のピークにsinωを乗じて照射面積補正したものがピーク分離により3つのピークに分離することができ、前記3つのピークのそれぞれにおいて回折強度が最大となる位置での回折強度をそれぞれpeak1'、peak2'、peak3'とし、前記3つのピークの半値幅をそれぞれσ1'、σ2'、σ3'としたときに、peak1'、peak2'、peak3'をそれぞれσ1'、σ2'、σ3'の重みとしたσ1'、σ2'、σ3'の加重平均FWHMstd(ω)(=(σ1'×peak1'+σ2'×peak2'+σ3'×peak3')/(peak1'+peak2'+peak3'))が10°以下である。
上記電気機械変換膜の厚さ方向において結晶の組成変化が少ないと、上記電気機械変換膜においてロッキングカーブ法による測定で得た回折強度のピークの半値幅が狭くなる。厚さ方向において結晶の組成変化が少なければ、圧電効果によって上記電気機械変換膜を有する電気機械変換素子の歪変位が大きくなる。つまり、上記半値幅によって、電気機械変換膜を有する電気機械変換素子の歪変位の大小を判断できる。
上記電気機械変換膜において、ロッキングカーブ法による測定で得た回折強度のピークが1つの結晶面に対応するピークの半値幅は、上記電気機械変換膜を有する電気機械変換素子の歪変位の大小と相関がある。しかし、ロッキングカーブ法による測定で得た回折強度のピークが、複数の結晶面に対応するピークが重なり合って1つのピークのようになったものである場合、ピーク分離をせずに半値幅を求めても電気機械変換素子の歪変位の大小を正確に判断できない。上記場合に、ピーク分離した後の各ピークに対する半値幅を各ピークにおける最大回折強度をそれぞれ重みとして加重平均したもの(FWHMstd(ω))を半値幅とすることで、電気機械変換素子の歪変位の大小を正確に判断することができる。各ピークの重みとして各ピークにおける最大回折強度を用いたのは、ピークの最大回折強度が小さければ、そのピークに対応する結晶面の、電気機械変換素子の歪変位への寄与度が小さくなるからである。上記半値幅を加重平均したものが10°以下の電気機械変換膜では、膜の厚さ方向において結晶の組成変化が少なく、圧電効果による歪変位を十分に大きくすることができる(圧電定数の範囲が−120〜−160[pm/V])ことを実験により確認した。
態様Aにおいて、前記3つのピークのそれぞれについて回折強度が最大となるあおり角をχ1、χ2、χ3とし、χ2が基板面に対しほぼ垂直に成長している結晶面に対応するあおり角であるとすると、χ2とχ1との差の絶対値(|χ2−χ1|)と、χ3とχ2との差の絶対値(|χ3−χ2|))と、の算術平均χstd(=((|χ2−χ1|)+(|χ3−χ2|))/2)が1°以上5°以下である。
態様Bにおいて、前記3つのピークのそれぞれにおいて回折強度が最大となる試料基板面と入射X線の角度を小さい順にω1、ω2、ω3(ω1<ω2<ω3)としたときに、ωstd=((ω2−ω1)+(ω3−ω2))/2とすると、ωstdが1°以上5°以下である。
態様A〜Dのいずれか一において、I{hkl}を{hkl}面に対応する回折強度のピークにおける回折強度、ΣIを回折強度のピークが得られる各面にそれぞれ対応する回折強度のピークにおける回折強度を合計したものとするときに、ρ{hkl}=I{hkl}/ΣIとすると、ρ{100}が0.75以上である。
ρ{hkl}が0.75よりも小さくなると、圧電効果による歪変位が十分得られないので電気機械変換素子の変位量が十分に確保できなくなる。
態様A〜Eにおいて、前記基板の裏面には掘り加工された箇所を有し、前記電気機械変換膜が、前記堀加工された箇所に拘束物がない状態でX線回折のθ−2θ法による測定で得られた回折強度のピークのうち{200}面に対応する回折強度のピークの回折強度が最大となる位置が2θ=44.45°以上44.75°以下にあり、X線回折のθ−2θ法による測定で得られた回折強度のピークのうち{200}面に対応する回折強度のピークおよび{400}面に対応する回折強度のピークがいずれも非対称な形状を有している。
態様A〜Fのいずれか一において、X線回折のθ−2θ法による測定で得られた回折強度のピークのうち{200}面に対応する回折強度のピークおよび{400}面に対応する回折強度のピークのそれぞれに対しピーク分離を行ったときに、前記ピーク分離を行った後に得られた回折強度のピークには正方晶のaドメイン構造に帰属されるピークおよび正方晶のcドメイン構造に帰属されるピークがある。
態様A〜Gのいずれか一において、前記電気機械変換膜と前記下部電極との間にはチタン酸鉛からなるシード層を備えている。
液滴を吐出するノズルと、該ノズルに連通する加圧室と、該加圧室内の液体に圧力を発生させる圧力発生手段とを備えた液滴吐出ヘッドにおいて、前記圧力発生手段として、態様A〜Hのいずれかの電気機械変換素子を備えた。
態様Iの液滴吐出ヘッドを備えた画像形成装置。
401 基板
402 振動板
403 ノズル版
404 加圧液室
405 第1電極
406 PZT膜
407 第2電極
408 第1酸化物層
409 第2酸化物層
Claims (10)
- 基板又は下地膜上に直接又は間接的に形成された下部電極と、
前記下部電極上に形成された{100}面に優先配向されたペロブスカイト結晶構造を有する圧電体からなる電気機械変換膜と、
前記電気機械変換膜上に形成された上部電極とを備える電気機械変換素子において、
前記電気機械変換膜が、X線回折のθ−2θ法による測定で得られた回折強度のピークのうち{200}面に対応する回折強度のピークにおいて回折強度が最大となる位置(2θ)で、あおり角(χ)を振った測定により得られる回折強度のピークがピーク分離により3つのピークに分離することができ、前記3つのピークのそれぞれにおいて回折強度が最大となる位置での回折強度をそれぞれpeak1、peak2、peak3とし、前記3つのピークの半値幅をそれぞれσ1、σ2、σ3としたときに、peak1、peak2、peak3をそれぞれσ1、σ2、σ3の重みとしたσ1、σ2、σ3の加重平均FWHMstd(χ)(=(σ1×peak1+σ2×peak2+σ3×peak3)/(peak1+peak2+peak3))が12°以下であることを特徴とする電気機械変換素子。 - 基板又は下地膜上に直接又は間接的に形成された下部電極と、
