JP5745468B2 - ウエハ型の被処理物を一時保管するための装置および方法 - Google Patents
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Description
本発明は、複数のウエハ型の被処理物を、個別に垂直方向に積重ねて、これら被処理物が互いに接触しない状態で、一時保管するための装置および方法に関する。この装置は、フレームと、垂直方向に循環するとともに、等間隔で設けられ被処理物を水平方向に載せるための複数の支持領域を有する、少なくとも2つの搬送要素と、搬入位置と、静止取出し装置とを含む。
現代の産業界におけるさまざまな製品には、非常に精密に処理されたウエハ型の被処理物の形態の、半完成品が必要である。これらはたとえば、コンピュータ用の磁気大容量記憶装置(ハードディスク)を製造するための基板としての、ガラスまたはアルミニウムからなる環状のウエハ、光学ガラス、光学的目的のための高レベル基準面(いわゆる「フラット」)、太陽電池を製造するための多結晶半導体ウエハなどである。特に要求が厳しいのは、電子工学、超小型電子工学、および超小型電子機械工学に関連する機能部品の出発材料としての単結晶半導体ウエハである。
(b)ロッドをスライスして個別のウエハにする
(c)機械的処理
(d)化学的処理
(e)化学機械的処理
(f)適宜、層状構造体をさらに製造する
半導体ウエハの製造において好都合でありしたがって頻繁に使用されるのは、具体的にはグループ(b)から(f)に属するプロセスであり、これらグループでは、複数の半導体ウエハが1つの装置の中で同時に処理される。この処理形態はグループ処理またはバッチプロセスと呼ばれる。グループ(b)に属するバッチプロセスは、たとえばマルチワイヤスライス(multi-wire slicing)(MWS)を含み、グループ(c)に属するものは、遊星歯車機構の運動の特徴を利用したラップ仕上げまたは研削を含み、グループ(d)に属するものは、槽の中でのエッチングまたは化学的洗浄を含み、グループ(e)に属するものは、たとえばシリカゾルを用いた両面研磨(double-sided polishing)(DSP)を含む。
結果として、本発明が取組んだ課題は、バッチ処理後に、複数の半導体ウエハを正しい順序でかつ空間を節約するやり方で一時保管し、これら半導体ウエハを、実際、半導体ウエハを一時保管装置に供給している間に、または、最後の半導体ウエハを供給した直後に、たとえば連続洗浄という次の枚葉式ウエハ処理に、この連続洗浄に必要な周期的タイミングで、かつ、元の順序を保って、供給することを可能にする、装置および方法を特定することである。加えて、この装置は、手動で素早くかつ簡単な移動によって搬入することが可能でなければならない。
この課題は、以下の装置によって解決される。この装置は、複数のウエハ型の被処理物を一時保管するための装置であって、
‐フレームと、
‐少なくとも2つの搬送要素とを備え、搬送要素は、各々、フレームに接続された上側および下側の偏向装置の周りを垂直方向に循環し、等間隔で設けられ被処理物を水平方向に載せるための複数の支持領域を有し、各搬送要素の偏向装置のうち少なくとも一方が駆動され、搬送要素間には空きスペースがあり、
‐上側の偏向装置間の搬入位置を備え、この搬入位置で、各被処理物を対応する支持領域上に配置することができ、
‐搬入位置の下方の、水平搬送装置を含む静止取出し装置を備え、静止取出し装置の第1の端部は、搬送要素間の空きスペース内にある。
(a)被処理物を搬入位置に挿入するステップと、
(b)搬送要素を同期させて回すことにより、被処理物を、フレームに対し、支持領域間の垂直方向の1距離分だけ、被処理物に対して垂直に、搬入位置から下向きに前進移動させ、これにより搬入位置が再び空になるようにするステップと、
(c)n個の被処理物すべてが挿入されて、積重ねて配置され個々にそれぞれの支持領域上で支持されているn個の被処理物からなるスタックが形成されるまで、ステップ(a)および(b)を繰返すステップとを含む。
(d)上記スタックを、最も下にある被処理物が取出し装置の上で支持されるようになるまで、一回につき支持領域間の垂直方向の1距離分だけ、垂直方向下向きに移動させるステップと、
