JP6978284B2 - 露光システム、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 - Google Patents
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Description
(露光システムの構成)
図1は、本発明の一実施の形態による露光システムの概略構成を示す図である。本実施の形態の露光システムは、露光装置A及び露光装置Bの2つの露光装置と、マーキング装置Cとを含んで構成されている。なお、露光装置は、3つ以上設けてもよい。本実施の形態の露光装置Aと露光装置Bとは、同一の構成であり、使用するマスクと、チャック上に搭載する基板の向きとが異なる。
基板1の長辺方向又は短辺方向には、マークング装置Cにより、2つ以上の基板マークが所定の間隔で形成されている。図7は、本発明の第1の実施の形態で使用される、長辺方向に2つの基板マークが形成された基板の一例を示す図である。図7に示す例では、図5に示すマスク2の4つのマスクマーク2aのうちの、左側の2つのマスクマーク2aに対応して、2つの基板マーク1aが設けられている。マスクマーク2a,2a’と基板マーク1aとは、両者の中心が一致したときに、互いに重なり合わない形状となっている。図7において、マスク2のパターン2bの露光領域1b、及びマスク2’のパターン2b’の露光領域1b’は、基板1上に、例えば、破線で示す通りに配置される。
図17は、本発明の第2の実施の形態で使用される、短辺方向に2つの基板マークが形成された基板の一例を示す図である。図17に示す例では、図5に示すマスク2の4つのマスクマーク2aのうちの、上側の2つのマスクマーク2aに対応して、2つの基板マーク1aが設けられている。マスクマーク2a,2a’と基板マーク1aとは、両者の中心が一致したときに、互いに重なり合わない形状となっている。図17において、マスク2のパターン2bの露光領域1b、及びマスク2’のパターン2b’の露光領域1b’は、基板1上に、例えば、破線で示す通りに配置される。
以上説明した実施の形態によれば、次の効果を奏する。
(1)設備又は工程を大幅に増加することなく、1枚の基板1に、異なるサイズのパターン2b,2b’を、高い位置精度で露光することができる。
本発明の露光システムを用いて基板の露光を行い、あるいは、本発明の露光方法を用いて基板の露光を行う際、マーキング装置の露光ユニットから基板マークの周囲へ露光光を照射して、基板マークを露光すると、各表示用パネルにカットする前の表示用パネル基板に、基板マークが形成される。形成された基板マークの位置は、従来の露光領域毎のアライメントマークの位置とは、明白に異なる。従って、基板マークの存在を確認することで、基板が本発明の露光システム又は露光装置を用いて製造されたことを特定することができる。
C マーキング装置
1 基板
1a 基板マーク
1b,1b’ 露光領域
2,2’ マスク
2a,2a’ マスクマーク
2b,2b’ パターン
3 ベース
4 Xガイド
5 Xステージ
6 Yガイド
7 Yステージ
8 θステージ
9 チャック支持台
10 チャック
20 マスクホルダ
30 画像処理装置
31 カメラユニット
40 レーザー測長装置
50 ステージ駆動回路
60 主制御装置
70 架台
71 テーブル
71a 窓
72 レーザーマーカー
73 マーカー駆動回路
74 マーカー移動装置
75 露光ユニット
Claims (12)
- マスクと基板との間に微小な間隙を設けて、前記マスクのパターンを前記基板へ転写するプロキシミティ方式の露光システムであって、
前記基板に塗布されたフォトレジストに、複数の基板マークを所定の間隔で形成するマーキング装置と、
前記基板に前記パターンを露光する複数の露光装置とを備え、
前記複数の露光装置は、それぞれ、
複数のマスクマークが前記基板マークの間隔と同じ間隔で形成され、前記パターンが形成された、前記基板より小さいサイズの前記マスクを保持するマスクホルダと、
前記複数の基板マークが形成された前記基板を搭載するチャックと、
前記マスクホルダと前記チャックとを相対的に移動するステージと、
前記ステージを駆動する駆動回路と、
前記マスクマーク及び前記基板マークの画像を取得して、取得した画像の画像信号を出力する画像取得装置と、
前記画像取得装置から出力された前記画像信号を処理して、前記マスクマークと前記基板マークとのずれ量を検出する画像処理装置と、
前記ステージの位置を検出するレーザー測長装置と、
前記駆動回路を制御し、前記画像処理装置により検出された前記マスクマークと前記基板マークとのずれ量に応じて、前記ステージを移動させ、前記マスクマークと前記基板マークとの位置合わせを行って、前記マスクと前記基板との相対的な位置決めを行い、その後、前記レーザー測長装置の検出結果に基づいて、前記ステージを移動させ、前記基板の露光領域の位置を前記マスクの前記パターンの位置に合わせて、前記パターンが前記基板に露光される位置を制御する制御装置とを有し、