前記下部電極上に形成された{100}面に優先配向されたペロブスカイト結晶構造を有する圧電体からなる電気機械変換膜と、
前記電気機械変換膜上に形成された上部電極とを備える電気機械変換素子において、
前記電気機械変換膜が、{200}面でX線回折のロッキングカーブ法による測定を行って得られた回折強度のピークにsinωを乗じて照射面積補正したものがピーク分離により3つのピークに分離することができ、前記3つのピークのそれぞれにおいて回折強度が最大となる位置での回折強度をそれぞれpeak1'、peak2'、peak3'とし、前記3つのピークの半値幅をそれぞれσ1'、σ2'、σ3'としたときに、peak1'、peak2'、peak3'をそれぞれσ1'、σ2'、σ3'の重みとしたσ1'、σ2'、σ3'の加重平均FWHMstd(ω)(=(σ1'×peak1'+σ2'×peak2'+σ3'×peak3')/(peak1'+peak2'+peak3'))が10°以下であることを特徴とする電気機械変換素子。 - 請求項1に記載の電気機械変換素子において、
前記3つのピークのそれぞれについて回折強度が最大となるあおり角をχ1、χ2、χ3とし、χ2が基板面に対しほぼ垂直に成長している結晶面に対応するあおり角であるとすると、χ2とχ1との差の絶対値(|χ2−χ1|)と、χ3とχ2との差の絶対値(|χ3−χ2|))と、の算術平均χstd(=((|χ2−χ1|)+(|χ3−χ2|))/2)が1°以上5°以下であることを特徴とする電気機械変換素子。 - 請求項2に記載の電気機械変換素子において、
前記3つのピークのそれぞれにおいて回折強度が最大となる試料基板面と入射X線の角度を小さい順にω1、ω2、ω3(ω1<ω2<ω3)としたときに、ωstd=((ω2−ω1)+(ω3−ω2))/2とすると、ωstdが1°以上5°以下であることを特徴とする電気機械変換素子。 - 請求項1乃至4のいずれか一の電気機械変換素子において、
I{hkl}を{hkl}面に対応する回折強度のピークにおける回折強度、ΣIを回折強度のピークが得られる各面にそれぞれ対応する回折強度のピークにおける回折強度を合計したものとするときに、ρ{hkl}=I{hkl}/ΣIとすると、ρ{100}が0.75以上であることを特徴とする電気機械変換素子。 - 請求項1乃至5のいずれか一の電気機械変換素子において、
前記基板の裏面には掘り加工された箇所を有し、前記電気機械変換膜が、前記堀り加工された箇所に拘束物がない状態でX線回折のθ−2θ法による測定で得られた回折強度のピークのうち{200}面に対応する回折強度のピークの回折強度が最大となる位置が2θ=44.45°以上44.75°以下にあり、X線回折のθ−2θ法による測定で得られた回折強度のピークのうち{200}面に対応する回折強度のピークおよび{400}面に対応する回折強度のピークがいずれも非対称な形状を有していることを特徴とする電気機械変換素子。 - 請求項1乃至6のいずれか一の電気機械変換素子において、
X線回折のθ−2θ法による測定で得られた回折強度のピークのうち{200}面に対応する回折強度のピークおよび{400}面に対応する回折強度のピークのそれぞれに対しピーク分離を行ったときに、前記ピーク分離を行った後に得られた回折強度のピークには正方晶のaドメイン構造に帰属されるピークおよび正方晶のcドメイン構造に帰属されるピークがあることを特徴とする電気機械変換素子。 - 請求項1乃至7のいずれか一の電気機械変換素子において、
前記電気機械変換膜と前記下部電極との間にはチタン酸鉛からなるシード層を備えていることを特徴とする電気機械変換素子。 - 液滴を吐出するノズルと、
該ノズルに連通する加圧室と、
該加圧室内の液体に圧力を発生させる圧力発生手段とを備えた液滴吐出ヘッドにおいて、
前記圧力発生手段として、請求項1乃至8のいずれかの電気機械変換素子を備えたことを特徴とする液滴吐出ヘッド。 - 請求項9の液滴吐出ヘッドを備えた画像形成装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014251811A JP6414744B2 (ja) | 2014-12-12 | 2014-12-12 | 電気機械変換素子、液滴吐出ヘッドおよび画像形成装置 |
US14/956,689 US10112391B2 (en) | 2014-12-12 | 2015-12-02 | Electromechanical transducer element, liquid droplet discharge head, and image forming apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014251811A JP6414744B2 (ja) | 2014-12-12 | 2014-12-12 | 電気機械変換素子、液滴吐出ヘッドおよび画像形成装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016115755A JP2016115755A (ja) | 2016-06-23 |
JP2016115755A5 JP2016115755A5 (ja) | 2017-11-16 |
JP6414744B2 true JP6414744B2 (ja) | 2018-10-31 |
Family
ID=56110318
