JP2019162801A - 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 - Google Patents
液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019162801A JP2019162801A JP2018052134A JP2018052134A JP2019162801A JP 2019162801 A JP2019162801 A JP 2019162801A JP 2018052134 A JP2018052134 A JP 2018052134A JP 2018052134 A JP2018052134 A JP 2018052134A JP 2019162801 A JP2019162801 A JP 2019162801A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- layer
- insulating protective
- liquid ejecting
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14233—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14274—Structure of print heads with piezoelectric elements of stacked structure type, deformed by compression/extension and disposed on a diaphragm
Landscapes
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
【課題】過酷な条件下でも電気的な接続上の問題を回避することができる液体噴射ヘッド及び液体噴射装置を提供する。【解決手段】圧電体層70と、前記圧電体層70を挟む第1電極60及び第2電極80を備える圧電素子と、前記圧電素子の上部に設けられ、金又は白金からなる配線層192とその下地層191とがパターニングされた引き出し配線91とを具備し、前記引き出し配線91の前記下地層191の露出部を少なくとも覆う絶縁保護膜210を具備する。【選択図】図3
Description
本発明は、ノズルから液体を噴射する液体噴射ヘッド及び液体噴射装置に関し、特に液体としてインクを吐出するインクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置に関する。
液体噴射ヘッドの代表的な例であるインクジェット式記録ヘッドとしては、ノズルに連通する圧力発生室が設けられた流路形成基板と、流路形成基板の一方面側に振動板を介して設けられて第1電極と圧電体層と第2電極とを有する圧電アクチュエーターとを具備し、圧電アクチュエーターの変位によって圧力発生室に圧力変化を生じさせてノズルからインク滴を吐出するものがある。
このような圧電アクチュエーターは、湿気等の外部環境に起因して破壊され易いという欠点があるため、従来、保護基板で覆うと共に、酸化アルミニウムなどの保護膜で覆う構成が採用されていた(例えば、特許文献1など参照)。
しかしながら、近年の高密度化に伴って圧電アクチュエーターから駆動回路や電装基板に引き出される配線が微細なためか、過酷な条件下で使用した場合に、電気的な接続上の問題が生じるという課題がある。特に、インクとして溶剤を含んだインクが用いられる場合、電気的な接続上の問題が発生する虞がある。
なお、このような問題は、インクジェット式記録ヘッドに代表される液体噴射ヘッドに限定されず、他の圧電デバイスにおいても同様に存在する。
本発明はこのような事情に鑑み、過酷な条件下でも電気的な接続上の問題を回避することができる液体噴射ヘッド及び液体噴射装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決する本発明の態様は、圧電体層と、前記圧電体層を挟む第1電極及び第2電極を備える圧電素子と、前記圧電素子の上部に設けられ、金又は白金からなる配線層とその下地層とがパターニングされた引き出し配線とを具備し、前記引き出し配線の前記下地層の露出部を少なくとも覆う絶縁保護層を具備する、ことを特徴とする液体噴射ヘッドにある。
かかる態様では、引き出し配線の下地層の露出部を覆う絶縁保護層が設けられているので、耐インク性が向上し、マイグレーション耐性が向上するので、過酷な環境下であっても、腐食が発生せず、電気的な不具合の発生が防止され、信頼性が向上する。
また、前記下地層が、クロム、ニッケル、ニッケルクロム合金、アルミニウム及び銅から選択される材料からなることが好ましい。これによれば、圧電アクチュエーターを変位させた際の応力集中を抑制して破壊を抑制することができる。
また、前記配線層の前記下地層を露出する凹部が設けられ、前記絶縁保護層が前記凹部内にも設けられていることが好ましい。これによれば、絶縁保護層が凹部内にも設けられるので、配線層と絶縁保護層との密着性が向上する。
また、前記下地層の下側に第2絶縁保護層を具備することが好ましい。これによれば、第2絶縁保護層により圧電体層の耐湿保護が図られ、さらに信頼性が向上する。
また、前記絶縁保護層と前記第2絶縁保護層とが同一の材料からなることが好ましい。これによれば、両者の密着性が良好になり、耐湿性及び耐インク性に優れ、信頼性が向上したものとなる。
また、前記絶縁保護層は、前記第2絶縁保護層より厚いことが好ましい。これによれば、耐インク性、マイグレーション耐性がより確実に向上する。
また、液体を吐出するノズル開口に連通する圧力室が設けられた流路基板に前記圧電素子が設けられ、前記流路基板には、前記圧電素子を保持する空間である圧電素子保持部を有する保護基板が接合されており、前記流路基板の前記保護基板との接合領域のうち前記引き出し配線が設けられていない領域にダミー配線が設けられ、前記ダミー配線上に前記絶縁保護層が設けられていることが好ましい。これによれば、基板接合時の高さ合わせが容易になり、接合性も向上する。
また、前記絶縁保護層は、前記圧力室に対向する領域には設けられていないことが好ましい。これによれば、圧電素子の駆動への影響がなく、駆動バラツキを低減することができる。
また、前記液体は溶剤インク又は水系インクであることが好ましい。これによれば、絶縁保護層により溶剤インクや水系インクに対する耐性を向上することができる。
本発明の他の態様は、上述した態様の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置にある。