(e)上記最も下にある被処理物を、取出し装置を水平方向に移動させることによって上記スタックから取出すステップと、
(f)n個の被処理物すべてがこのスタックから取出されるまで、ステップ(d)および(e)を繰返すステップとを含む。
以下、本発明に従う装置について、図1〜図3を参照しながら説明する。この本発明に従う装置を、以降略して「一時保管装置」とも呼ぶ。
(g)被処理物を洗浄装置を通して搬送し、被処理物を個々に連続方法において洗浄するステップと、
(i)被処理物を個々に、仕分け装置によって、洗浄装置を通過した順序で、仕分けてカセットに入れるステップとを経る。
ある具体的な例示としての実施の形態は、図6に従って実現される、一時保管、洗浄およびトレイ導入装置を、PPG法による前処理からの半導体ウエハを洗浄するために機能させることを含むものであった。PPG処理中の正味の研削時間は約4分であった。設備のオペレータは、直径300mmの15の半導体ウエハからなる1つのPPGバッチを搬入するのに、約90秒を要し、その搬出には約120秒を要した。設備の補助的な時間(プロセスの最初と最後に上側の作業ディスクを旋回させ、上昇させて、下降させ;工程の終了後、半導体ウエハが載ったキャリアを、最初に搬入されたキャリアが工程の終了後最初に搬出位置に送られるように、配置し、工程の終了後に上側の作業ディスクに付着しているかもしれない半導体ウエハを取外す)を含めて、サイクルタイムは約9.5分であった。一時保管装置は、本発明に従う第1の方法に従って機能させた(スタックの搬入および搬出を同時に行なう)。一回のPPG工程の総搬出時間は2分であったので、設備のオペレータは平均して8秒毎に1つの半導体ウエハを一時保管装置に搬入したことになる。
図6に示される例のように、トレイ導入装置26は、半導体ウエハを上から把持する真空把持器28を備えていた。トレイ導入プロセスは約10秒続いた。この10秒のうち、トレイ導入搬送部27は持ち上げる作業の為に3秒間だけ止められた。連続する半導体ウエハと半導体ウエハとの間の時間間隔は5秒であったので(搬送速度2cm/sの場合、距離10cm)待ち時間は生じなかった。
1 フレーム
2 フレームの垂直方向の移動
3 垂直搬送要素
4 支持領域
5 垂直搬送要素のための偏向装置
6 垂直搬送要素の循環移動
7 水平搬送ベルトのための偏向ローラ
8 水平搬送ベルト
9 水平搬送ベルトのための偏向ローラのスピンドル
10 ねじ切りされたブッシュ
11 垂直搬送要素のための駆動装置
12 垂直搬送要素の駆動軸
13 垂直搬送要素の駆動軸の回転運動
14 水平搬送ベルトの循環移動
15 ねじ切りされたロッド
16 ねじ切りされたロッドの回転運動
17 被処理物
18 ガイドブッシュ(フレームの高さ調整用)
19 一時保管装置内での被処理物の位置
20 被処理物を収容するためのセンタリング装置
21 洗浄モジュール
22a、22b 搬送ローラ対
23 搬送ローラの毛
24a、24b 洗浄ローラ対
25 洗浄ローラの毛
26 トレイ導入装置
27 トレイ導入搬送部
28 真空把持部
29 カセット
30 ガイドリブ
31 カセットの垂直方向の移動
33 搬入位置
34 フレームの垂直方向の移動のための駆動装置
35 一時保管装置と洗浄モジュールとの間の搬送部
36 把持部が半導体ウエハを対象トレイに導入するために持ち上げて押す動き
37 一時保管装置からの自動取出中の被処理物の取出しのための移動
38 プロセス開始
39 入力:「搬入開始」
40 質問/分岐:「最も下の被処理物は取出し装置に接触?」
41 質問/分岐:「新たな被処理物?」
42 プロセスステップ:「フレームを1位置分上向きに移動」
43 プロセスステップ:「垂直搬送要素を1位置分下向きに移動」
44 プロセスステップ:「被処理物を搬出」
45 プロセス中断のためのオプション
46 ループ:「新たな被処理物待ち」
47 プロセスステップ:「フレームを1位置分下向きに移動」
48 入力:「搬入終了」
49 プロセス停止
50 質問/分岐:「搬入終了?」
51 質問/分岐:「このループが繰返されたのはn回未満?」
52 全体が取出し装置の水平搬送装置上にある半導体ウエハ