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014251811A Active JP6414744B2 (ja) | 2014-12-12 | 2014-12-12 | 電気機械変換素子、液滴吐出ヘッドおよび画像形成装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10112391B2 (ja) |
JP (1) | JP6414744B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017157773A (ja) | 2016-03-04 | 2017-09-07 | 株式会社リコー | 電気機械変換素子、液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット及び液体を吐出する装置 |
US10160208B2 (en) | 2016-04-11 | 2018-12-25 | Ricoh Company, Ltd. | Electromechanical-transducing electronic component, liquid discharge head, liquid discharge device, and liquid discharge apparatus |
US9987843B2 (en) | 2016-05-19 | 2018-06-05 | Ricoh Company, Ltd. | Liquid discharge head, liquid discharge device, and liquid discharge apparatus |
JP6746205B2 (ja) | 2016-06-09 | 2020-08-26 | 株式会社ミツトヨ | 保持構造 |
US10239312B2 (en) | 2017-03-17 | 2019-03-26 | Ricoh Company, Ltd. | Liquid discharge head, liquid discharge device, and liquid discharge apparatus |
US10636959B2 (en) * | 2017-03-31 | 2020-04-28 | General Electric Company | Insitu corona poling of piezoelectric ceramics |
US20180323039A1 (en) * | 2017-05-05 | 2018-11-08 | Applied Materials, Inc. | Active far edge plasma tunability |
US10556431B2 (en) | 2017-06-23 | 2020-02-11 | Ricoh Company, Ltd. | Electromechanical transducer element, liquid discharge head, liquid discharge device, and liquid discharge apparatus |
JP6939214B2 (ja) | 2017-08-01 | 2021-09-22 | 株式会社リコー | 電気−機械変換素子、液体吐出ヘッド及び液体を吐出する装置 |
US10596581B2 (en) | 2018-03-09 | 2020-03-24 | Ricoh Company, Ltd. | Actuator, liquid discharge head, liquid discharge device, and liquid discharge apparatus |
JP7369355B2 (ja) | 2019-07-26 | 2023-10-26 | 株式会社リコー | 圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置、及び、圧電素子の製造方法 |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001312812A (ja) * | 2000-04-27 | 2001-11-09 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体、その製造方法、磁気記録再生装置、および磁性膜表面の結晶面傾き分布評価方法 |
JP2008028030A (ja) | 2006-07-19 | 2008-02-07 | Seiko Epson Corp | 圧電素子および液体噴射ヘッド |
JP2008192868A (ja) | 2007-02-06 | 2008-08-21 | Fujifilm Corp | 圧電体膜及びそれを用いた圧電素子、液体吐出装置 |
JP4266036B2 (ja) * | 2007-04-26 | 2009-05-20 | 富士フイルム株式会社 | 圧電体、圧電素子、及び液体吐出装置 |
JP4662084B2 (ja) * | 2008-07-25 | 2011-03-30 | セイコーエプソン株式会社 | 液体吐出ヘッドおよび液体噴射装置 |
JP5724168B2 (ja) | 2009-10-21 | 2015-05-27 | 株式会社リコー | 電気−機械変換素子とその製造方法、及び電気−機械変換素子を有する液滴吐出ヘッド、液滴吐出ヘッドを有する液滴吐出装置 |
WO2012036103A1 (en) | 2010-09-15 | 2012-03-22 | Ricoh Company, Ltd. | Electromechanical transducing device and manufacturing method thereof, and liquid droplet discharging head and liquid droplet discharging apparatus |
JP5741799B2 (ja) | 2010-12-06 | 2015-07-01 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子 |