かかる態様では、引き出し配線の下地層の露出部を覆う絶縁保護層が設けられているので、耐インク性が向上し、マイグレーション耐性が向上するので、過酷な環境下であっても、腐食が発生せず、電気的な不具合の発生が防止され、信頼性が向上した液体噴射装置が実現できる。
かかる態様では、引き出し配線の下地層の露出部を覆う絶縁保護層が設けられているので、耐インク性が向上し、マイグレーション耐性が向上するので、過酷な環境下であっても、腐食が発生せず、電気的な不具合の発生が防止され、信頼性が向上した液体噴射装置が実現できる。
以下に本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。
(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1に係る液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドの概略構成を示す分解斜視図であり、図2は、インクジェット式記録ヘッドの平面図であり、図3は、図2のA−A′線の断面図である。
図1は、本発明の実施形態1に係る液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドの概略構成を示す分解斜視図であり、図2は、インクジェット式記録ヘッドの平面図であり、図3は、図2のA−A′線の断面図である。
図1〜図3に示すように、インクジェット式記録ヘッド1(以下、単に記録ヘッド1とも言う)を構成する本実施形態の基板である流路形成基板10は、ステンレス鋼やNiなどの金属、ZrO2あるいはAl2O3を代表とするセラミック材料、ガラスセラミック材料、MgO、LaAlO3のような酸化物などを用いることができる。本実施形態では、流路形成基板10は、シリコン単結晶基板からなる。
この流路形成基板10には、一方面側から異方性エッチングすることにより、複数の隔壁11によって区画された本実施形態の凹部である圧力発生室12がインクを吐出する複数のノズル21が並設される方向に沿って並設されている。本実施形態では、この方向を圧力発生室12の並設方向、又は第1の方向Xと称する。また、ノズル21が開口する液体噴射面の面内において、第1の方向Xに直交する方向を第2の方向Yと称する。さらに、第1の方向X及び第2の方向Yの双方に交差する方向を本実施形態では、第3の方向Zと称する。なお、本実施形態では、各方向(X、Y、Z)の関係を直交とするが、各構成の配置関係が必ずしも直交するものに限定されるものではない。
また、流路形成基板10には、圧力発生室12の第2の方向Yの一端部側には、インク供給路14と連通路15とが隔壁11によって区画されている。また、連通路15の一端には、各圧力発生室12の共通のインク室(液体室)となるマニホールド100の一部を構成する連通部13が形成されている。すなわち、流路形成基板10には、圧力発生室12、連通部13、インク供給路14及び連通路15からなる液体流路が設けられている。
インク供給路14は、圧力発生室12の第2の方向Yの一端部側に連通し且つ圧力発生室12より小さい断面積を有する。例えば、本実施形態では、インク供給路14は、マニホールド100と各圧力発生室12との間の圧力発生室12側の流路を幅方向である第1の方向Xに絞ることで、圧力発生室12の幅より小さい幅で形成されている。なお、このように、本実施形態では、流路の幅を片側から絞ることでインク供給路14を形成したが、流路の第1の方向Xの幅を両側から絞ることでインク供給路を形成してもよい。また、流路の幅を絞るのではなく、積層方向である第3の方向Zから絞ることでインク供給路を形成してもよい。さらに、各連通路15は、インク供給路14の圧力発生室12とは反対側に連通し、インク供給路14の幅方向(第1の方向X)より大きい断面積を有する。本実施形態では、連通路15を圧力発生室12と同じ断面積で形成した。
すなわち、流路形成基板10には、圧力発生室12と、圧力発生室12の第1の方向Xの断面積より小さい断面積を有するインク供給路14と、このインク供給路14に連通すると共にインク供給路14の第1の方向Xの断面積よりも大きい断面積を有する連通路15とが複数の隔壁11により区画されて設けられている。
また、流路形成基板10の開口面側には、各圧力発生室12のインク供給路14とは反対側の端部近傍に連通するノズル21が穿設されたノズルプレート20が、接着剤や熱溶着フィルム等によって固着されている。ノズルプレート20としては、例えば、ステンレス鋼(SUS)等の金属、ポリイミド樹脂のような有機物、ガラスセラミックス、又はシリコン単結晶基板等を用いることができる。なお、ノズルプレート20として流路形成基板10と同じシリコン単結晶基板を用いることで、ノズルプレート20と流路形成基板10との線膨張係数を同等として、加熱や冷却されることによる反りや熱によるクラック、剥離等の発生を抑制することができる。
一方、流路形成基板10のノズルプレート20とは反対側には、振動板50が形成されている。振動板50としては、例えば、酸化シリコン、酸化ジルコニウム、窒化シリコン、ポリシリコン、酸化チタンから選択される少なくとも1種の材料を単層又は積層したものを用いることができる。
なお、振動板50の少なくとも流路形成基板10側は、流路形成基板10をノズルプレート20が接合される面側から異方性エッチングして圧力発生室12等を形成する際に、エッチングストップ層として機能する材料を用いるのが好ましい。すなわち、振動板50の少なくとも流路形成基板10側は、流路形成基板10とのエッチングの選択比が異なる材料を用いるのが好ましい。これにより、圧力発生室12等を異方性エッチングによって高精度に形成することができる。
また、流路形成基板10の振動板50上には、第1電極60と圧電体層70と第2電極80とを有する圧電アクチュエーター300が設けられている。本実施形態では、圧電アクチュエーター300が圧力発生室12内のインクに圧力変化を生じさせる圧力発生手段となっている。ここで、圧電アクチュエーター300は、圧電素子ともいい、第1電極60と圧電体層70と第2電極80とを含む部分をいう。また、第1電極60と第2電極80との間に電圧を印加した際に、圧電体層70に圧電歪みが生じる部分を活性部320という。本実施形態では、詳しくは後述するが、圧力発生室12毎に活性部320が形成されている。本実施形態では、第1電極60を複数の活性部320の共通電極とし、第2電極80を活性部320の各々に独立する個別電極としている。また、活性部320は、第2電極80によって第1の方向Xの端部及び第2の方向Yの端部が規定されている。
