JPS62136427A - バツフア機能を備えた搬送装置 - Google Patents
バツフア機能を備えた搬送装置Info
- Publication number
- JPS62136427A JPS62136427A JP27297885A JP27297885A JPS62136427A JP S62136427 A JPS62136427 A JP S62136427A JP 27297885 A JP27297885 A JP 27297885A JP 27297885 A JP27297885 A JP 27297885A JP S62136427 A JPS62136427 A JP S62136427A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- elevator
- wafer
- buffer
- cassette
- buffer function
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Intermediate Stations On Conveyors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はバッファ機能を備えた搬送装置に関するもので
ある。
ある。
[従来の技術]
:jS3図は、従来のこの種の装置を、例えば特開昭8
0−182727号公報に示されているようなウェハの
各処理工程ライン間、すなわちレジスト塗布・ベーク装
置(1)と露光装置(2)との間、およびこの露光装″
m(2)と現像・ベータ装置(3)との間のそれぞれの
接続部に適用した一例を示すものである。図中、(4)
は図示しないウェハを収容して、レジスト塗布・ベータ
装置(1)へ移送するウェハローダ装置、(5)はこの
ウェハローダ装置(4)によって移送されたウェハにレ
ジストを塗布するレジスト塗布器、(6)はレジストが
塗布されたウェハにプリベータを行なうためのベータ炉
、(7)はレジスト塗布・ベータ装置(1)における処
理が終ったウェハの移動先が処理動作中の場合に、該ウ
ェハを一時的にライン上から待機させるバッファ装置で
、このバッファ装置(7)は、第4図に示すように、ウ
ェハ(8)移送方向の両側に開口部を有する積層された
棚状のカセット(9)を有し、このカセット(9)がウ
ェハ搬送路(10)に対し、所定ピッチで上下移動可能
に設けられている。(11)は上記レジスト塗布・ベー
タ装置(1)またはバッファ装置(7)からのウェハ(
8)を高さの異なる露光装置(2)の搬送面(12)へ
1枚ずつ移送するエレベータ装置である。(13)はパ
ターンが露光され上記同様のエレベータ装置(11’)
およびバッファ装置(7′)を介して搬送されたウェハ
を現像する現像器、(14)は現像されたウェハにポス
トベークを行うベータ類、(15)はウェハアンロード
装置である。
0−182727号公報に示されているようなウェハの
各処理工程ライン間、すなわちレジスト塗布・ベーク装
置(1)と露光装置(2)との間、およびこの露光装″
m(2)と現像・ベータ装置(3)との間のそれぞれの
接続部に適用した一例を示すものである。図中、(4)
は図示しないウェハを収容して、レジスト塗布・ベータ
装置(1)へ移送するウェハローダ装置、(5)はこの
ウェハローダ装置(4)によって移送されたウェハにレ
ジストを塗布するレジスト塗布器、(6)はレジストが
塗布されたウェハにプリベータを行なうためのベータ炉
、(7)はレジスト塗布・ベータ装置(1)における処
理が終ったウェハの移動先が処理動作中の場合に、該ウ
ェハを一時的にライン上から待機させるバッファ装置で
、このバッファ装置(7)は、第4図に示すように、ウ
ェハ(8)移送方向の両側に開口部を有する積層された
棚状のカセット(9)を有し、このカセット(9)がウ
ェハ搬送路(10)に対し、所定ピッチで上下移動可能
に設けられている。(11)は上記レジスト塗布・ベー
タ装置(1)またはバッファ装置(7)からのウェハ(
8)を高さの異なる露光装置(2)の搬送面(12)へ
1枚ずつ移送するエレベータ装置である。(13)はパ
ターンが露光され上記同様のエレベータ装置(11’)
およびバッファ装置(7′)を介して搬送されたウェハ
を現像する現像器、(14)は現像されたウェハにポス
トベークを行うベータ類、(15)はウェハアンロード
装置である。
[発明が解決しようとする問題点]
従来は以上のように、各処理工程ライン間の搬送面の高
さを吸収するエレベータ装置(11)にウェハを1枚ず
つ搬送させるようにしているため、各処理工程ライン間
に発生する処理時間差を、該エレベータ装置(11)に
対し直列に配置したバッファ装置(7)によって補償さ
せなければならず、小形化が図れないばかりでなく、ス
ループットを向上させることができないという問題があ
った。
さを吸収するエレベータ装置(11)にウェハを1枚ず
つ搬送させるようにしているため、各処理工程ライン間
に発生する処理時間差を、該エレベータ装置(11)に
対し直列に配置したバッファ装置(7)によって補償さ
せなければならず、小形化が図れないばかりでなく、ス
ループットを向上させることができないという問題があ
った。
本発明は叙との点に鑑み、システム全体のスループット
を向上させることができるとともに、装置の占有空間を
縮小せしめることの可能なバッファ機能を備えた搬送装