53a、53b さらなる被処理物を収容するための最も上にある水平姿勢の支持領域
54a、54b 支持領域53a、53bの下流にある垂直姿勢の支持領域
55 洗浄剤を供給するための装置
56 洗浄剤
57a、57b 乾燥装置
58a、58b 乾燥空気流
59 質問「フレームは最も下の位置?」
60 洗浄モジュール内の被処理物
61 トレイ導入装置上の被処理物
62a、62b 搬送ローラの回転
63a、63b 洗浄ローラの回転
64 搬入終了までのループ
65 センタリング装置20の窪み
66 可動支持領域4の水平方向の位置合わせのためのカム
67 チェーンとしての垂直搬送要素4の実施の形態の場合の偏向装置5の歯
68 可動支持領域4の傾斜移動
69 チェーンとしての垂直搬送要素4の実施の形態の場合のチェーンの接合部
70 チェーンとしての垂直搬送要素4の実施の形態の場合のチェーンリンク
71 フレーム1の垂直方向の移動のためのガイドロッド
n バッチ内の被処理物の数
WS 被処理物(たとえば半導体ウエハ)
Claims (10)
- 複数のウエハ型の被処理物(17)を一時保管するための装置であって、
フレーム(1)と、
少なくとも2つの搬送要素(3)とを備え、前記搬送要素は、各々、前記フレームに接続された上側および下側の偏向装置(5)の周りを垂直方向に循環し、等間隔で設けられ被処理物(17)を水平方向に載せるための複数の支持領域(4)を有し、各搬送要素(3)の前記偏向装置(5)のうち少なくとも一方が駆動され、前記搬送要素(3)間には空きスペースがあり、
前記上側の偏向装置(5)間の搬入位置(33)を備え、前記搬入位置で、各被処理物(17)を対応する支持領域(4)上に配置することができ、
前記搬入位置(33)の下方の、水平搬送装置(7、8、9)を含む静止取出し装置を備え、前記静止取出し装置の第1の端部は、前記搬送要素(3)間の前記空きスペース内にあり、
前記搬送要素(3)はチェーンであり、各々、接合部によって接続された複数のチェーンリンク(70)を含み、前記支持領域(4)は、前記接合部を中心として回転可能な状態で前記チェーンに接続され、カム(66)を有し、前記支持領域(4)の回転は、前記支持領域(4)の第1の端部が隣の前記支持領域(4)の前記カム(66)に当接することによって、および、前記支持領域(4)の前記カム(66)の第2の端部が前記チェーンリンク(70)に当接することによって、制限され、前記支持領域(4)は、自身の重量によって、前記チェーンが前記偏向装置(5)の周りを循環する(6)際、チェーンが上向きに移動する場合は前記第1の端部が当接する状態にあり、チェーンが下向きに移動する場合は前記第2の端部が当接する状態にある、装置。 - 4つの循環する搬送要素(3)を備え、前記4つの搬送要素(3)のうち2つは各々、共通軸(12)に固定された偏向装置(5)によって駆動され、前記2つの搬送要素(3)は各々、前記搬送要素(3)を接続する共通の支持領域(4)を有する、請求項1に記載の装置。
- 前記支持領域(4)は各々、前記被処理物(17)の形状に適合する窪み(65)を有する、請求項2に記載の装置。
- 前記フレーム(1)は、駆動装置(34)によって、前記取出し装置(7、8、9)に対して垂直方向に移動可能である、請求項1から3のいずれか1項に記載の装置。
- 前記フレーム(1)は、少なくとも1つのねじ切りされたブッシュ(10)を介して、ねじ切りされたロッド(15)に接続され、前記ロッドは、前記フレーム(1)が垂直方向に移動できるよう、駆動装置(34)によって回転させることができる、請求項4に記載の装置。
- 前記フレーム(1)は静止している、請求項1から3のいずれか1項に記載の装置。
- n個のウエハ型の被処理物(17)を個別に、請求項4に記載の装置に、隣接する被処理物に接触しない状態で積重ねて、一時保管するための方法であって、nは1よりも大きい整数であり、前記方法は、下記の順序の、
(a)被処理物(17)を前記搬入位置(33)に挿入するステップと、
(b)前記搬送要素(3)を同期させて回すことにより、前記被処理物(17)を、前記フレーム(1)に対し、前記支持領域(4)間の垂直方向の1距離分だけ、前記被処理物(17)に対して垂直に、前記搬入位置(33)から下向きに前進移動させ、これにより前記搬入位置(33)が再び空になるようにするステップと、