第1電極60は、第2の方向Yにおいて、圧力発生室12の端部よりも外側に達するまで設けられている。また、第1電極60は、複数の活性部320に亘って連続して設けられている。具体的には、第1電極60の第2の方向Yの両端部側が第1の方向Xに亘って連続して設けられており、第1電極60の第2の方向Yの中央部は、活性部320の下のみ、すなわち、第1の方向Xで互いに隣り合う活性部320の間には設けられていない。すなわち、第1の方向Xで互いに隣り合う活性部320の間の第1電極60は、圧力発生室12の第2の方向Yの中央部が詳しくは後述する溝部330によって除去されている。
なお、第1電極60の第1の方向Xの幅は、圧力発生室12の幅よりも狭い幅を有する。すなわち、第3の方向Zから平面視した際に、第1電極60は圧力発生室12に重なるように設けられている。
このような第1電極60としては、例えば、圧電体層70を成膜する際に酸化せず、導電性を維持できる材料であることが必要で在り、例えば、白金(Pt)、イリジウム(Ir)等の貴金属、またはランタンニッケル酸化物(LNO)などに代表される導電性酸化物が好適に用いられる。
圧電体層70は、第2の方向Yの端部が第1電極60の端部と第2電極80の端部との間に設けられている。なお、第2電極80の第2の方向Yの端部は、活性部320の端部を規定するものであり、第1電極60の端部よりも内側に配置されている。
このような圧電体層70の材料としては、例えば、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)等の強誘電性圧電性材料や、これにニオブ、ニッケル、マグネシウム、ビスマス又はイットリウム等の金属を添加したリラクサ強誘電体等が用いられる。
第2電極80は、活性部320の第1の方向X及び第2の方向Yの端部を規定するものである。このため、第2電極80は、第1の方向X及び第2の方向Yにおいて、第1電極60の端部よりも内側に設けられている。ここで、第2の方向Yにおいて、第2電極80の端部が第1電極60の端部よりも内側に設けられているとは、第2の方向Yにおいて、第2電極80の端部が、第1電極60の端部と同じ位置に設けられているものを含まず、第2電極80の端部が、第1電極60の端部よりも第1電極60の内側、すなわち、中心側に設けられていることをいう。なお、第1の方向Xについても同様である。
このような第1電極60と圧電体層70と第2電極80とを有する圧電アクチュエーター300は、第1の方向Xで互いに隣り合う活性部320の間に開口する溝部330を有する。
溝部330は、第1の方向Xで互いに隣り合う活性部320の間に設けられて、圧電体層70と第1電極60とを第3の方向Zに貫通し、且つ振動板50の第3の方向Zの厚さの一部に達する深さで設けられている。すなわち、溝部330は、振動板50を貫通することなく形成され、溝部330の底面には、振動板50の流路形成基板10側の一部が形成されている。
このような溝部330は、第1の方向Xの端部が、圧力発生室12の端部よりも内側となるように形成されている。すなわち、溝部330は、第3の方向Zから平面視した際に、第1の方向Xで互いに隣り合う圧力発生室12の間の隔壁11に重なる位置で、且つ隔壁11よりも広い幅で形成されている。
このように圧電アクチュエーター300に溝部330を設けることで、活性部320の直下の振動板50の膜厚や材料を変更することなく、第1の方向Xにおいて振動板50の活性部320の外側の圧力発生室12に対向する領域、いわゆる腕部の膜厚を薄くすることができる。すなわち、第1の方向Xにおいて、活性部320の外側の腕部上に圧電体層70を設けないようにすることで、腕部の剛性を低下させることができる。同様に、第1の方向Xにおいて活性部320の外側の腕部上に第1電極60を設けないようにすることで、腕部の剛性を低下させることができる。また、腕部の振動板50の積層方向である第3の方向Zの一部を除去することで、腕部の剛性を低下させることができる。特に、第1電極60は、複数の活性部320に共通する共通電極であるが、剛性の高い金属又は金属酸化物からなる第1電極60を腕部上に設けないようにすることで、腕部の剛性を低下させることができる。このように振動板50の腕部の剛性を低下させることで、圧電アクチュエーター300の変位特性を向上、すなわち、低い駆動電圧で大きな変位量を得ることができる。
また、圧電アクチュエーター300は、第2絶縁保護膜である保護膜200によって覆われている。保護膜200は、耐湿性を有する絶縁材料からなる。保護膜200としては、無機絶縁材料や有機絶縁材料などを用いることができる。保護膜200として利用できる無機絶縁材料としては、酸化シリコン(SiOX)、酸化ジルコニウム(ZrOX)、酸化タンタル(TaOX)、酸化アルミニウム(AlOX)及び酸化チタン(TiOX)から選択される少なくとも一種が挙げられる。保護膜200の無機絶縁材料としては、特に、無機アモルファス材料である酸化アルミニウム(AlOX)、例えば、アルミナ(Al2O3)を用いるのが好ましい。
また、保護膜200として利用できる有機絶縁材料としては、例えば、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、珪素系樹脂及びフッ素系樹脂から選択される少なくとも一種が挙げられる。
なお、本実施形態では、保護膜200は、圧電アクチュエーター300全体を覆っている。すなわち、保護膜200は、圧電アクチュエーター300の溝部330の内面に亘って設けられている。ちなみに、保護膜200を溝部330内に設けることで、溝部330の内面に露出する第1電極60と第2電極80との間の電流のリークによる圧電体層70の破壊を抑制することができる。すなわち、保護膜200は、少なくとも第1電極60と第2電極80とが近接して設けられた圧電体層70の表面を覆っていればよい。したがって、保護膜200は、第2電極80の上面の略中心領域である主要部に設けずに、第2電極80の主要部を開口する開口部が設けられていてもよい。このように保護膜200に開口部を設けることで保護膜200による変位の阻害を抑制して、圧電アクチュエーター300の変位を向上することができる。
また、圧電アクチュエーター300を保護膜200で覆うことにより、第1電極60と第2電極80との間の電流のリークによる圧電体層70の破壊を抑制することができる。また、保護膜200は、詳しくは後述する第1電極60と第2電極80から引き出された引き出し配線との絶縁を行う層間絶縁膜として機能させることができ、電極同士の短絡を抑制することができる。
保護膜200上には、圧電アクチュエーター300の第1電極60及び第2電極80から引き出された引き出し配線であるリード電極が設けられている。