互いに異なるサイズの前記パターンを前記基板に露光する
ことを特徴とする露光システム。 - 前記マスクは、2方向にそれぞれ2つ以上の前記マスクマークが形成され、
前記基板は、長方形であって、その長辺方向又は短辺方向に、2つ以上の前記基板マークが形成され、
前記複数の露光装置は、前記基板を前記チャックに縦長又は横長の状態で搭載して、前記画像取得装置により、前記マスクマーク及び前記基板マークの画像を取得して、前記マスクマークと前記基板マークとの位置合わせを行う
ことを特徴とする請求項1に記載の露光システム。 - 前記複数の露光装置のうちの少なくとも1つは、前記レーザー測長装置の検出結果に基づいて、前記ステージの移動を複数回行って、前記基板に複数の前記パターンを露光する
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の露光システム。 - 前記マーキング装置は、露光ユニットを有し、該露光ユニットから前記基板マークの周囲へ露光光を照射して、前記基板マークを露光する
ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の露光システム。 - 前記複数の露光装置のうちの最後に露光を行う露光装置は、前記マスクマークと前記基板マークとの位置合わせを行った後、前記マスクマーク及び前記基板マークを前記基板に露光する
ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の露光システム。 - マスクと基板との間に微小な間隙を設けて、前記マスクのパターンを前記基板へ転写するプロキシミティ方式を用いた露光方法であって、
マーキング装置により、前記基板に塗布されたフォトレジストに、複数の基板マークを所定の間隔で形成し、
複数の露光装置において、それぞれ、
複数のマスクマークが前記基板マークの間隔と同じ間隔で形成され、パターンが形成された、前記基板より小さいサイズの前記マスクをマスクホルダに保持し、
前記複数の基板マークが形成された前記基板をチャックに搭載し、
前記マスクホルダと前記チャックとをステージにより相対的に移動し、
画像取得装置により、前記マスクマーク及び前記基板マークの画像を取得して、取得した画像の画像信号を出力し、
画像処理装置により、前記画像取得装置が出力した前記画像信号を処理して、前記マスクマークと前記基板マークとのずれ量を検出し、
レーザー測長装置を用いて、前記ステージの位置を検出し、
前記画像処理装置が検出した前記マスクマークと前記基板マークとのずれ量に応じて、前記ステージを移動し、前記マスクマークと前記基板マークとの位置合わせを行って、前記マスクと前記基板との相対的な位置決めを行い、
その後、前記レーザー測長装置の検出結果に基づいて、前記ステージを移動し、前記基板の露光領域の位置を前記マスクの前記パターンの位置に合わせて、前記パターンが前記基板に露光される位置を制御してから、前記基板に前記パターンの露光を行って、
互いに異なるサイズの前記パターンを前記基板に露光する
ことを特徴とする露光方法。 - 前記マスクの2方向に、それぞれ2つ以上の前記マスクマークを形成し、
長方形の前記基板の長辺方向又は短辺方向に、2つ以上の前記基板マークを形成し、
前記複数の露光装置において、前記基板を前記チャックに縦長又は横長の状態で搭載して、前記画像取得装置により、前記マスクマーク及び前記基板マークの画像を取得して、前記マスクマークと前記基板マークとの位置合わせを行う
ことを特徴とする請求項6に記載の露光方法。 - 前記複数の露光装置のうちの少なくとも1つにおいて、前記レーザー測長装置の検出結果に基づいて、前記ステージを複数回移動して、前記基板に前記パターンの露光を複数回行う
ことを特徴とする請求項6又は請求項7に記載の露光方法。 - 前記マーキング装置に、露光ユニットを設け、該露光ユニットから前記基板マークの周囲へ露光光を照射して、前記基板マークを露光する
ことを特徴とする請求項6乃至請求項8のいずれか一項に記載の露光方法。 - 前記複数の露光装置のうちの最後に露光を行う露光装置において、前記マスクマークと前記基板マークとの位置合わせを行った後、前記マスクマーク及び前記基板マークを前記基板に露光する
ことを特徴とする請求項6乃至請求項8のいずれか一項に記載の露光方法。 - 請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の露光システムを用いて、基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
- 請求項6乃至請求項10のいずれか一項に記載の露光方法を用いて、基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
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