JP5690334B2 - 基板をフォトイメージングする方法及び装置 - Google Patents
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Description
感光材料の層を支持するキャリアを備える基板を用意する工程と、
像を備えるマスクを用意する工程であって、該像は、連続する第1、第2、及び第3の像部分を備え、順次、
i)該基板が第2の速度で第2の方向に沿って露光領域を通って前進する間、光線を、それが第1の像部分を第1の速度で第1の方向に沿って走査し、その後露光領域で感光材料の層に衝突するように、マスク上に導き、
ii)該基板が第4の速度で第2の方向に沿って露光領域を通って前進する間、該光線を、それが第3の速度で第2の像部分に衝突し、その後露光領域で感光材料の層に衝突するように、マスク上に導き、
iii)該基板が第6の速度で第2の方向に沿って露光領域を通って前進する間、該光線を、それが第5の速度で第1の方向に沿って第3の像部分を走査し、その後露光領域で感光材料の層に衝突するように、マスク上に導き、第1の速度及び第5の速度が第3の速度より大きい、工程と、を含む、方法を提供する。
a)光線を発生させるための源と、
b)マスクを受容するように適合され、第1の速度、第2の速度、及び第3の速度で線状の第1の方向に沿って前進することができるマスクマウントであって、該マスクが像を備え、第1の像が連続する第1、第2、及び第3の像部分を備える、マスクマウントと、
c)マスクマウントと連通し、第1の速度、第2の速度、及び第3の速度のそれぞれで平行移動することができる、マスクステージと、
d)第2の方向に沿って露光領域を通って第4の速度で基板を前進させるためのコンベヤーアセンブリであって、該基板がキャリア及び感光材料の層を備える、コンベヤーアセンブリと、
e)該マスクに衝突し、その結果、該光線が、その後露光領域内で感光材料上に導かれるように、該光線を導くための、少なくとも1つの光学素子と、を備える、装置を提供する。
Claims (3)
- 感光材料の層を支持するキャリアを備える基板を用意する工程と、
像を備えるマスクを用意する工程であって、前記像は、連続する第1、第2、及び第3の像部分を備え、順次、
i)前記基板が第2の速度で第2の方向に沿って露光領域を通って前進する間、光線を、それが前記第1の像部分を第1の速度で第1の方向に沿って走査し、その後前記露光領域で前記感光材料の層に衝突するように、前記マスク上に導き、
ii)前記基板が第4の速度で前記第2の方向に沿って前記露光領域を通って前進する間、前記光線を、それが前記第2の像部分を第3の速度で前記第1の方向に沿って走査し、その後前記露光領域で前記感光材料の層に衝突するように、前記マスク上に導き、
iii)前記基板が第6の速度で前記第2の方向に沿って前記露光領域を通って前進する間、前記光線を、それが第5の速度で前記第1の方向に沿って前記第3の像部分を走査し、その後前記露光領域で前記感光材料の層に衝突するように、前記マスク上に導き、前記第1の速度及び前記第5の速度が前記第3の速度より大きい、工程と、を含む、方法。 - 構成要素:
a)光線を発生させるための源と、
b)連続する第1、第2、及び第3の像部分を備える像を備えるマスクを受容するように適合され、第1の速度、第2の速度、及び第3の速度で線状の第1の方向に沿って前進することができるマスクマウントと、
c)前記マスクマウントと連通し、前記第1の速度、前記第2の速度、及び前記第3の速度のそれぞれで平行移動することができる、マスクステージと、
d)キャリア及び感光材料の層を備える基板を第2の方向に沿って露光領域を通って第4の速度で前進させるためのコンベヤーアセンブリと、
e)前記マスクに衝突し、その結果、前記光線が、その後前記露光領域内で前記感光材料上に導かれるように、前記光線を導くための少なくとも1つの光学素子と、を備え、
前記第1の像部分は、前記光線が前記感光材料上に導かれる際に、前記光線により前記第1の速度で前記第1の方向に沿って走査される部分であり、
前記第2の像部分は、前記光線が前記感光材料上に導かれる際に、前記光線により前記第2の速度で前記第1の方向に沿って走査される部分であり、
前記第3の像部分は、前記光線が前記感光材料上に導かれる際に、前記光線により前記第3の速度で前記第1の方向に沿って走査される部分である、装置。 - a)前記コンベヤーアセンブリと連通し、前記第4の速度を変化させることができる、コンベヤーアセンブリコントローラを更に備える、請求項2に記載の装置。
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