JP5169557B2 - 基板昇降移送装置及び基板処理移送システム - Google Patents

基板昇降移送装置及び基板処理移送システム Download PDF

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本発明は、クリーン搬送等の分野において用いられる基板昇降移送装置及び基板処理移送システムに関する。
クリーン搬送の分野において、下階フロアに配設された第1基板処理装置と上階フロアに配設された第2基板処理装置との間で、ガラス基板等の基板の昇降移送(移送)を行う基板昇降移送装置が用いられることがあり、一般的な基板昇降移送装置の構成等は、次のようになる。
即ち、第1基板処理装置の近傍には、上下方向へ延びた昇降ガイドが設けられており、この昇降ガイドには、基板を支持する昇降テーブルが昇降可能に設けられている。また、昇降ガイドの適宜位置には、昇降テーブルを昇降させる昇降用モータが設けられている。ここで、昇降テーブルは、第1基板処理装置に対応する高さ位置に位置したときに、第1基板処理装置に対して基板を引き出し及び送り出し可能になっており、第2基板処理装置に対応する高さ位置に位置したときに、第2基板処理装置に対して基板を引き出し及び送り出し可能になっている。
従って、昇降用モータの駆動によって昇降体を下降させて、第1基板処理装置に対応する高さ位置に位置させる。次に、第1基板処理装置から昇降テーブルに基板を引き出す。そして、昇降用モータの駆動によって昇降体を上昇させて、第2基板処理装置に対応する高さ位置に位置させる。更に、昇降テーブルから第2基板処理装置に基板を送り出す。
以上により、第1基板処理装置から第2基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。また、基板昇降移送装置に前述の動作と逆の動作をさせることにより、前記第2基板処理装置から前記第1基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。
なお、本発明に関連する先行技術として特許文献1に示すものがある。
特開平1−318247号公報
ところで、前述のように、一般的な基板昇降移送装置にあっては、昇降ガイドに基板を支持する昇降テーブルが昇降可能に設けられているため、基板を倒伏姿勢に保ちつつ昇降させることになり平面スペース(設置スペース)として少なくとも基板一枚分の平面積(平面スペース)以上必要になる。そのため工場のスペースの有効利用を図ることが難しくなる。特に、近年、基板の大型化が急速に進んでおり、前述の問題はより顕著になってきている。
そこで、本発明は、前述の問題を解決することができる、新規な構成の基板昇降移送装置を提供することを目的とする。
本発明の第1の特徴は、下階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第1基板処理装置と、上階フロアにおける前記第1基板処理装置の真上に配設されかつ基板に対して処理を行う第2基板処理装置との間で、基板の昇降移送を行う基板昇降移送装置において、前記第1基板処理装置の近傍に立設され、上下方向へ延びた昇降ガイドと、前記昇降ガイドに昇降可能に設けられた昇降体と、前記昇降体を昇降させる昇降用アクチュエータと、前記昇降体に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する保持具を有し、揺動することによって起立姿勢及び倒伏姿勢に切り替わるように構成され、基板の受取り及び受渡しを行う基板受け部材と、前記基板受け部材を揺動させる揺動用アクチュエータと、を備え、前記倒伏姿勢の状態の前記基板受け部材は、平面視において前記第1基板処理装置又は前記第2基板処理装置と重なるように構成され、前記基板受け部材は、前記第1基板処理装置又は前記第2基板処理装置から基板の受取りを行うとき、及び前記第2基板処理装置又は前記第1基板処理装置へ基板の受渡しを行うときに、前記起立姿勢から前記倒伏姿勢に切り替わると共に、前記昇降体を昇降させるときに、前記倒伏姿勢から前記起立姿勢に切り替わるように構成されていることを要旨とする。