本実施形態のリード電極は、個別リード電極91とダミーリード電極92と、図示しない共通リード電極とを有する。ここで、個別リード電極91、ダミーリード電極92、及び共通リード電極は、それぞれ、密着層となる下地層191と、下地層191上に設けられた配線層192とからなる。下地層191は、下層との密着性を向上させるためのものであり、その材料としては、例えば、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、ニッケルクロム(NiCr)、チタン(Ti)、チタンタングステン(TiW)等を用いることができる。もちろん、下地層191は、上述したものを単一材料として用いたものであってもよく、また、複数の材料が混合した複数材料であってもよく、さらに、異なる材料の複数層を積層したものであってもよい。本実施形態では、下地層191としてニッケルクロム(NiCr)を用いた。配線層192は、例えば、金(Au)、白金(Pt)を用いることができる。本実施形態では、配線層192として金(Au)を用いた。
個別リード電極91は、第2の方向Yにおいて、第2電極80のノズル21側の端部に接続されて第2の方向Yに沿って振動板50上の保護膜200上、すなわち、第1電極60の端部の外側まで延設されている。このような個別リード電極91は、保護膜200に設けられた第1接続孔201を介して第2電極80と電気的に接続されている。
ダミーリード電極92は、第2の方向Yにおいて、第2電極80のインク供給路14側の端部で、連通部13及びマニホールド部31を挟んで両側に設けられたダミー圧電体層73及びダミー第2電極83上に設けられている。ダミー圧電体層73及びダミー第2電極83は、圧電体層70及び第2電極80とは溝によって隔離されており、保護膜200は、第2電極80上からダミー第2電極83上まで連続的に設けられており、ダミーリード電極92はダミー第2電極83上に設けられた保護膜200上に設けられている。なお、連通部13及びマニホールド部31を挟んで設けられたダミーリード電極92は、詳細は後述するが、連通部13をエッチングにより形成するまで流路形成基板10上に直接設けられた封止部93により連続して形成されていた。
なお、ダミーリード電極92のダミー圧電体層73及びダミー第2電極83の上面に対向する位置には、配線層192を除去して下地層191を露出する凹部92aが設けられている。この凹部92aは、その上に設けられる後述する絶縁保護膜210との密着性を確保するためのものであり、さらには接着剤35との接着強度を高める効果もある。
本実施形態では、このような個別リード電極91、ダミーリード電極92及び図示しない共通リード電極からなる引き出し配線の少なくとも下地層191の露出部を覆うように絶縁保護膜210が設けられている。ここで、下地層191の露出部とは、下地層191及び配線層192をパターニングしたことにより露出するパターニング端面である。このようなパターニング端面は、非常に微小な領域であるが、湿気やインクなどにより腐食が生じ、これが電気的な不具合に繋がる虞があることを知見し、このような知見に基づき、下地層191のパターニング端面を少なくとも覆うように絶縁保護膜210を設けるものである。
絶縁保護膜210は、保護膜200と同様な無機絶縁材料を用いることができる。絶縁保護膜210として利用できる無機絶縁材料としては、酸化シリコン(SiOX)、酸化ジルコニウム(ZrOX)、酸化タンタル(TaOX)、ケイ酸タンタル(TaSiOX)、酸化ハフニウム(HfOX)、ケイ酸ハフニウム(HfSiOX)、窒化アルミニウム(AlNX)、窒化ケイ素(SiNX)、酸化アルミニウム(AlOX)及び酸化チタン(TiOX)から選択される少なくとも一種が挙げられ、絶縁保護膜210としては、特に、無機アモルファス材料である酸化アルミニウム(AlOX)、例えば、アルミナ(Al2O3)を用いるのが好ましい。保護能力が高いだけでなく、高熱伝導性率である為に、圧力発生室12毎の熱分布を均一化する性能が高い為である。
ここで、絶縁保護膜210の成膜方法は、特に限定されず、CVD(化学気相成長法)、ALD(原子層堆積法)などを用いて成膜すればよいが、配線層192である金の拡散を防止するために、低温CVDで成膜するのが好ましい。低温CVDは、例えば、130℃〜140℃で絶縁保護膜210を成膜することにより、配線層192の熱拡散を防止することができる。またALDで成膜するのも好ましい。低温でピンホールが少ない緻密な膜を形成できる。なお、保護膜200に関しては、配線層192上に設けるものではないので、300℃以上の高温CVDで成膜してもよい。
さらに、圧電アクチュエーター300が形成された流路形成基板10上には、連通部13に対向する領域にマニホールド部31が設けられた保護基板30が接着剤35を介して接合されている。このマニホールド部31は、上述したように、流路形成基板10の連通部13と連通されて各圧力発生室12の共通の液体室となるマニホールド100を構成している。また、流路形成基板10の連通部13を圧力発生室12毎に複数に分割して、マニホールド部31のみをマニホールドとしてもよい。さらに、例えば、流路形成基板10に圧力発生室12のみを設け、流路形成基板10と保護基板30との間に介在する部材(例えば、振動板50)にマニホールドと各圧力発生室12とを連通するインク供給路14を設けるようにしてもよい。
また、保護基板30には、圧電アクチュエーター300に対向する領域に、圧電アクチュエーター300の運動を阻害しない程度の空間を有する圧電素子保持部32が設けられている。なお、圧電素子保持部32は、圧電アクチュエーター300の運動を阻害しない程度の空間を有していればよく、当該空間は密封されていても、密封されていなくてもよい。
また、保護基板30上には、圧電アクチュエーター300を駆動するための駆動回路120が実装されている。この駆動回路120としては、例えば、回路基板や半導体集積回路(IC)等を用いることができる。そして、駆動回路120と個別リード電極91及び共通リード電極とは、ボンディングワイヤー等の導電性ワイヤからなる接続配線121を介して電気的に接続されている。なお、駆動回路120と個別リード電極91及び共通リード電極との接続は、特に限定されず、COFを用いてもよいことは言うまでもない。
保護基板30としては、流路形成基板10の熱膨張率と略同一の材料、例えば、ガラス、セラミック材料、酸化物等を用いることが好ましく、本実施形態では、流路形成基板10と同じシリコン単結晶基板を用いた。