JP5768393B2 (ja) | 2011-02-10 | 2015-08-26 | 株式会社リコー | インクジェットヘッド及び画像形成装置 |
JP5644581B2 (ja) | 2011-02-22 | 2014-12-24 | 株式会社リコー | インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置 |
JP5754178B2 (ja) | 2011-03-07 | 2015-07-29 | 株式会社リコー | インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置 |
JP5708098B2 (ja) | 2011-03-18 | 2015-04-30 | 株式会社リコー | 液体吐出ヘッド、液体吐出装置および画像形成装置 |
JP2012253161A (ja) | 2011-06-01 | 2012-12-20 | Seiko Epson Corp | 圧電素子及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置 |
JP5892406B2 (ja) | 2011-06-30 | 2016-03-23 | 株式会社リコー | 電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 |
JP5811728B2 (ja) | 2011-09-16 | 2015-11-11 | 株式会社リコー | 電気−機械変換素子、液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置及び画像形成装置 |
JP5943178B2 (ja) | 2011-12-01 | 2016-06-29 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子の製造方法、液体噴射ヘッドの製造方法、液体噴射装置の製造方法、超音波デバイスの製造方法及びセンサーの製造方法 |
JP6060485B2 (ja) * | 2012-01-19 | 2017-01-18 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、強誘電体デバイス、焦電体デバイス、及び、圧電体デバイス |
US9324934B2 (en) * | 2012-03-06 | 2016-04-26 | Konica Minolta, Inc. | Piezoelectric thin film, piezoelectric element, ink-jet head, and ink-jet printer |
JP2013197522A (ja) | 2012-03-22 | 2013-09-30 | Ricoh Co Ltd | 圧電体薄膜素子とその製造方法、該圧電体薄膜素子を用いた液滴吐出ヘッドおよびインクジェット記録装置 |
JP2013201198A (ja) | 2012-03-23 | 2013-10-03 | Ricoh Co Ltd | 電気機械変換素子及びその製造方法、圧電型アクチュエータ、液滴吐出ヘッド、インクジェット記録装置 |
JP5382196B2 (ja) * | 2012-12-27 | 2014-01-08 | セイコーエプソン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
JP6156068B2 (ja) * | 2013-03-14 | 2017-07-05 | 株式会社リコー | 圧電体薄膜素子及びインクジェット記録ヘッド、並びにインクジェット式画像形成装置 |
JP6273829B2 (ja) | 2013-09-13 | 2018-02-07 | 株式会社リコー | 電気機械変換素子とその製造方法、及び電気機械変換素子を有する液滴吐出ヘッド、液滴吐出ヘッドを有する液滴吐出装置 |
CN104512115B (zh) * | 2013-09-26 | 2016-08-24 | 精工爱普生株式会社 | 压电元件、液体喷射头以及液体喷射装置 |
JP6478139B2 (ja) | 2014-03-18 | 2019-03-06 | 株式会社リコー | 液滴吐出ヘッドの製造方法 |
US9837596B2 (en) * | 2014-06-13 | 2017-12-05 | Tdk Corporation | Piezoelectric device, piezoelectric actuator, piezoelectric sensor, hard disk drive, and inkjet printer apparatus |
JP6620543B2 (ja) * | 2015-03-11 | 2019-12-18 | 株式会社リコー | 液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置 |
-
2014
- 2014-12-12 JP JP2014251811A patent/JP6414744B2/ja active Active
-
2015
- 2015-12-02 US US14/956,689 patent/US10112391B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20160167383A1 (en) | 2016-06-16 |
US10112391B2 (en) | 2018-10-30 |
JP2016115755A (ja) | 2016-06-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6414744B2 (ja) | 電気機械変換素子、液滴吐出ヘッドおよび画像形成装置 | |