なお、本願の特許請求の範囲及び明細書中において、「設けられ」とは、直接的に設けられたことの他に、介在部材を介して間接的に設けられたことを含む意である。また、「基板の処理」とは、基板の搬送処理、基板のプロセス処理、基板の保管処理等を含む意であって、プロセス処理には、エッチング処理、CVD処理、PVD処理等が含まれる。
第1の特徴によると前記昇降体を前記第1基板処理装置に対応する高さ位置に位置させた状態で、前記保持具によって前記第1基板処理装置の所定位置に位置した基板を保持する。そして、前記揺動用アクチュエータの駆動によって前記基板受け部材を揺動させて倒伏姿勢から起立姿勢に切り替えることにより、前記第1基板処理装置から基板を受け取ることができる。
前記第1基板処理装置から基板を受け取った後に、前記基板受け部材を起立姿勢に保ちつつ、換言すれば、基板を起立姿勢に保ちつつ、前記昇降用アクチュエータの駆動によって前記昇降体を上昇させて、前記第2基板処理装置に対応する高さ位置に位置させる。そして、前記揺動用アクチュエータの駆動によって前記基板受け部材を揺動させて起立姿勢から倒伏姿勢に切り替え、前記保持具による保持状態を解除することにより、前記第2基板処理装置に基板を受け渡すことができる。
以上により、前記第1基板処理装置から前記第2基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。なお、前記昇降体を上昇させる途中に、前記基板受け部材を起立姿勢に切り替えても構わない。
また、前記基板昇降移送装置に前述の動作と逆の動作をさせることにより、前記第2基板処理装置から前記第1基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。
要するに、前記昇降体に前記保持具を有した前記基板受け部材が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、前記基板受け部材が揺動によって起立姿勢及び倒伏姿勢に切り替わるように構成されているため、前述のように、基板を起立姿勢に保ちつつ昇降させることができ、前記基板昇降移送装置の一部分であって平面視において前記第1基板処理装置又は前記第2基板処理装置からはみ出る部分の平面スペースを基板一枚分の平面積未満に抑えることができる。
本発明の第2の特徴は、基板に対して処理及び昇降移送を行う基板処理移送システムにおいて、下フロアに配設され、基板に対して処理を行う第1基板処理装置と、上フロアに配設され、基板に対して処理を行う第2基板処理装置と、前記第1基板処理装置と前記第2基板処理装置の間で基板の昇降移送を行う第1の特徴の特徴からなる基板昇降移送装置と、を備えたことを要旨とする。
の特徴によると、第1の特徴特徴による作用と同様の作用を奏する。
本発明によれば、前記基板昇降移送装置の一部分であって平面視において前記第1基板処理装置又は前記第2基板処理装置からはみ出る部分の平面スペースを基板一枚分の平面積未満に抑えることができるため、前記基板処理移送システムの平面スペースを十分に削減して、工場のスペースの有効利用を図ることができる。
(第1実施形態)
第1実施形態について図1から図5を参照して説明する。
ここで、図1は、第1実施形態に係る基板処理移送システムの斜視図、図2及び図3は、第1実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図、図4は、図2におけるIV-IV線に沿った図、図5は、図2におけるV-V線に沿った図である。なお、図面中、「FF」は、前方向、「FR」は、後方向、「L」は、左方向、「R」は、右方向を指してある。
図1に示すように、第1実施形態に係る基板処理移送システム1は、例えばガラス基板等の基板Wに対して搬送処理(処理の一例)及び昇降移送を行うシステムである。そして、基板処理移送システム1は、下階フロアLFに配設されかつ基板Wに対して搬送処理を行う第1基板搬送処理装置(第1基板処理装置の一例)3と、上階フロアUFに配設されかつ基板Wに対して搬送処理を行う第2基板搬送処理装置(第2基板処理装置の一例)5と、第1基板搬送処理装置3と第2基板搬送処理装置5の間で基板Wに対して昇降移送を行う基板昇降移送装置7とを備えている。
基板処理移送システム1の第1基板搬送処理装置3の構成は、次のようになる。