また、保護基板30上には、封止膜41及び固定板42とからなるコンプライアンス基板40が接合されている。ここで、封止膜41は、剛性が低く可撓性を有する材料(例えば、厚さが6μmのポリフェニレンサルファイド(PPS)フィルム)からなり、この封止膜41によってマニホールド部31の一方面が封止されている。また、固定板42は、金属等の硬質の材料(例えば、厚さが30μmのステンレス鋼(SUS)等)で形成される。この固定板42のマニホールド100に対向する領域は、厚さ方向に完全に除去された開口部43となっているため、マニホールド100の一方面は可撓性を有する封止膜41のみで封止されている。
このような本実施形態のインクジェット式記録ヘッドでは、図示しない外部インク供給手段からインクを取り込み、マニホールド100からノズル21に至るまで内部をインクで満たした後、駆動回路120からの記録信号に従い、圧力発生室12に対応するそれぞれの第1電極60と第2電極80との間に電圧を印加し、振動板50、第1電極60及び圧電体層70をたわみ変形させることにより、各圧力発生室12内の圧力が高まりノズル21からインク滴が吐出する。
ここで、本実施形態の記録ヘッド1の製造方法、特に絶縁保護膜210の製造方法について図4〜図10を参照して説明する。
図4に示すように、流路形成基板10の一方面に亘って、振動板50として、酸化シリコン膜51と、酸化ジルコニウム膜52とを積層し、その上に第1電極60を設けてパターニングする。
酸化シリコン膜51の製造方法としては、例えば、シリコン単結晶基板からなる流路形成基板10を熱酸化することで酸化シリコン膜51を形成することができる。もちろん、酸化シリコン膜51は、スパッタリング法等によって形成してもよい。
次に、図5に示すように、圧電体層70及び第2電極80を形成し、パターニングする。圧電体層70は、ゾル−ゲル法、MOD(Metal-Organic Decomposition)法などの液相法や、スパッタリング法、レーザーアブレーション法等などのPVD(Physical Vapor Deposition)法(気相法)などで形成することができる。
その後、図6に示すように、保護膜200を形成することで、第1電極60と第2電極80との電気的な絶縁を確実に行う。そして、保護膜200をパターニングし、第1接続孔201と上述した封止部となる部分の保護膜200を除去する。さらに、図7に示すように、封止部となる部分の第1電極60、酸化ジルコニウム膜52及び酸化シリコン膜51を除去する。
次に、図8に示すように、下地層191及び配線層192を成膜すると共にパターニングすることで、個別リード電極91、ダミーリード電極92及び封止部93を形成する。
次に、図9に示すように、絶縁保護膜210を全体に成膜した後、個別リード電極91の外部配線との接続部94、活性部320の領域、及び封止部93の領域の絶縁保護膜210を除去する。
その後、連通部13及び圧力発生室12などを湿式エッチングなどにより除去し、保護基板30を接合した後、封止部93の下地層191及び配線層192を除去して連通部13とマニホールド部31とを連通することにより記録ヘッド1となる(図3参照)。これらの工程は、常法のとおりなので、説明は省略する。
以上説明した実施形態1では、絶縁保護膜210が活性部320及び個別リード電極91の外部配線との接続部以外に絶縁保護膜210が設けられ、下地層191のパターニング端部が完全に絶縁保護膜210で覆われているので、耐湿性、耐インク性が著しく向上したものとなる。
(実施形態2)
図10は、本発明の実施形態2に係る液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドの断面図である。なお、上述した実施形態と同様の部材には同一の符号を付して重複する説明は省略する。
図10は、本発明の実施形態2に係る液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドの断面図である。なお、上述した実施形態と同様の部材には同一の符号を付して重複する説明は省略する。
図示するように、本実施形態では、絶縁保護膜210が、個別リード電極91の長手方向の端部及び幅方向の端部の下地層191のパターニング端部が露出した領域、及びダミーリード電極92の下地層191が露出した凹部92a及びパターニング端部を覆うように最低限の領域に絶縁保護膜210を設けたものである。
これにより、特に耐湿性、耐インク性を確保したい領域を絶縁保護膜210で保護し、耐久性を向上させることができる。
(実施形態3)
図11は、本発明の実施形態3に係る液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドの断面図である。なお、上述した実施形態と同様の部材には同一の符号を付して重複する説明は省略する。
図11は、本発明の実施形態3に係る液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドの断面図である。なお、上述した実施形態と同様の部材には同一の符号を付して重複する説明は省略する。
図示するように、本実施形態では、個別リード電極91の外部配線との接続部94以外は、絶縁保護膜210を活性部320を含めてほぼ全面に設けた例である。
これにより、下地層191が露出した部分は、全て絶縁保護膜210で保護することができ、耐湿性、耐インク性を確実に著しく向上させることができる。
(実施形態4)
以上説明した実施形態では、第1電極60を共通電極とし、圧電体層70の露出部を保護膜200で覆って圧電体層70の耐湿性を向上させたが、第2電極80を共通電極とすることもできる。また、第2電極を共通電極とする場合、第2電極80を圧電体層70を覆うように設けて第2電極80を耐湿保護膜とすることができるが、このような液体噴射ヘッドにおいても絶縁保護膜210を同様に設けることにより、同様な効果を奏することができる。すなわち、この場合、圧電体層70を保護する第2絶縁保護膜である保護膜200は存在しないが、個別電極となる第1電極60から引き出されるリード電極と第2電極80との電気的な導通を防止するため層間絶縁層を設ける必要がある場合もある。
以上説明した実施形態では、第1電極60を共通電極とし、圧電体層70の露出部を保護膜200で覆って圧電体層70の耐湿性を向上させたが、第2電極80を共通電極とすることもできる。また、第2電極を共通電極とする場合、第2電極80を圧電体層70を覆うように設けて第2電極80を耐湿保護膜とすることができるが、このような液体噴射ヘッドにおいても絶縁保護膜210を同様に設けることにより、同様な効果を奏することができる。すなわち、この場合、圧電体層70を保護する第2絶縁保護膜である保護膜200は存在しないが、個別電極となる第1電極60から引き出されるリード電極と第2電極80との電気的な導通を防止するため層間絶縁層を設ける必要がある場合もある。
