JP6714827B2 - 圧電デバイス及び液体噴射ヘッド - Google Patents
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Description
かかる態様では、圧電特性が小さいアモルファス部が能動部と非能動部との境界部に設けられているので、当該境界部で発生する応力を抑制することができる。したがって、当該境界部において焼損やクラックによる破壊が抑制され、信頼性が向上した圧電デバイスが提供される。
かかる態様では、圧電体層の破壊を抑制して信頼性が向上した液体噴射ヘッドが提供される。
図1は、本実施形態に係る液体噴射装置の一例であるインクジェット式記録装置の概略構成を示している。
インクジェット式記録装置Iにおいて、液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッド(以降、記録ヘッド1)は、インク供給手段を構成するカートリッジ2が着脱可能に設けられ、記録ヘッド1を搭載したキャリッジ3は、装置本体4に取り付けられたキャリッジ軸5に軸方向移動可能に設けられている。
第1リード電極91は、各圧電素子300の第1電極60のそれぞれに接続されたリード電極である。第2リード電極92は、各圧電素子300に共通した第2電極80に接続されたリード電極である。本実施形態では、第1リード電極91及び第2リード電極92は、後述する保護基板30の貫通孔33に露出するように配線されている。なお、第1リード電極91は、第2電極80と同一層からなる導電層84を介して第1電極60に接続されている。もちろん、第1リード電極91は第1電極60に直接接続されていてもよい。
圧電素子300の圧電体層70は、能動部310と非能動部320とを有している。能動部310は、圧電体層70が第1電極60及び第2電極80に挟まれた部分であり、非能動部320は、圧電体層70が第1電極60及び第2電極80に挟まれていない部分である。本実施形態では、第2電極80に覆われずに露出した部分が非能動部320となっている。
第1層81は、圧電体層70との界面を良好に形成できること、絶縁性及び圧電特性を発揮できる材料が望ましく、イリジウム(Ir)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、金(Au)、タングステン(W)、チタン(Ti)等の金属材料、及びランタンニッケル酸化物(LNO)に代表される導電性酸化物が好適に用いられる。また、第1層81は、複数材料の積層であってもよい。本実施形態では、イリジウム(Ir)とチタン(Ti)との積層電極(イリジウムが圧電体層70と接する)を使用している。そして、第1層81は、スパッタリング法、レーザーアブレーション法などのPVD(Physical Vapor Deposition)法(気相法)や、ゾル−ゲル法、MOD(Metal-Organic Decomposition)法、メッキ法などの液相法により形成することができる。また、第1層81の形成後に、加熱処理を行うことにより、圧電体層70の特性改善を行うことができる。このような第1層81は、圧電体層70上のみ、すなわち、圧電体層70の流路形成基板10とは反対側の表面上のみに形成されている。
図6に示すように、シリコンウェハーである流路形成基板用ウェハー110の表面に弾性膜51を形成する。本実施形態では、流路形成基板用ウェハー110を熱酸化することによって二酸化シリコンからなる弾性膜51を形成した。もちろん、弾性膜51の材料は、二酸化シリコンに限定されず、窒化シリコン膜、ポリシリコン膜、有機膜(ポリイミド、パリレンなど)等にしてもよい。弾性膜51の形成方法は熱酸化に限定されず、スパッタリング法、CVD法、スピンコート法等によって形成してもよい。
次に、図13に示すように、第2電極層180aの一部を除去して除去部83を形成する。このパターニングにより第2電極80を構成する第1層81が形成される。
実施形態1に係る圧電素子300は、第1電極60を複数の能動部310毎に独立して設けることで個別電極とし、第2電極80を複数の能動部310に亘って連続して設けることで共通電極としたが、このような態様に限定されない。
以上、本発明の各実施形態について説明したが、本発明の構成は上述したものに限定されるものではない。
実施形態1に係る記録ヘッド1は、第2電極80が第1層81及び第2層82から形成されていたが、このような態様に限定されない。すなわち、第2電極80は単層から形成されていてもよいし、3層以上の複数層から形成されていてもよい。第2電極80を単層とする場合は、例えば、第2電極層(図12の第2電極層180aに相当)を圧電体層70上に設けた後、パターニングして第2電極80を形成する。そして、リード電極層(図16のリード電極層190に相当)をスパッタリングで形成することで、圧電体層70のうち除去部83に露出した部分にダメージを与えてアモルファス部75とする。
Claims (6)
- Z方向において、第1電極と、圧電体層と、第2電極とがこの順に積層された圧電素子を基板上に備え、
前記圧電体層は、能動部と、アモルファス部とを有し、
前記アモルファス部は、少なくとも一部が前記第2電極の前記Z方向と直交するY方向における一端部に覆われており、
前記第2電極の前記一端部と、前記Y方向におけるアモルファス部の端部とは、前記第Y方向において異なる位置に設けられた
ことを特徴とする圧電デバイス。 - Z方向において、第1電極と、圧電体層と、第2電極とがこの順に積層された圧電素子を基板上に備え、
前記圧電体層は、能動部と、アモルファス部とを有し、
前記アモルファス部は、少なくとも一部が前記第2電極の前記Z方向と直交するY方向における一端部に覆われており、
前記アモルファス部は、前記Z方向において、前記圧電体層よりも薄く、
前記アモルファス部の前記第2電極側の端部と、前記能動部の前記第2電極側の端部とは、前記Z方向において同じ位置に設けられることを特徴とする圧電デバイス。 - Z方向において、第1電極と、圧電体層と、第2電極とがこの順に積層された圧電素子を基板上に備え、
前記圧電体層は、能動部と、アモルファス部とを有し、
前記アモルファス部は、少なくとも一部が前記第2電極の前記Z方向と直交するY方向における一端部に覆われており、
前記アモルファス部は、前記Y方向において、前記圧電体層の端部には設けられないことを特徴とする圧電デバイス。 - 基板の上方に設けられて前記基板側から第1電極、圧電体層及び第2電極が積層された圧電素子を備え、
前記圧電体層は、アモルファス部、及び前記第1電極と前記第2電極とで挟まれた能動部を有し、
前記第2電極は、前記圧電体層側の第1層と、前記第1層上の第2層とを備え、
前記第2層は、前記第1層よりも外側に設けられて前記能動部を規定し、
前記アモルファス部は、少なくとも一部が前記第2層に覆われ、前記第1層には覆われていない
ことを特徴とする圧電デバイス。 - 請求項1から請求項4の何れか一項に記載する圧電デバイスにおいて、
前記基板は、前記圧電素子により圧力変動される圧力発生室を有し、
前記アモルファス部は、前記圧力発生室とは重ならない位置に設けられている
ことを特徴とする圧電デバイス。 - 請求項1から請求項5の何れか一項に記載する前記圧電デバイスを備えることを特徴とする液体噴射ヘッド。
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