即ち、図2及び図4に示すように、下階フロアLFには、第1処理装置本体9が設けられており、この第1処理装置本体9は、第1基板搬送処理装置3のベースを構成するものである。また、第1処理装置本体9には、基板Wをエアの圧力によって浮上させる複数の第1浮上ユニット11が設けられており、各第1浮上ユニット11の上面には、エアを噴出する枠状のノズル11nがそれぞれ形成されており、各ノズル11nは、特開2006−182563号公報に示すように、鉛直方向に対してユニット中心側へ傾斜するように構成されている。
なお、各第1浮上ユニット11の上面に枠状のノズル11nが形成される代わりに、複数の丸穴状のノズルが形成されるようにしても構わない。
第1処理装置本体9には、搬送方向(左右方向)へ延びた一対の第1ローラ支持部材13が搬送幅方向(前後方向)に離隔して設けられており、各第1ローラ支持部材13には、基板Wを搬送可能に支持する複数の第1搬送ローラ15が水平な軸心周りに回転可能かつ搬送方向に沿って間隔を置いてそれぞれ設けられている。そして、各第1ローラ支持部材13の適宜位置には、複数の第1搬送ローラ15を回転させる第1搬送用モータ17がそれぞれ設けられており、各第1搬送用モータ17の出力軸(図示省略)は、複数の第1搬送ローラ15の回転軸(図示省略)にウォーム及びホイール等からなる連動機構(図示省略)を介して連動連結してある。
基板処理移送システム1の第2基板搬送処理装置5の構成は、次のようになる。
即ち、図2及び図5に示すように、上階フロアUFには、第2処理装置本体19が設けられており、この第2処理装置本体19は、第2基板搬送処理装置5のベースを構成するものである。また、第2処理装置本体19には、基板Wをエアの圧力によって浮上させる複数の第2浮上ユニット21が設けられており、各第2浮上ユニット21の上面には、第1浮上ユニット11と同様に、エアを噴出する枠状のノズル21nがそれぞれ形成されている。
第2処理装置本体19には、搬送方向へ延びた一対の第2ローラ支持部材23が搬送幅方向に離隔して設けられており、各第2ローラ支持部材23には、基板Wを搬送可能に支持する複数の第2搬送ローラ25が水平な軸心周りに回転可能かつ搬送方向に沿って間隔を置いてそれぞれ設けられている。そして、各第2ローラ支持部材23の適宜位置には、複数の第2搬送ローラ25を回転させる第2搬送用モータ27がそれぞれ設けられており、各第2搬送用モータ27の出力軸(図示省略)は、複数の第2搬送ローラ25の回転軸(図示省略)にウォーム及びホイール等からなる連動機構(図示省略)を介して連動連結してある。
基板処理移送システム1の基板昇降移送装置7の具体的な構成は、次のようになる。
図1から図4に示すように、第1基板搬送処理装置3の左側近傍には、上下方向へ延びた昇降ガイドフレーム(昇降ガイド)29が立設されており、この昇降ガイドフレーム29には、前後方向へ延びた昇降体31が昇降可能に設けられている。そして、昇降ガイドフレーム29の上部には、昇降体31を昇降(上下方向へ移動)させる昇降用モータ(昇降用アクチュエータの一例)33が設けられており、昇降用モータ33の出力軸(図示省略)は、上下方向へ延びたボールねじ又はチェーン等の昇降機構(図示省略)に連動連結してある。
昇降体31の右側面には、基板Wの受取り及び受渡しを行う基板受け部材35が一対のブラケット37を介して水平な軸心周りに揺動可能(回動可能)に設けられている。また、基板受け部材35は、昇降体31の右側面に一対のブラケット37を介して回転可能に設けられた揺動シャフト39と、この揺動シャフト39の外周面に一体的に形成されかつ平行に延びた一対の揺動アーム41と、各揺動アーム41に長手方向に沿って間隔を置いてそれぞれ設けられかつ基板Wの裏面を吸着(保持の一例)する複数の吸着パッド(保持具の一例)43とを備えている。更に、基板受け部材35は、揺動によって起立姿勢(図2において仮想線で示す姿勢、図3において実線で示す姿勢)及び倒伏姿勢(図2において実線で示す姿勢、図3において仮想線で示す姿勢)に切り替わるように構成されている。そして、一方のブラケット37には、基板受け部材35を揺動させる揺動用モータ(揺動用アクチュエータの一例)45が設けられており、この揺動用モータ45の出力軸(図示省略)は、揺動シャフト39にカップリング(図示省略)等を介して連動連結してある。ここで、昇降体31を第1基板搬送処理装置3に対応する高さ位置(図2に示す高さ位置)又は第2基板搬送処理装置5に対応する高さ位置(図3に示す高さ位置)に位置させたときに、基板受け部材35を起立姿勢から倒伏姿勢に切り替えても、一対の揺動アーム41は第1浮上ユニット11及び第2浮上ユニット21に干渉しないようになっている。