図12〜図14は、このような液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドの一例の分解斜視図、平面図及び要部B−B′線断面図である。なお、上述した実施形態と同様の部材には同一の符号を付して重複する説明は省略する。
図示するように、本実施形態では、共通電極である第2電極80が圧電体層70を覆っている。なお、第2電極80の一方の端部は、除去部85により電気的に切断され、除去部85の外側の第2電極80は、圧電体層70毎にパターニングされて端部外側で個別電極となる第1電極60と接続され、また、この第2電極80上には、下地層191と配線層192とからなる個別リード電極91が設けられており、圧電体層70の活性部320の両端には、ダミーリード電極92が設けられている。そして、個別リード電極91及びダミーリード電極92の下地層191の露出部を覆うように、絶縁保護膜210が設けられている。なお、絶縁保護膜210は、実施形態1で説明したとおりであり、重複する説明は省略するが、絶縁保護膜210を設けることで、下地層191の耐湿性、耐インク性を向上させることができる。なお、本実施形態では、除去部85を覆うように絶縁保護膜210を設けることにより、除去部85で露出した圧電体層70の耐湿性を向上させている。また、ダミーリード電極92を覆うように絶縁保護膜210を設けたが、電位的な配線として働いていないので、この絶縁保護膜210は省略してもよい。
これにより、下地層191が露出した部分は、全て絶縁保護膜210で保護することができ、耐湿性、耐インク性を確実に著しく向上させることができる。
(他の実施形態)
これら各実施形態の記録ヘッド1は、インクジェット式記録装置に搭載される。図15は、そのインクジェット式記録装置の一例を示す概略図である。
これら各実施形態の記録ヘッド1は、インクジェット式記録装置に搭載される。図15は、そのインクジェット式記録装置の一例を示す概略図である。
図15に示すインクジェット式記録装置Iにおいて、記録ヘッド1は、貯留手段を構成するインクカートリッジ2が着脱可能に設けられ、この記録ヘッド1を搭載したキャリッジ3は、装置本体4に取り付けられたキャリッジ軸5に軸方向移動自在に設けられている。
そして、駆動モーター6の駆動力が図示しない複数の歯車およびタイミングベルト7を介してキャリッジ3に伝達されることで、記録ヘッド1を搭載したキャリッジ3はキャリッジ軸5に沿って移動される。一方、装置本体4には搬送手段としての搬送ローラー8が設けられており、紙等の記録媒体である記録シートSが搬送ローラー8により搬送されるようになっている。なお、記録シートSを搬送する搬送手段は、搬送ローラーに限られずベルトやドラム等であってもよい。
なお、上述したインクジェット式記録装置Iでは、記録ヘッド1がキャリッジ3に搭載されて主走査方向に移動するものを例示したが、特にこれに限定されず、例えば、記録ヘッド1が固定されて、紙等の記録シートSを副走査方向に移動させるだけで印刷を行う、所謂ライン式記録装置にも本発明を適用することができる。
また、上述した例では、インクジェット式記録装置Iは、液体貯留手段であるインクカートリッジ2がキャリッジ3に搭載された構成であるが、特にこれに限定されず、例えば、インクタンク等の液体貯留手段を装置本体4に固定して、貯留手段と記録ヘッド1とをチューブ等の供給管を介して接続してもよい。また、液体貯留手段がインクジェット式記録装置に搭載されていなくてもよい。
なお、上述した実施形態1では、液体噴射ヘッドの一例としてインクジェット式記録ヘッドを挙げて説明したが、本発明は広く液体噴射ヘッド全般を対象としたものであり、インク以外の液体を噴射する液体噴射ヘッドにも勿論適用することができる。その他の液体噴射ヘッドとしては、例えば、プリンタ等の画像記録装置に用いられる各種の記録ヘッド、液晶ディスプレイ等のカラーフィルタの製造に用いられる色材噴射ヘッド、有機ELディスプレイ、FED(電界放出ディスプレイ)等の電極形成に用いられる電極材料噴射ヘッド、バイオchip製造に用いられる生体有機物噴射ヘッド等が挙げられる。
また、本発明は、液体噴射ヘッドに用いられる圧電デバイスに限定されず、凹部が形成された基板と基板の一方面に振動板を介して設けられた圧電アクチュエーターとを有する他の圧電デバイスにも用いることができる。他の圧電デバイスとしては、例えば、超音波発信器等の超音波デバイス、超音波モーター、温度−電気変換器、圧力−電気変換器、強誘電体トランジスター、圧電トランス、赤外線等の有害光線の遮断フィルター、量子ドット形成によるフォトニック結晶効果を使用した光学フィルター、薄膜の光干渉を利用した光学フィルター等のフィルター、赤外線センサー、超音波センサー、感熱センサー、圧力センサー、焦電センサー、及びジャイロセンサー(角速度センサー)等の各種センサー、強誘電体メモリーなどが挙げられる。
I…インクジェット式記録装置(液体噴射装置)、1…インクジェット式記録ヘッド(液体噴射ヘッド)、2…インクカートリッジ(貯留手段)、3…キャリッジ、4…装置本体、5…キャリッジ軸、6…駆動モーター、7…タイミングベルト、8…搬送ローラー、10…流路形成基板(基板)、11…隔壁、12…圧力発生室(凹部)、13…連通部、14…インク供給路、15…連通路、20…ノズルプレート、21…ノズル、30…保護基板、31…マニホールド部、32…圧電素子保持部、35…接着剤、40…コンプライアンス基板、41…封止膜、42…固定板、43…開口部、50…振動板、51…酸化シリコン膜、52…酸化ジルコニウム膜、60…第1電極、70…圧電体層、80…第2電極、91…個別リード電極(引き出し配線)、92…ダミーリード電極、93…封止部、100…マニホールド、120…駆動回路、121…接続配線、200…保護膜、201…第1接続孔、210…絶縁保護膜、300…圧電アクチュエーター、320…活性部、330…溝部、S…記録シート、X…第1の方向、Y…第2の方向、Z…第3の方向
Claims (10)
- 圧電体層と、前記圧電体層を挟む第1電極及び第2電極を備える圧電素子と、
前記圧電素子の上部に設けられ、金又は白金からなる配線層とその下地層とがパターニングされた引き出し配線とを具備し、
前記引き出し配線の前記下地層の露出部を少なくとも覆う絶縁保護層を具備する、
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項1の液体噴射ヘッドにおいて、