(c)n個の被処理物(17)すべてが挿入されて、積重ねて配置され個々にそれぞれの支持領域上で支持されているn個の被処理物(17)からなるスタックが形成されるまで、ステップ(a)および(b)を繰返すステップと、
(d)前記スタックを、最も下にある被処理物(17)が前記取出し装置(7、8、9)の上で支持されるようになるまで、一回につき前記支持領域(4)間の垂直方向の1距離分だけ、垂直方向下向きに移動させるステップと、
(e)前記最も下にある被処理物(17)を、前記取出し装置(7、8、9)を水平方向に移動させることによって前記スタックから取出す(37)ステップと、
(f)n個の被処理物(17)すべてが前記スタックから取出されるまで、ステップ(d)および(e)を繰返すステップとを含み、
n個の被処理物(17)からなる前記スタックが、ステップ(a)から(c)の実行によって形成され、1つまたは複数の被処理物(17)が再び、ステップ(d)から(f)の実行によって、挿入した順序で前記スタックから取出され、前記ステップ(d)に従う前記スタックの垂直方向の移動は、前記フレーム(1)が前記取出し装置(7、8、9)に対して相対的に垂直方向に移動することによって行なわれ、
ステップ(a)とステップ(b)との間に、前記フレーム(1)を、前記取出し装置(7、8、9)に対し、前記支持領域(4)間の垂直方向の1距離分だけ上向きに移動させる、方法。 - n個のウエハ型の被処理物(17)を個別に、請求項6に記載の装置に、隣接する被処理物に接触しない状態で積重ねて、一時保管するための方法であって、nは1よりも大きい整数であり、前記方法は、下記の順序の、
(a)被処理物(17)を前記搬入位置(33)に挿入するステップと、
(b)前記搬送要素(3)を同期させて回すことにより、前記被処理物(17)を、前記フレーム(1)に対し、前記支持領域(4)間の垂直方向の1距離分だけ、前記被処理物(17)に対して垂直に、前記搬入位置(33)から下向きに前進移動させ、これにより前記搬入位置(33)が再び空になるようにするステップと、
(c)n個の被処理物(17)すべてが挿入されて、積重ねて配置され個々にそれぞれの支持領域上で支持されているn個の被処理物(17)からなるスタックが形成されるまで、ステップ(a)および(b)を繰返すステップと、
(d)前記スタックを、最も下にある被処理物(17)が前記取出し装置(7、8、9)の上で支持されるようになるまで、一回につき前記支持領域(4)間の垂直方向の1距離分だけ、垂直方向下向きに移動させるステップと、
(e)前記最も下にある被処理物(17)を、前記取出し装置(7、8、9)を水平方向に移動させることによって前記スタックから取出す(37)ステップと、
(f)n個の被処理物(17)すべてが前記スタックから取出されるまで、ステップ(d)および(e)を繰返すステップとを含み、
最初にn個の被処理物(17)からなる完成したスタックを、ステップ(a)から(c)の実行によって形成し、その後、前記n個の被処理物(17)を再び、ステップ(d)から(f)の実行によって、挿入した順序で前記スタックから取出し、前記フレーム(1)は前記取出し装置(7、8、9)に対して移動せず、ステップ(d)に従う前記スタックの垂直方向の移動は、前記搬送要素(3)を同期させて回す(6)ことにより、前記スタックを前記フレーム(1)に対し下向きに移動させることによって行なわれる、方法。 - 前記被処理物(17)各々は、ステップ(e)の後、下記の順序の、
(g)前記被処理物(17)を洗浄装置(21)を通して搬送し、前記被処理物(17)を個々に連続方法において洗浄するステップと、
(i)前記被処理物(17)を個々に、仕分け装置(26)によって、前記洗浄装置(21)を通過した順序で、仕分けてカセット(29)に入れるステップとを経る、請求項7または8に記載の方法。 - ステップ(g)とステップ(i)との間にさらなるステップ(h)を行ない、前記被処理物(17)を前記さらなるステップ(h)で乾燥する、請求項9に記載の方法。
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