なお、揺動アーム41に吸着パッド43が設けられる代わりに、他の保持具として、基板Wの裏面を非接触で保持するベルヌーイチャック(図示省略)又は基板Wの端部を把持(保持の一例)するクランパ(図示省略)が設けられるようにしても構わない。
続いて、第1実施形態の作用及び効果について説明する。
複数の第1浮上ユニット11のノズル11nからエアを噴出させつつ、一対の第1搬送用モータ17の駆動によって複数の第1搬送ローラ15を回転させることにより、基板Wを左方向へ浮上搬送し、待機した一対の揺動アーム41の上側(第1基板搬送処理装置3の所定位置)に位置させることができる。ここで、昇降体31は、図2に示すように、第1基板搬送処理装置3に対応する高さ位置に位置してあって、基板受け部材35の姿勢は、図2において実線で示すように、倒伏姿勢になっている。
基板Wを待機した一対の揺動アーム41の上側に位置させた後に、昇降体31を第1基板搬送処理装置3に対応する高さ位置に位置させた状態で、複数の吸着パッド43によって基板Wを吸着する。そして、図2において仮想線で示すように、揺動用モータ45の駆動によって基板受け部材35を揺動させて倒伏姿勢から起立姿勢に切り替えることにより、第1基板搬送処理装置3から基板Wを受け取ることができる。
第1基板搬送処理装置3から基板Wを受け取った後に、図2及び図3に示すように、基板受け部材35を起立姿勢に保ちつつ、換言すれば、基板Wを起立姿勢に保ちつつ、昇降用モータ33の駆動によって昇降体31を上昇させて、第2基板搬送処理装置5に対応する高さ位置に位置させる。そして、図3において仮想線で示すように、揺動用モータ45の駆動によって基板受け部材35を揺動させて起立姿勢から倒伏姿勢に切り替え、複数の吸着パッド43による吸着状態を解除することにより、第2基板搬送処理装置5に基板Wを受け渡すことができる。
第2基板搬送処理装置5に基板を受け渡した後に、複数の第2浮上ユニット21のノズル21nからエアを噴出させつつ、一対の第2搬送用モータ27の駆動によって複数の第2搬送ローラ25を回転させることにより、基板Wを右方向へ浮上搬送して、第2基板搬送処理装置5の所定位置に位置させることができる。
以上により、第1基板搬送処理装置3による基板Wの搬送処理、第1基板搬送処理装置3から第2基板搬送処理装置5への基板Wの昇降移送、及び第2基板搬送処理装置5による基板Wの搬送処理を順次行うことができる。なお、昇降体31を上昇させる途中に、揺動用モータ45の駆動によって基板受け部材35を起立姿勢に切り替えても構わない。
また、基板処理移送システム1に前述の動作と逆の動作をさせることにより、第2基板搬送処理装置5による基板Wの搬送処理、第2基板搬送処理装置5から第1基板搬送処理装置3への基板Wの昇降移送、及び第1基板搬送処理装置3による基板Wの搬送処理を順次行うことができる。
要するに、昇降体31に複数の吸着パッド43を有した基板受け部材35が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板受け部材35が揺動によって起立姿勢及び倒伏姿勢に切り替わるように構成されているため、前述のように、基板Wを起立姿勢に保ちつつ昇降させることができ、基板昇降移送装置7の一部分であって平面視において第1基板処理装置3又は第2基板処理装置5からはみ出る部分の平面スペースを基板W一枚分の平面積未満に抑えることができる。
従って、第1実施形態によれば、基板昇降移送装置7の一部分であって平面視において第1基板処理装置3又は第2基板処理装置5からはみ出る部分の平面スペースを基板W一枚分の平面積未満に抑えることができるため、基板処理移送システム1の平面スペースを十分に削減して、工場のスペースの有効利用を図ることができる。
(第2実施形態)
第2実施形態について図6から図9を参照して説明する。