前記下地層が、クロム、ニッケル、ニッケルクロム合金、アルミニウム及び銅から選択される材料からなる
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項1又は請求項2記載の液体噴射ヘッドにおいて、
前記配線層の前記下地層を露出する凹部が設けられ、前記絶縁保護層が前記凹部内にも設けられている
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項1から請求項3の何れか一項に記載の液体噴射ヘッドにおいて、
前記下地層の下側に第2絶縁保護層を具備する
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項4に記載の液体噴射ヘッドにおいて、
前記絶縁保護層と前記第2絶縁保護層とが同一の材料からなる
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項4又は請求項5に記載の液体噴射ヘッドにおいて、
前記絶縁保護層は、前記第2絶縁保護層より厚い
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項1から請求項6の何れか一項に記載の液体噴射ヘッドにおいて、
液体を吐出するノズル開口に連通する圧力室が設けられた流路基板に前記圧電素子が設けられ、前記流路基板には、前記圧電素子を保持する空間である圧電素子保持部を有する保護基板が接合されており、前記流路基板の前記保護基板との接合領域のうち前記引き出し配線が設けられていない領域にダミー配線が設けられ、前記ダミー配線上に前記絶縁保護層が設けられている
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項7に記載の液体噴射ヘッドにおいて、
前記絶縁保護層は、前記圧力室に対向する領域には設けられていない
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項7又は請求項8に記載の液体噴射ヘッドにおいて、
前記液体は、溶剤インク又は水系インクである
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項1から9の何れか一項に記載の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018052134A JP2019162801A (ja) | 2018-03-20 | 2018-03-20 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
US16/356,389 US10737492B2 (en) | 2018-03-20 | 2019-03-18 | Liquid ejecting head and liquid ejecting apparatus |
EP19164155.4A EP3543018A1 (en) | 2018-03-20 | 2019-03-20 | Liquid ejecting head and liquid ejecting apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018052134A JP2019162801A (ja) | 2018-03-20 | 2018-03-20 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019162801A true JP2019162801A (ja) | 2019-09-26 |
Family
ID=65894893
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018052134A Pending JP2019162801A (ja) | 2018-03-20 | 2018-03-20 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10737492B2 (ja) |
EP (1) | EP3543018A1 (ja) |
JP (1) | JP2019162801A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022154911A (ja) * | 2021-03-30 | 2022-10-13 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電デバイス、液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置 |
JP2022158050A (ja) | 2021-04-01 | 2022-10-14 | セイコーエプソン株式会社 | 記録装置 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4453655B2 (ja) | 2003-09-24 | 2010-04-21 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置 |
JP2005119199A (ja) | 2003-10-17 | 2005-05-12 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
JP4321618B2 (ja) * | 2007-03-29 | 2009-08-26 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド及びその製造方法 |
JP2009255528A (ja) | 2008-03-28 | 2009-11-05 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッド、圧電素子及び液体噴射装置 |
JP5754178B2 (ja) | 2011-03-07 | 2015-07-29 | 株式会社リコー | インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置 |
JP5708098B2 (ja) * | 2011-03-18 | 2015-04-30 | 株式会社リコー | 液体吐出ヘッド、液体吐出装置および画像形成装置 |
JP6060672B2 (ja) | 2012-12-20 | 2017-01-18 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置、圧電素子及びその製造方法 |