置を得ることを目的とする。
を向上させることができるとともに、装置の占有空間を
縮小せしめることの可能なバッファ機能を備えた搬送装
置を得ることを目的とする。
[問題点を解決するための手段]
本発明のバッファ機能を備えた搬送装置は、ウェハの各
処理工程ライン間のそれぞれの接続部に設置されるウェ
ハ移送用のエレベータ装置に、複数のウェハ収納部を備
えたカセットを昇降可能に支持せしめたものである。
処理工程ライン間のそれぞれの接続部に設置されるウェ
ハ移送用のエレベータ装置に、複数のウェハ収納部を備
えたカセットを昇降可能に支持せしめたものである。
[作用]
本発明においては、エレベータ装置とバッファ装置とが
一体化され、従来、直列に配置していたバッファ装置の
占有空間を縮小できるため、装置の小形化が可能となっ
ている。また、カセットに複数の収納部を設けているの
で、複数枚のウェハな一度に移送することが可能となり
、エレベータ装置の動作回数並びに動作時間の低減化が
図れ、発塵やダストの舞上りを防止できるとともに、ト
ータルスルーブツトを向上させ得る効果がある。
一体化され、従来、直列に配置していたバッファ装置の
占有空間を縮小できるため、装置の小形化が可能となっ
ている。また、カセットに複数の収納部を設けているの
で、複数枚のウェハな一度に移送することが可能となり
、エレベータ装置の動作回数並びに動作時間の低減化が
図れ、発塵やダストの舞上りを防止できるとともに、ト
ータルスルーブツトを向上させ得る効果がある。
[実施例コ
以下、従来に相当する部分には同一符号を付して示す第
1図および第2図の実施例について本発明を説明する。
1図および第2図の実施例について本発明を説明する。
図において、(16)はレジスト塗布・ベータ装置(1
)からのウェハ(8)を下方に位置する露光袋@(2)
の搬送面(12)上へ移送する搬送装置で、エレベータ
部(17)とこのエレベータ部(17)に昇降可能に支
持されたバッファ部(18)とから構成されている。前
記バッファ部(18)は前述のバッファ装置(7)同様
、ウェハ(8)搬送方向の両側に開口部を有する積層さ
れた棚状のカセット(18)から構成され、さらにこの
カセット(19)が前記エレベータ部(17)に対し所
定ピッチで上下移動可能に設けられている。上記以外の
構成は従来と同様であるのでその説明は省略する。
)からのウェハ(8)を下方に位置する露光袋@(2)
の搬送面(12)上へ移送する搬送装置で、エレベータ
部(17)とこのエレベータ部(17)に昇降可能に支
持されたバッファ部(18)とから構成されている。前
記バッファ部(18)は前述のバッファ装置(7)同様
、ウェハ(8)搬送方向の両側に開口部を有する積層さ
れた棚状のカセット(18)から構成され、さらにこの
カセット(19)が前記エレベータ部(17)に対し所
定ピッチで上下移動可能に設けられている。上記以外の
構成は従来と同様であるのでその説明は省略する。
以上のように構成される本発明のバッファ機能を備えた
搬送装置は、エレベータ部(17)による通常の搬送機
能とバッファ部(18)による時間調整機能とを備えて
いるため、例えば複数枚のウェハ(8)を一度に移送さ
せてエレベータ部(17)の動作回数並びに昇降動作時
間の低減化を図る等、種々の動作態様を選択でき、その
用途を著しく拡大させることが(Tf能となっている。
搬送装置は、エレベータ部(17)による通常の搬送機
能とバッファ部(18)による時間調整機能とを備えて
いるため、例えば複数枚のウェハ(8)を一度に移送さ
せてエレベータ部(17)の動作回数並びに昇降動作時
間の低減化を図る等、種々の動作態様を選択でき、その
用途を著しく拡大させることが(Tf能となっている。
また、本発明の4727機能を備えた搬送装置は、エレ
ベータ装置とバッファ装置とが一体構成されているため
、装置の小形化が可能となり、設置スペースの有効利用
が図れる。
ベータ装置とバッファ装置とが一体構成されているため
、装置の小形化が可能となり、設置スペースの有効利用
が図れる。
[発明の効果]
以上述べたように、本発明によれば、エレベータ装置と
バッファ装置とを一体構成して単一の搬送装置にバッフ
ァ機能をも備えせさるようにしたので、装置の小形化が
図れ、その占有空間を縮小させることができるという効
果がある。また、カセットに複数のウェハ収納部を設け
、複数枚のウェハを一度に移送することができるため、
エレベータ装置の動作回数並びに動作時間の低減化が図
れ、発塵やダストのまいあかりを防止でき、更にトータ
ルスルーブツトを向上させ得るという効果もある。
バッファ装置とを一体構成して単一の搬送装置にバッフ
ァ機能をも備えせさるようにしたので、装置の小形化が
図れ、その占有空間を縮小させることができるという効
果がある。また、カセットに複数のウェハ収納部を設け
、複数枚のウェハを一度に移送することができるため、
エレベータ装置の動作回数並びに動作時間の低減化が図
れ、発塵やダストのまいあかりを防止でき、更にトータ
ルスルーブツトを向上させ得るという効果もある。
第1図は本発明装置の実施例を概略的に説明する説明図
、第2図は本発明装置をウェハ処理装置に適用した全体
構成を概略的に示す説明図、第3図は従来のウェハ処理
装置の全体構成を概略的に示す第2図相当図、第4図は
従来の搬送装置を示す第1図相当図である。 図において、 (8)はウェハ(被搬送体)、 (IG)は搬送装置、 (17)はエレベータ部、 (19)はカセットである。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 代 理 人 大 岩 増 雄第1図 19:ηtット 第4図 手続補正書(自発) 特許庁長官殿 1
5″″″1、事件の表示 特願昭60−27297
8号2、発明の名称 八ツ77機能を備えた搬送装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号。 名 称 (601)三菱電機株式会社代表者志岐守哉 4、代理人 図面。 6・補正の内容 ■面の第1図を別紙のとおり補正する。 添付書類の目録 図面 1通量 上
、第2図は本発明装置をウェハ処理装置に適用した全体
構成を概略的に示す説明図、第3図は従来のウェハ処理
装置の全体構成を概略的に示す第2図相当図、第4図は
従来の搬送装置を示す第1図相当図である。 図において、 (8)はウェハ(被搬送体)、 (IG)は搬送装置、 (17)はエレベータ部、 (19)はカセットである。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 代 理 人 大 岩 増 雄第1図 19:ηtット 第4図 手続補正書(自発) 特許庁長官殿 1
5″″″1、事件の表示 特願昭60−27297
8号2、発明の名称 八ツ77機能を備えた搬送装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号。 名 称 (601)三菱電機株式会社代表者志岐守哉 4、代理人 図面。 6・補正の内容 ■面の第1図を別紙のとおり補正する。 添付書類の目録 図面 1通量 上
Claims (2)
- (1)搬送面がそれぞれ高さの異なる複数の処理工程ラ
イン間に介在設置され一方の処理工程ラインからの被搬
送体を他方の処理工程ラインの搬送面上へ移送するエレ
ベータと、このエレベータに昇降可能に支持されて被搬
送体を収納する複数の収納部を備えたカセットとから成
るバッファ機能を備えた搬送装置。 - (2)上記カセットの収納部はライン上に開口する積層
された棚から構成されていることを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載のバッファ機能を備えた搬送装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27297885A JPS62136427A (ja) | 1985-12-04 | 1985-12-04 | バツフア機能を備えた搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27297885A JPS62136427A (ja) | 1985-12-04 | 1985-12-04 | バツフア機能を備えた搬送装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62136427A true JPS62136427A (ja) | 1987-06-19 |
Family
ID=17521441
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27297885A Pending JPS62136427A (ja) | 1985-12-04 | 1985-12-04 | バツフア機能を備えた搬送装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62136427A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01318247A (ja) * | 1988-06-17 | 1989-12-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板搬送用エレベータ |
JPH02144333A (ja) * | 1988-07-01 | 1990-06-04 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置および基板搬送装置 |
JPH02192752A (ja) * | 1989-01-20 | 1990-07-30 | Tokyo Electron Ltd | 半導体製造装置 |
JPH08321537A (ja) * | 1996-05-20 | 1996-12-03 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置及び処理方法 |
JP2002167039A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-11 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 基板移載装置 |
KR100497097B1 (ko) * | 2003-04-24 | 2005-06-23 | 한국타이어 주식회사 | 승용차용 래디얼 타이어의 압출물 저장 및 이송장치 |
US9199791B2 (en) | 2011-07-04 | 2015-12-01 | Siltronic Ag | Device and method for buffer-storing a multiplicity of wafer-type workpieces |
-
1985
- 1985-12-04 JP JP27297885A patent/JPS62136427A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01318247A (ja) * | 1988-06-17 | 1989-12-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板搬送用エレベータ |
JPH0628278B2 (ja) * | 1988-06-17 | 1994-04-13 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板搬送用エレベータ |
JPH02144333A (ja) * | 1988-07-01 | 1990-06-04 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置および基板搬送装置 |
JPH02192752A (ja) * | 1989-01-20 | 1990-07-30 | Tokyo Electron Ltd | 半導体製造装置 |
JPH08321537A (ja) * | 1996-05-20 | 1996-12-03 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置及び処理方法 |
JP2002167039A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-11 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 基板移載装置 |
KR100497097B1 (ko) * | 2003-04-24 | 2005-06-23 | 한국타이어 주식회사 | 승용차용 래디얼 타이어의 압출물 저장 및 이송장치 |
US9199791B2 (en) | 2011-07-04 | 2015-12-01 | Siltronic Ag | Device and method for buffer-storing a multiplicity of wafer-type workpieces |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4908304B2 (ja) | 基板の処理方法、基板の処理システム及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | |
EP0960434B1 (en) | Device for processing semiconductor wafers | |
KR101114787B1 (ko) | 기판 처리 시스템 및 기판 반송 방법 | |
JP4739532B2 (ja) | Lcdガラス基板の搬送システム | |
KR101092065B1 (ko) | 기판처리시스템 및 기판처리방법 | |
JP4464993B2 (ja) | 基板の処理システム | |
JP4887329B2 (ja) | 基板処理システム | |
JP2010278254A (ja) | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | |
JP4687682B2 (ja) | 塗布、現像装置及びその方法並びに記憶媒体 | |
JPS62136427A (ja) | バツフア機能を備えた搬送装置 | |
JP2010278249A (ja) | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | |
KR101087463B1 (ko) | 기판 처리 시스템, 기판 반송 방법, 및 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체 | |
KR20130092466A (ko) | 기판 처리 장치 | |
JP2004303916A (ja) | 製造対象物の搬送装置および製造対象物の搬送方法 | |
JP3957445B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2002151384A (ja) | 処理装置 | |
JP3857097B2 (ja) | 基板処理システム | |
JPH0513551A (ja) | 処理装置 | |
TW398021B (en) | Coating and developing apparatus, complex apparatus and processing method in coating and developing apparatus | |
CN213149472U (zh) | 涂敷、显影装置 | |
JP4127391B2 (ja) | 処理ユニット収納棚および基板処理装置 | |
KR102259067B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 반송 방법 | |
JPS58145144A (ja) | ウエハ−ス搬送装置 | |
JP4475904B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6423331B2 (ja) | 基板ストック装置 |