ここで、図6及び図7は、第2実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図、図8は、図6におけるVIII-VIII線に沿った図、図9は、図6におけるIX-IX線に沿った図である。なお、図面中、「FF」は、前方向、「FR」は、後方向、「L」は、左方向、「R」は、右方向を指してある。
図6に示すように、第2実施形態に係る基板処理移送システム47は、第1実施形態に係る基板処理移送システム1と同様に、例えばガラス基板等の基板Wに対して搬送処理(処理の一例)及び昇降移送を行うシステムである。そして、基板処理移送システム47は、下階フロアLFに配設されかつ基板Wに対して搬送処理を行う第1基板搬送処理装置(第1基板処理装置の一例)49と、上階フロアUFに配設されかつ基板Wに対して搬送処理を行う第2基板搬送処理装置(第2基板処理装置の一例)51と、第1基板搬送処理装置49と第2基板搬送処理装置51の間で基板Wに対して昇降移送を行う基板昇降移送装置53とを備えている。
ここで、第1基板搬送処理装置49は、第1実施形態に係る基板処理移送システム1の第1基板搬送処理装置3と略同じ構成を有しており、第1基板搬送処理装置49の構成要素のうち、第1基板搬送処理装置3の構成要素と対応するものについては、同一番号を付して説明を省略する。同様に、第2基板搬送処理装置51は、第1実施形態に係る基板処理移送システム1の第2基板搬送処理装置5と略同じ構成を有しており、第2基板搬送処理装置51の構成要素のうち、第2基板搬送処理装置5の構成要素と対応するものについては、同一番号を付して説明を省略する。
基板処理移送システム47の基板昇降移送装置53の具体的な構成は、次のようになる。
図6及び図8に示すように、第1基板搬送処理装置49の第1処理装置本体9の左側近傍には、基板Wの姿勢を起立姿勢(図6において仮想線で示す姿勢)及び倒伏姿勢(図6において実線で示す姿勢)に切り替える第1姿勢切替部材55が一対のブラケット57を介して水平な軸心周りに揺動可能(回動可能)に設けられている。また、第1姿勢切替部材55は、第1基板搬送処理装置49の第1処理装置本体9の左側近傍に一対のブラケット57を介して回転可能に設けられた第1揺動シャフト59と、この第1揺動シャフト59の外周面に一体的に形成されかつ平行に延びた一対の第1揺動アーム61と、各第1揺動アーム61に長手方向に沿って間隔を置いてそれぞれ設けられかつ基板Wの裏面を吸着する複数の第1姿勢切替用吸着パッド(第1姿勢切替用保持具の一例)63とを備えている。そして、一方のブラケット57には、第1姿勢切替部材55を揺動させる第1姿勢切替用モータ(第1姿勢切替用アクチュエータの一例)65が設けられており、この第1姿勢切替用モータ65の出力軸(図示省略)は、第1揺動シャフト59にカップリング(図示省略)等を介して連動連結してある。ここで、第1姿勢切替部材55を揺動させても、一対の第1揺動アーム61は第1浮上ユニット11に干渉しないようになっている。
なお、第1揺動アーム61に第1姿勢切替用吸着パッド63が設けられる代わりに、他の第1姿勢切替用保持具として、基板Wの裏面を非接触で保持する第1姿勢切替用ベルヌーイチャック(図示省略)又は基板Wの端部を把持(保持の一例)する第1姿勢切替用クランパ(図示省略)が設けられるようにしても構わない。
図7及び図9に示すように、第2基板搬送処理装置51の第2処理装置本体19の左側近傍には、基板Wの姿勢を起立姿勢(図7において実線で示す姿勢)及び倒伏姿勢(図7において仮想線で示す姿勢)に切り替える第2姿勢切替部材67が一対のブラケット69を介して水平な軸心周りに揺動可能(回動可能)に設けられており、第2姿勢切替部材67の取付位置は、第1姿勢切替部材55の取付位置に対して右方向に偏位してある。また、第2姿勢切替部材67は、第2基板搬送処理装置51の第2処理装置本体19の左側近傍に一対のブラケット69を介して回転可能に設けられた第2揺動シャフト71と、この第2揺動シャフト71の外周面に一体的に形成されかつ平行に延びた一対の第2揺動アーム73と、各第2揺動アーム73に長手方向に沿って間隔を置いてそれぞれ設けられかつ基板Wの裏面を吸着する複数の第2姿勢切替用吸着パッド(第2姿勢切替用保持具の一例)75とを備えている。そして、一方のブラケット69には、第2姿勢切替部材67を揺動させる第2姿勢切替用モータ(第2姿勢切替用アクチュエータの一例)77が設けられており、この第2姿勢切替用モータ77の出力軸(図示省略)は、第2揺動シャフト71にカップリング(図示省略)等を介して連動連結してある。ここで、第2姿勢切替部材67を揺動させても、一対の第2揺動アーム73は第2浮上ユニット21に干渉しないようになっている。