JP6123992B2 (ja) * | 2013-03-05 | 2017-05-10 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置、圧電素子及びその製造方法 |
JP2014175577A (ja) * | 2013-03-12 | 2014-09-22 | Seiko Epson Corp | 圧電素子、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、超音波トランデューサー及び超音波デバイス |
JP6168281B2 (ja) | 2013-03-13 | 2017-07-26 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置、液体噴射ヘッドの製造方法 |
JP2019025704A (ja) | 2017-07-27 | 2019-02-21 | セイコーエプソン株式会社 | Memsデバイスの製造方法、及び、memsデバイス |
-
2018
- 2018-03-20 JP JP2018052134A patent/JP2019162801A/ja active Pending
-
2019
- 2019-03-18 US US16/356,389 patent/US10737492B2/en active Active
- 2019-03-20 EP EP19164155.4A patent/EP3543018A1/en not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3543018A1 (en) | 2019-09-25 |
US20190291431A1 (en) | 2019-09-26 |
US10737492B2 (en) | 2020-08-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5957914B2 (ja) | 液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置 | |
JP2017157691A (ja) | 圧電デバイス、memsデバイス、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP5958568B2 (ja) | 液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置 | |
JP5737535B2 (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP7087413B2 (ja) | 圧電デバイス、液体噴射ヘッド、および、液体噴射装置 | |
US10611151B2 (en) | Liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, and piezoelectric device | |
JP5999301B2 (ja) | 圧電素子、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
US10737492B2 (en) | Liquid ejecting head and liquid ejecting apparatus | |
JP2006255972A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP6418275B2 (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置、圧電デバイスおよび液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP2005178293A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP2020203463A (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドの製造方法、液体噴射装置 | |
US10464322B2 (en) | Piezoelectric device, liquid ejecting head, and liquid ejecting apparatus | |
JP5790919B2 (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP6714827B2 (ja) | 圧電デバイス及び液体噴射ヘッド | |
JP6274423B2 (ja) | 圧電アクチュエーター、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP2019014229A (ja) | 圧電デバイス、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP7155656B2 (ja) | 圧電デバイス、液体噴射ヘッド、および、液体噴射装置 | |
JP5382324B2 (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP4553130B2 (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP2006239966A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP6146515B2 (ja) | 液体噴射ヘッド、圧電デバイスおよび液体噴射装置 | |
JP2016058715A (ja) | 圧電素子、液体噴射ヘッド、及び、液体噴射装置 | |
JP5858183B2 (ja) | 圧電素子、液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置 | |
JP6394904B2 (ja) | ヘッドの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20180910 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20181121 |
|
RD07 | Notification of extinguishment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7427 Effective date: 20200807 |