JP2012528357A5 - - Google Patents

Claims (3)

1. 感光材料の層を支持するキャリアを備える基板を用意する工程と、
   像を備えるマスクを用意する工程であって、前記像は、連続する第１、第２、及び第３の像部分を備え、順次、
   ｉ）前記基板が第２の速度で第２の方向に沿って露光領域を通って前進する間、光線を、それが前記第１の像部分を第１の速度で第１の方向に沿って走査し、その後前記露光領域で前記感光材料の層に衝突するように、前記マスク上に導き、
   ｉｉ）前記基板が第４の速度で前記第２の方向に沿って前記露光領域を通って前進する間、前記光線を、それが第３の速度で前記第２の像部分に衝突し、その後前記露光領域で前記感光材料の層に衝突するように、前記マスク上に導き、
   ｉｉｉ）前記基板が第６の速度で前記第２の方向に沿って前記露光領域を通って前進する間、前記光線を、それが第５の速度で前記第１の方向に沿って前記第３の像部分を走査し、その後前記露光領域で前記感光材料の層に衝突するように、前記マスク上に導き、前記第１の速度及び前記第５の速度が前記第３の速度より大きい、工程と、を含む、方法。
2. 構成要素：
   ａ）光線を発生させるための源と、
   ｂ）マスクを受容するように適合され、第１の速度、第２の速度、及び第３の速度で線状の第１の方向に沿って前進することができるマスクマウントであって、前記マスクが像を備え、前記第１の像が連続する第１、第２、及び第３の像部分を備える、マスクマウントと、
   ｃ）前記マスクマウントと連通し、前記第１の速度、前記第２の速度、及び前記第３の速度のそれぞれで平行移動することができる、マスクステージと、
   ｄ）第２の方向に沿って露光領域を通って第４の速度で基板を前進させるためのコンベヤーアセンブリであって、前記基板がキャリア及び感光材料の層を備える、コンベヤーアセンブリと、
   ｅ）前記マスクに衝突し、その結果、前記光線が、その後前記露光領域内で前記感光材料上に導かれるように、前記光線を導くための少なくとも１つの光学素子と、を備える、装置。
3. ａ）前記コンベヤーアセンブリと連通し、前記第４の速度を変化させることができる、コンベヤーアセンブリコントローラを更に備える、請求項２に記載の装置。