なお、第2揺動アーム73に第2姿勢切替用吸着パッド75が設けられる代わりに、他の第2姿勢切替用保持具として、基板Wの裏面を非接触で保持する第2姿勢切替用ベルヌーイチャック(図示省略)又は基板Wの端部を把持(保持の一例)する第2姿勢切替用クランパ(図示省略)が設けられるようにしても構わない。
図6及び図7に示すように、第1基板搬送処理装置49の左側近傍には、上下方向へ延びた昇降ガイドフレーム(昇降ガイド)79が立設されており、この昇降ガイドフレーム79には、昇降ユニット81が昇降可能に設けられている。また、昇降ユニット81は、昇降ガイドフレーム79に昇降可能に設けられた昇降ブロック83と、この昇降ブロック(昇降体)83の前後の両端部に設けられかつ移動用シリンダ等の移動用アクチュエータ(図示省略)の駆動によって左右方向へ移動する一対のスライドプレート85と、各スライドプレート85に設けられかつ基板Wの端部を把持(保持の一例)する昇降用クランパ(昇降用保持具の一例)87とを備えている。そして、昇降ガイドフレーム79の上部には、昇降ユニット81を昇降(上下方向へ移動)させる昇降用モータ(昇降用アクチュエータの一例)89が設けられており、昇降用モータ89の出力軸は、上下方向へ延びたボールねじ又はチェーン等の昇降機構(図示省略)に連動連結してある。
なお、昇降ブロック83に昇降用クランパ87が設けられる代わりに、他の昇降用用保持具として、基板Wの裏面を表面又は裏面を吸着する吸着パッド(図示省略)等が支持アーム(図示省略)を介して設けられるようにしても構わない。
続いて、第2実施形態の作用及び効果について説明する。
複数の第1浮上ユニット11のノズル11nからエアを噴出させつつ、一対の第1搬送用モータ17の駆動によって複数の第1搬送ローラ15を回転させることにより、基板Wを左方向へ浮上搬送し、待機した一対の第1揺動アーム61の上側(第1基板搬送処理装置49の所定位置)に位置させることができる。ここで、昇降ユニット81は、図6に示すように、第1基板搬送処理装置49に対応する高さ位置に位置してある。
基板Wを待機した一対の第1揺動アーム61の上側に位置させた後に、複数の第1姿勢切替用吸着パッド63によって基板Wの裏面を吸着する。次に、図6において仮想線で示すように、第1姿勢切替用モータ65の駆動によって第1姿勢切替部材55を揺動させて、基板Wの姿勢を倒伏姿勢から起立姿勢に切り替える。そして、昇降ユニット81を第1基板搬送処理装置49に対応する高さ位置に位置させた状態で、一対の昇降用クランパ87によって基板Wの端部を把持し、複数の第1姿勢切替用吸着パッド63による吸着状態を解除する。
複数の第1姿勢切替用吸着パッド63による吸着状態を解除した後に、図6及び図7に示すように、基板Wを起立姿勢に保ちつつ、昇降用モータ89の駆動によって昇降ユニット81を上昇させて、第2基板搬送処理装置51に対応する高さ位置に位置させる。次に、図7において実線で示すように、移動用シリンダの駆動によって一対のスライドプレート85を右方向へ移動させて、基板Wを第2基板搬送処理装置51に接近させる。そして、複数の第2姿勢切替用吸着パッド75によって基板Wの裏面を吸着し、一対の昇降用クランパ87による把持状態を解除する。更に、図7において仮想線で示すように、第2姿勢切替用モータ77の駆動によって第2姿勢切替部材67を揺動させて、基板Wの姿勢を起立姿勢から倒伏姿勢に切り替え、複数の第2姿勢切替用吸着パッド75による吸着状態を解除する。
複数の第2姿勢切替用吸着パッド75による吸着状態を解除した後に、複数の第2浮上ユニット21のノズル21nからエアを噴出させつつ、一対の第2搬送用モータ27の駆動によって複数の第2搬送ローラ25を回転させることにより、基板Wを右方向へ浮上搬送して、第2基板搬送処理装置51の所定位置に位置させることができる。