JP6525255B2 (ja) | 電気機械変換素子、電気機械変換素子の製造方法、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 | |
JP6551773B2 (ja) | 液滴吐出ヘッドおよび画像形成装置 | |
US9385298B2 (en) | Electromechanical conversion element, liquid drop discharge head and image forming apparatus | |
US9196821B2 (en) | Electromechanical transducer, droplet ejection head, and method for manufacturing electromechanical transducer | |
JP6390170B2 (ja) | 電気−機械変換素子、電気−機械変換素子の製造方法、液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置 | |
JP6341446B2 (ja) | 電気機械変換素子の製造方法、電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置及び画像形成装置 | |
US9969161B2 (en) | Electromechanical transducer element, liquid discharge head, liquid discharge device, and liquid discharge apparatus | |
JP6939214B2 (ja) | 電気−機械変換素子、液体吐出ヘッド及び液体を吐出する装置 | |
US10556431B2 (en) | Electromechanical transducer element, liquid discharge head, liquid discharge device, and liquid discharge apparatus | |
JP6460450B2 (ja) | 電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド、画像形成装置および液滴吐出装置 | |
JP6531978B2 (ja) | 液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置及び画像形成装置 | |
JP5998543B2 (ja) | 電気−機械変換素子、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 | |
JP7351106B2 (ja) | 電気機械変換素子、液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置及び圧電装置 | |
JP2015005554A (ja) | 電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置、画像形成装置、及び、電気機械変換素子の製造方法 | |
JP6909420B2 (ja) | 液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット及び液体を吐出する装置 | |
JP6460449B2 (ja) | 電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 | |
JP2019009413A (ja) | 電気機械変換素子、液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット及び液体を吐出する装置 | |
JP6287188B2 (ja) | 圧電アクチュエータ、圧電アクチュエータの製造方法、液滴吐出ヘッド、液体カートリッジ、及び画像形装置 | |
JP2017191928A (ja) | 電気機械変換電子部品、液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット及び液体を吐出する装置 | |
JP2013065698A (ja) | 電気−機械変換素子、液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置及び画像形成装置 | |
JP2014154740A (ja) | 圧電体薄膜素子、圧電アクチュエータ、液体噴射ヘッド及び液滴吐出装置 | |
JP6638371B2 (ja) | 液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置 | |
JP2013140828A (ja) | 電気−機械変換素子の製造方法及び液滴吐出ヘッド及びインクジェットプリンタ | |
JP6287178B2 (ja) | 電気−機械変換素子及び液滴吐出ヘッド |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171004 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171117 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180831 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180907 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180920 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6414744 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |