JPH0628278B2 - 基板搬送用エレベータ - Google Patents
基板搬送用エレベータInfo
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- JPH0628278B2 JPH0628278B2 JP15094988A JP15094988A JPH0628278B2 JP H0628278 B2 JPH0628278 B2 JP H0628278B2 JP 15094988 A JP15094988 A JP 15094988A JP 15094988 A JP15094988 A JP 15094988A JP H0628278 B2 JPH0628278 B2 JP H0628278B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- path
- substrate
- lifter
- elevator
- feeding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Attitude Control For Articles On Conveyors (AREA)
- Feeding Of Articles By Means Other Than Belts Or Rollers (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Intermediate Stations On Conveyors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体基板やフォトマスク用ガラス基板等
(以下、単に基板と称する)を1枚毎に昇降搬送するエ
レベータに関するものである。
(以下、単に基板と称する)を1枚毎に昇降搬送するエ
レベータに関するものである。
一般に、基板の表面処理工程においては、基板に塵埃が
付着するのを避けるため、なるべく上方の位置で基板の
表面処理をするように、スピンナー等の基板載置面やそ
れに付随する基板の搬送路は高い位置に配置されてい
る。
付着するのを避けるため、なるべく上方の位置で基板の
表面処理をするように、スピンナー等の基板載置面やそ
れに付随する基板の搬送路は高い位置に配置されてい
る。
しかし、基板表面にパターンを焼付ける露光工程等にお
いては、露光装置の光学系が上方に位置し、露光部が下
方に位置しているという構造上の制約から、露光装置に
付随する搬送路は比較的低い位置に配置されている。
いては、露光装置の光学系が上方に位置し、露光部が下
方に位置しているという構造上の制約から、露光装置に
付随する搬送路は比較的低い位置に配置されている。
基板搬送用エレベータは、このような一方の搬送路から
高低差を有する他方の搬送路へ基板を搬送するのに用い
られるもので、この種のエレベータとしては、従来よ
り、例えば、本出願人の提案に係る実開昭59−170
517号公報に開示されたものが知られている。
高低差を有する他方の搬送路へ基板を搬送するのに用い
られるもので、この種のエレベータとしては、従来よ
り、例えば、本出願人の提案に係る実開昭59−170
517号公報に開示されたものが知られている。
それは昇降可能に設けられたリフタを具備して成り、リ
フタで基板の外縁部を支持し、なるべくリフタと基板と
の接触面積を小さくして、塵埃の付着を防止するように
構成されている。
フタで基板の外縁部を支持し、なるべくリフタと基板と
の接触面積を小さくして、塵埃の付着を防止するように
構成されている。
ところで、前段工程で使用する装置と後段工程で使用す
る装置とでは、製造業者が異なるため、上方に位置する
搬送路と下方に位置する搬送路とではラインピッチが異
なる場合がある。
る装置とでは、製造業者が異なるため、上方に位置する
搬送路と下方に位置する搬送路とではラインピッチが異
なる場合がある。
例えば、第3図の仮想線で示す露光装置4において、そ
の露光装置の搬入出路3と5のラインピッチ P2は、エ
レベータを介して基板2を受け渡しする上方に位置する
スピンコータ等の表面処理装置の給排送路1と6のライ
ンピッチ P1と異なることがある。
の露光装置の搬入出路3と5のラインピッチ P2は、エ
レベータを介して基板2を受け渡しする上方に位置する
スピンコータ等の表面処理装置の給排送路1と6のライ
ンピッチ P1と異なることがある。
エレベータの給送用リフタ11a と排送用リフタ11b
の間隔は上方に位置する給排送1・6のラインピッチ P
1に適合させて配置構成されているため、エレベータと
露光装置4との間に一方の搬送路5からラインピッチの
異なる他方の搬送路6へ基板2を移し換える手段120
が必要になる。
の間隔は上方に位置する給排送1・6のラインピッチ P
1に適合させて配置構成されているため、エレベータと
露光装置4との間に一方の搬送路5からラインピッチの
異なる他方の搬送路6へ基板2を移し換える手段120
が必要になる。
しかし、極度に塵埃の付着を回避する必用があるこの種
の装置において、新たに基板の移載手段120を介在さ
せることは、それだけ基板の裏面汚染の機会が多くなる
ので、好ましくない。また、エレベータとその後続の装
置との間に移載手段を付設するためのスペースを必要と
し、しかも、移載手段を制御するための別の制御ユニッ
トを付設する必要があるため、制御回路が複雑化する。
の装置において、新たに基板の移載手段120を介在さ
せることは、それだけ基板の裏面汚染の機会が多くなる
ので、好ましくない。また、エレベータとその後続の装
置との間に移載手段を付設するためのスペースを必要と
し、しかも、移載手段を制御するための別の制御ユニッ
トを付設する必要があるため、制御回路が複雑化する。
本発明はこのような事情を考慮してなされたもので、基
板の移載手段を省くことによって、そのためのスペース
を省くとともに、基板の裏面汚染の軽減を図ること、及
び制御ユニットの単一化によって制御回路の簡素化、ひ
いてはコストの低減を図ることをその目的とする。
板の移載手段を省くことによって、そのためのスペース
を省くとともに、基板の裏面汚染の軽減を図ること、及
び制御ユニットの単一化によって制御回路の簡素化、ひ
いてはコストの低減を図ることをその目的とする。
本発明は、上記目的を達成するものであり、次のように
構成されている。
構成されている。
即ち、上方に位置する給送路1および排送路6と、下方
に位置する搬入路3及び排出路5との間で、基板を昇降
搬送する基板搬送用エレベータにおいて、 基板2の外縁を支持して、上方に位置する給送路1より
基板2を受け取って下降し、下方に位置する搬入路3へ
基板2を引き渡す給送用リフタ11aと、基板2の外縁
を支持して、下方に位置する排出路5より基板2を受け
取って上昇し、上方に位置する排送路6へ基板2を引き
渡す排送用リフタ11bと、上方に位置する給送路1と
排送路6との間のラインピッチP1が、下方に位置する
搬入路3と排出路5との間のラインピッチP2と異なる
差異の分P1−P2だけ、上記給送用リフタ11aと排
送用リフタ11bの少なくとも一方のリフタを横移動さ
せる搬送路間隔変更手段20とを備えることを特徴とす
るものである。
に位置する搬入路3及び排出路5との間で、基板を昇降
搬送する基板搬送用エレベータにおいて、 基板2の外縁を支持して、上方に位置する給送路1より
基板2を受け取って下降し、下方に位置する搬入路3へ
基板2を引き渡す給送用リフタ11aと、基板2の外縁
を支持して、下方に位置する排出路5より基板2を受け
取って上昇し、上方に位置する排送路6へ基板2を引き
渡す排送用リフタ11bと、上方に位置する給送路1と
排送路6との間のラインピッチP1が、下方に位置する
搬入路3と排出路5との間のラインピッチP2と異なる
差異の分P1−P2だけ、上記給送用リフタ11aと排
送用リフタ11bの少なくとも一方のリフタを横移動さ
せる搬送路間隔変更手段20とを備えることを特徴とす
るものである。
本発明では、前記給送用リフタ11aは、上方に位置す
る給送路1より給送されてくる基板2を受け取って下降
し、下方に位置する搬入路3へ基板2を引き渡す。
る給送路1より給送されてくる基板2を受け取って下降
し、下方に位置する搬入路3へ基板2を引き渡す。
また、前記排送用リフタ11bは、下方に位置する排送
路5より排出されてくる基板2を受け取って上昇し、上
方に位置する排送路6へ基板2を引き渡す。
路5より排出されてくる基板2を受け取って上昇し、上
方に位置する排送路6へ基板2を引き渡す。
上記引き渡しに際して、前記搬送路間隔変更手段20
は、上記給送用リフタ11aと排送用リフタ11bの少
なくとも一方のリフタを横移動させる。つまり、上方に
位置する給送路1と排送路6との間のラインピッチP1
と、下方に位置する搬入路3と排出路5との間のライン
ピッチP2との差異の分P1−P2だけリフタ11a・
11bを横移動させて、一方のラインピッチP1と他方
のラインピッチP2とを実質的に揃える。
は、上記給送用リフタ11aと排送用リフタ11bの少
なくとも一方のリフタを横移動させる。つまり、上方に
位置する給送路1と排送路6との間のラインピッチP1
と、下方に位置する搬入路3と排出路5との間のライン
ピッチP2との差異の分P1−P2だけリフタ11a・
11bを横移動させて、一方のラインピッチP1と他方
のラインピッチP2とを実質的に揃える。
これにより、従来例のような移載手段は不要になる。
以下、本発明を添付図面に示す実施例により詳細に説明
する。
する。
第1図は本発明の1実施例を示す基板搬送用エレベータ
の正面側より見た斜視図、第2図はその背面側より見た
要部の斜視図である。
の正面側より見た斜視図、第2図はその背面側より見た
要部の斜視図である。
第1図において符号10はエレベータ全体を示し、この
エレベータ10は例えば図示を省略したスピンコータ等
の基板表面処理装置とパターンの焼付露光装置4との間
に設けられ、上方に位置する給送路1より基板を受け取
って下方に位置する搬入路3へ引き渡し、焼付露光装置
4でパターンの焼付けをした後、下方に位置する排出路
5より当該基板2を受け取り、上方に位置し、上記搬入
出路3・5とラインピッチが異なる排送路6へ基板2を
引き渡すように構成されている。
エレベータ10は例えば図示を省略したスピンコータ等
の基板表面処理装置とパターンの焼付露光装置4との間
に設けられ、上方に位置する給送路1より基板を受け取
って下方に位置する搬入路3へ引き渡し、焼付露光装置
4でパターンの焼付けをした後、下方に位置する排出路
5より当該基板2を受け取り、上方に位置し、上記搬入
出路3・5とラインピッチが異なる排送路6へ基板2を
引き渡すように構成されている。
即ち、このエレベータ10はそれぞれ昇降可能に設けら
れた給送用リフタ11a及び排送用リフタ11bと、各
リフタ11a ・11b を昇降可能に支持する架台12・
12と、基台15上に立設された架台12を昇降案内す
るガイドフレーム14と、架台12を無端ベルト18で
昇降駆動する駆動モータ16と、一方のリフタ(排送用
リフタ)11b を横方向(第2図矢印B方向)へ移動す
る搬送路間隔変更手段20とを具備して成る。なお、第
1図中の符号7は上方に位置する給送路1と給送用リフ
タ11aとの間で基板2をやり取りするアーム式基板搬
送装置、符号8は排送路6と排送用リフタ11bとの間
で基板2をやり取りするアーム式基板搬送装置である。
れた給送用リフタ11a及び排送用リフタ11bと、各
リフタ11a ・11b を昇降可能に支持する架台12・
12と、基台15上に立設された架台12を昇降案内す
るガイドフレーム14と、架台12を無端ベルト18で
昇降駆動する駆動モータ16と、一方のリフタ(排送用
リフタ)11b を横方向(第2図矢印B方向)へ移動す
る搬送路間隔変更手段20とを具備して成る。なお、第
1図中の符号7は上方に位置する給送路1と給送用リフ
タ11aとの間で基板2をやり取りするアーム式基板搬
送装置、符号8は排送路6と排送用リフタ11bとの間
で基板2をやり取りするアーム式基板搬送装置である。
各リフタ11a ・11b は基板2との接触面積をできる
だけ少なくして、裏面の汚染を防止するため、外縁部を
支持するように構成されており、給送用リフタ11a は
一方の架台12に直接固設され、排送用リフタ11b
は、他方の架台12に対して横移動可能に設けられてい
る。
だけ少なくして、裏面の汚染を防止するため、外縁部を
支持するように構成されており、給送用リフタ11a は
一方の架台12に直接固設され、排送用リフタ11b
は、他方の架台12に対して横移動可能に設けられてい
る。
各ガイドフレーム14には架台12を昇降案内する一組
のガイドレール13・13と、駆動モータ16の駆動プ
ーリ17と一対をなす従動プーリ19が設けられ、駆動
プーリ17と従動プーリ19とにわたって巻掛けられた
無端ベルト18の一部が架台12に固定され、駆動モー
タ16によって架台12を昇降させるように構成されて
いる。
のガイドレール13・13と、駆動モータ16の駆動プ
ーリ17と一対をなす従動プーリ19が設けられ、駆動
プーリ17と従動プーリ19とにわたって巻掛けられた
無端ベルト18の一部が架台12に固定され、駆動モー
タ16によって架台12を昇降させるように構成されて
いる。
上記搬送路間隔変更手段20は、第2図に示すように排
送用リフタ11b を固設したリフタ支持ブロック21
と、架台12に対してリフタ支持ブロック21を横移動
可能に支持するリフタガイドバー22と、リフタ支持ブ
ロック21と一体的に横移動可能に設けられたリフタ駆
動用ブロック23と、リフタ駆動用ブロック23を横移
動可能に支持するガイドバー24と、リフタ駆動用ブロ
ック23を横駆動するエアシリンダ25とを具備して成
る。
送用リフタ11b を固設したリフタ支持ブロック21
と、架台12に対してリフタ支持ブロック21を横移動
可能に支持するリフタガイドバー22と、リフタ支持ブ
ロック21と一体的に横移動可能に設けられたリフタ駆
動用ブロック23と、リフタ駆動用ブロック23を横移
動可能に支持するガイドバー24と、リフタ駆動用ブロ
ック23を横駆動するエアシリンダ25とを具備して成
る。
リフタガイドバー22は昇降可能に設けられた架台12
にその一端部が片持式に植設され、リフタ支持ブロック
21にあけた挿通孔内を挿通させて当該リフタ支持ブロ
ック21を横移動可能に支持している。
にその一端部が片持式に植設され、リフタ支持ブロック
21にあけた挿通孔内を挿通させて当該リフタ支持ブロ
ック21を横移動可能に支持している。
一方、リフタ駆動用ブロック23を支持するガイドバー
24は、基台15上に支持具26・26を介してリフタ
ガイドバー22と平行をなすように設けられ、リフタ駆
動用ブロック23にあけた挿通孔内を挿通させて当該リ
フタ駆動用ブロック23を横移動可能に支持している。
そしてリフタ駆動用ブロック23の側面にはエアシリン
ダ25の出力ロッド25a が連結され、リフタ駆動用ブ
ロック23は第2図の仮想線で示す出力ロッド収縮位置
Cと、実線で示す出力ロッド伸長位置Dとに位置切替え
可能に構成されている。
24は、基台15上に支持具26・26を介してリフタ
ガイドバー22と平行をなすように設けられ、リフタ駆
動用ブロック23にあけた挿通孔内を挿通させて当該リ
フタ駆動用ブロック23を横移動可能に支持している。
そしてリフタ駆動用ブロック23の側面にはエアシリン
ダ25の出力ロッド25a が連結され、リフタ駆動用ブ
ロック23は第2図の仮想線で示す出力ロッド収縮位置
Cと、実線で示す出力ロッド伸長位置Dとに位置切替え
可能に構成されている。
また、リフタ駆動用ブロック23の前面には、リフタ支
持ブロック21を一定範囲内で昇降案内するとともに、
リフタ支持ブロック21を横方向へ移動させるガイド部
材31が立設されている。
持ブロック21を一定範囲内で昇降案内するとともに、
リフタ支持ブロック21を横方向へ移動させるガイド部
材31が立設されている。
このガイド部材31の上側には、上記出力ロッド伸長位
置Dでリフタ支持ブロック21を上昇可能に案内するガ
イ棒32がそれらの端部を近接させて直列状に設けら
れ、このガイド棒32は第1図に示すように、前記ガイ
ドフレーム14より横向に設けたアーム33に固定され
ており、リフタ支持ブロック21が下降した際に、当該
ブロック21が上記ガイド部材31を介してリフタ駆動
用ブロック23と一体的に横移動するのを確実ならしめ
るためのものである。
置Dでリフタ支持ブロック21を上昇可能に案内するガ
イ棒32がそれらの端部を近接させて直列状に設けら
れ、このガイド棒32は第1図に示すように、前記ガイ
ドフレーム14より横向に設けたアーム33に固定され
ており、リフタ支持ブロック21が下降した際に、当該
ブロック21が上記ガイド部材31を介してリフタ駆動
用ブロック23と一体的に横移動するのを確実ならしめ
るためのものである。
即ち、リフタ支持ブロック21の背面には一対の転動コ
ロ30・30が回転自在に設けられ、この転動コロ30
・30によりガイド部材31を挟持した状態で両ブロッ
ク21・23が一体化し、横方向への移動が可能とな
る。そして、リフタ駆動用ブロック23が出力ロッド伸
長位置Dへ移動した状態では、リフタ移動用ブロック2
3の前面へ固定したガイド部材31が他方のガイド棒3
2と直列状につながり、リフタ支持ブロック21は上昇
可能となる。
ロ30・30が回転自在に設けられ、この転動コロ30
・30によりガイド部材31を挟持した状態で両ブロッ
ク21・23が一体化し、横方向への移動が可能とな
る。そして、リフタ駆動用ブロック23が出力ロッド伸
長位置Dへ移動した状態では、リフタ移動用ブロック2
3の前面へ固定したガイド部材31が他方のガイド棒3
2と直列状につながり、リフタ支持ブロック21は上昇
可能となる。
以上の構成からなるエレベータ10の動作について説明
する。
する。
先ず、上方に位置する給送路1より給送用リフタ11a
で基板2を受け取る。次いで、リフタ11a が下降し
て、下方に位置する搬入路3へ基板2を引き渡す。な
お、搬入路3の始端部には、基板2の搬送手段35が待
機しており、リフタ11a から受取った基板2を給送路
3に沿って焼付露光装置4側へ搬送するようになってい
る。
で基板2を受け取る。次いで、リフタ11a が下降し
て、下方に位置する搬入路3へ基板2を引き渡す。な
お、搬入路3の始端部には、基板2の搬送手段35が待
機しており、リフタ11a から受取った基板2を給送路
3に沿って焼付露光装置4側へ搬送するようになってい
る。
焼付露光装置4でパターンの焼付けを終えた基板2は、
下方に位置する排出路5に沿って搬送手段36によりそ
の終端部へ排出される。このとき、排送用リフタ11b
は第2図の仮想線で示すように、出力ロッド収縮位置C
で最下降の状態で待機しており、基板2を搬送手段36
で運び込むと、排送用リフタ11b が上昇してその基板
2を受取り、次に排送用リフタ11b が出力ロッド伸長
位置Dまで横移動し、次いで上昇移動して基板2を上方
に位置する排送路6へ引き渡す。
下方に位置する排出路5に沿って搬送手段36によりそ
の終端部へ排出される。このとき、排送用リフタ11b
は第2図の仮想線で示すように、出力ロッド収縮位置C
で最下降の状態で待機しており、基板2を搬送手段36
で運び込むと、排送用リフタ11b が上昇してその基板
2を受取り、次に排送用リフタ11b が出力ロッド伸長
位置Dまで横移動し、次いで上昇移動して基板2を上方
に位置する排送路6へ引き渡す。
上記実施例では、搬送路間隔変更手段20で排送用リフ
タ11b を横移動させるものについて例示したが、これ
に限ることなく、給送用リフタ11a を横移動させるも
の、あるいは両方のリフタ11a ・11b をそれぞれ横
移動させるものでもよい。
タ11b を横移動させるものについて例示したが、これ
に限ることなく、給送用リフタ11a を横移動させるも
の、あるいは両方のリフタ11a ・11b をそれぞれ横
移動させるものでもよい。
また、上記実施例では搬送路間隔変更手段がリフタ11
b を下降位置で横移動するものについて例示したが、上
昇位置で横移動するものでもよく、その他多様な変形を
加えて実施し得ることは多言を要しない。
b を下降位置で横移動するものについて例示したが、上
昇位置で横移動するものでもよく、その他多様な変形を
加えて実施し得ることは多言を要しない。
以上の説明で明らかなように本発明によれば、次のよう
な効果を奏する。
な効果を奏する。
イ.搬送路間隔変更手段20により、給送用リフタ11
aと排送用リフタ11bの少なくとも一方のリフタ11
を横移動させ、上方に位置する給送路1と排送路6との
間のラインピッチP1と下方に位置する搬入路3と排出
路5との間のラインピッチP2とを実質的に揃えること
により、他の移載手段を介在させずとも、一方の搬送路
より基板を直接リフタ上に載置することができるので、
他の移載手段を設けるためのスペースを省きながら、基
板の裏面汚染の軽減を図ることができる。
aと排送用リフタ11bの少なくとも一方のリフタ11
を横移動させ、上方に位置する給送路1と排送路6との
間のラインピッチP1と下方に位置する搬入路3と排出
路5との間のラインピッチP2とを実質的に揃えること
により、他の移載手段を介在させずとも、一方の搬送路
より基板を直接リフタ上に載置することができるので、
他の移載手段を設けるためのスペースを省きながら、基
板の裏面汚染の軽減を図ることができる。
ロ.また、搬送路間隔変更手段はエレベータを構成する
一手段として一体に組み込まれ、エレベータの制御ユニ
ットが単一化されることから、制御回路の簡素化、ひい
てはコストの低減を図ることができる。
一手段として一体に組み込まれ、エレベータの制御ユニ
ットが単一化されることから、制御回路の簡素化、ひい
てはコストの低減を図ることができる。
第1図は本発明の1実施例を示す基板搬送用エレベータ
の正面側より見た斜視図、第2図はその背面側より見た
要部の斜視図、第3図は従来例を模式的に示す斜視図で
ある。 1……上方に位置する給送路、 2……基板、 3……下方に位置する搬入路、 5……下方に位置する排出路、 6……上方に位置する排送路、 10……基板搬送用エレベータ、 11a……給送用リフタ、 11b……排送用リフタ、 20……搬送路間隔変更手段、 P1……給送路と排送路との間のラインピッチ、 P2……搬入路3と排出路5との間のラインピッチ。
の正面側より見た斜視図、第2図はその背面側より見た
要部の斜視図、第3図は従来例を模式的に示す斜視図で
ある。 1……上方に位置する給送路、 2……基板、 3……下方に位置する搬入路、 5……下方に位置する排出路、 6……上方に位置する排送路、 10……基板搬送用エレベータ、 11a……給送用リフタ、 11b……排送用リフタ、 20……搬送路間隔変更手段、 P1……給送路と排送路との間のラインピッチ、 P2……搬入路3と排出路5との間のラインピッチ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥野 英治 京都府京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日本スクリーン製造株式会社洛西工場 内
Claims (1)
- 【請求項1】上方に位置する給送路(1)及び排送路(6)
と、下方に位置する搬入路(3)および排出路(5)との間
で、基板を昇降搬送する基板搬送用エレベータにおい
て、 基板(2)の外縁を支持して、上方に位置する給送路(1)よ
り基板(2)を受け取って下降し、下方に位置する搬入路
(3)へ基板(2)を引き渡す給送用リフタ(11a)と、 基板(2)の外縁を支持して、下方に位置する排出路(5)よ
り基板(2)を受け取って上昇し、上方に位置する排送路
(6)へ基板(2)を引き渡す排送用リフタ(11b)と、 上方に位置する給送路(1)と排送路(6)との間のラインピ
ッチ(P1)が、下方に位置する搬入路(3)と排出路(5)と
の間のラインピッチ(P2)と異なる差異の分(P1−P2)
だけ、上記給送用リフタ(11a)と排送用リフタ(11b)の少
なくとも一方のリフタを横移動させる搬送路間隔変更手
段(20)と を備えることを特徴とする基板搬送用エレベータ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15094988A JPH0628278B2 (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 基板搬送用エレベータ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15094988A JPH0628278B2 (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 基板搬送用エレベータ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01318247A JPH01318247A (ja) | 1989-12-22 |
JPH0628278B2 true JPH0628278B2 (ja) | 1994-04-13 |
Family
ID=15507941
Family Applications (1)
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Citations (2)
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JPS62136427A (ja) * | 1985-12-04 | 1987-06-19 | Mitsubishi Electric Corp | バツフア機能を備えた搬送装置 |
-
1988
- 1988-06-17 JP JP15094988A patent/JPH0628278B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
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JPS61190933A (ja) * | 1985-02-20 | 1986-08-25 | Canon Inc | 半導体焼付装置 |
JPS62136427A (ja) * | 1985-12-04 | 1987-06-19 | Mitsubishi Electric Corp | バツフア機能を備えた搬送装置 |
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