以上により、第1基板搬送処理装置49による基板Wの搬送処理、第1基板搬送処理装置49から第2基板搬送処理装置51への基板Wの昇降移送、及び第2基板搬送処理装置51による基板Wの搬送処理を順次行うことができる。
また、基板処理移送システム47に前述の動作と逆の動作をさせることにより、第2基板搬送処理装置51による基板Wの搬送処理、第2基板搬送処理装置51から第1基板搬送処理装置49への基板Wの昇降移送、及び第1基板搬送処理装置49による基板Wの搬送処理を順次行うことができる。
なお、本発明は、前述の実施形態の説明に限られるものではなく、その他、種々の態様で実施可能である。また、本発明に包含される権利範囲は、これらの実施形態に限定されないものである。
第1実施形態に係る基板処理移送システムの斜視図である。 第1実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図である。 第1実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図である。 図2におけるIV-IV線に沿った図である。 図2におけるV-V線に沿った図である。 第2実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図である。 第2実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図である。 図6におけるVIII-VIII線に沿った図である。 図6におけるIX-IX線に沿った図である。
符号の説明
1 基板処理移送システム
3 第1基板搬送処理装置
5 第2基板搬送処理装置
7 基板昇降移送装置
29 昇降ガイドフレーム
31 昇降体
33 昇降用モータ
35 基板受け部材
43 吸着パッド
45 揺動用モータ
47 基板処理移送システム
49 第1基板搬送処理装置
51 第2基板搬送処理装置
53 基板昇降移送装置
55 第1姿勢切替部材
63 第1姿勢切替用吸着パッド
65 第1姿勢切替用モータ
67 第2姿勢切替部材
75 第2姿勢切替用吸着パッド
77 第2姿勢切替用モータ
79 昇降ガイドフレーム
81 昇降ユニット
87 昇降用クランパ
89 昇降用モータ

Claims (2)

  1. 下階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第1基板処理装置と、上階フロアにおける前記第1基板処理装置の真上に配設されかつ基板に対して処理を行う第2基板処理装置との間で、基板の昇降移送を行う基板昇降移送装置において、
    前記第1基板処理装置の近傍に立設され、上下方向へ延びた昇降ガイドと、
    前記昇降ガイドに昇降可能に設けられた昇降体と、
    前記昇降体を昇降させる昇降用アクチュエータと、
    前記昇降体に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する保持具を有し、揺動することによって起立姿勢及び倒伏姿勢に切り替わるように構成され、基板の受取り及び受渡しを行う基板受け部材と、
    前記基板受け部材を揺動させる揺動用アクチュエータと、を備え、
    前記倒伏姿勢の状態の前記基板受け部材は、平面視において前記第1基板処理装置又は前記第2基板処理装置と重なるように構成され、
    前記基板受け部材は、前記第1基板処理装置又は前記第2基板処理装置から基板の受取りを行うとき、及び前記第2基板処理装置又は前記第1基板処理装置へ基板の受渡しを行うときに、前記起立姿勢から前記倒伏姿勢に切り替わると共に、前記昇降体を昇降させるときに、前記倒伏姿勢から前記起立姿勢に切り替わるように構成されていることを特徴とする基板昇降移送装置。
  2. 基板に対して処理及び昇降移送を行う基板処理移送システムにおいて、
    フロアに配設され、基板に対して処理を行う第1基板処理装置と、
    フロアに配設され、基板に対して処理を行う第2基板処理装置と、
    前記第1基板処理装置と前記第2基板処理装置の間で基板の昇降移送を行う請求項1に記載の基板昇降移送装置と、を備えたことを特徴とする基板処理移送システム。
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