JP5680813B2 - 画像表示用装置のための光学フィルター及び画像表示用装置 - Google Patents

画像表示用装置のための光学フィルター及び画像表示用装置 Download PDF

Info

Publication number
JP5680813B2
JP5680813B2 JP2007284292A JP2007284292A JP5680813B2 JP 5680813 B2 JP5680813 B2 JP 5680813B2 JP 2007284292 A JP2007284292 A JP 2007284292A JP 2007284292 A JP2007284292 A JP 2007284292A JP 5680813 B2 JP5680813 B2 JP 5680813B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acrylic acid
acid derivative
weight
parts
monomer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2007284292A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2008250288A (ja
Inventor
高橋 亨
亨 高橋
恭久 石田
恭久 石田
上原 寿茂
寿茂 上原
近藤 秀一
秀一 近藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Showa Denko Materials Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd, Showa Denko Materials Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2007284292A priority Critical patent/JP5680813B2/ja
Publication of JP2008250288A publication Critical patent/JP2008250288A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5680813B2 publication Critical patent/JP5680813B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/44Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10Esters
    • C08F20/12Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F20/16Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F20/18Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F265/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
    • C08F265/04Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F265/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
    • C08F265/04Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
    • C08F265/06Polymerisation of acrylate or methacrylate esters on to polymers thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F283/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
    • C08F283/006Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polymers provided for in C08G18/00
    • C08F283/008Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polymers provided for in C08G18/00 on to unsaturated polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/02Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • C08F290/06Polymers provided for in subclass C08G
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/02Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • C08F290/06Polymers provided for in subclass C08G
    • C08F290/061Polyesters; Polycarbonates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/02Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • C08F290/06Polymers provided for in subclass C08G
    • C08F290/067Polyurethanes; Polyureas
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J3/00Processes of treating or compounding macromolecular substances
    • C08J3/24Crosslinking, e.g. vulcanising, of macromolecules
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/02Homopolymers or copolymers of acids; Metal or ammonium salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04Homopolymers or copolymers of esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/06Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
    • C08L33/08Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L51/00Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L51/003Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers grafted on to macromolecular compounds obtained by reactions only involving unsaturated carbon-to-carbon bonds
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14Protective coatings, e.g. hard coatings
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/12Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1808C8-(meth)acrylate, e.g. isooctyl (meth)acrylate or 2-ethylhexyl (meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2333/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2333/04Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2205/00Polymer mixtures characterised by other features
    • C08L2205/02Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/06Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
    • C08L33/062Copolymers with monomers not covered by C08L33/06
    • C08L33/066Copolymers with monomers not covered by C08L33/06 containing -OH groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/06Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
    • C08L33/10Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2323/00Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
    • C09K2323/03Viewing layer characterised by chemical composition
    • C09K2323/035Ester polymer, e.g. polycarbonate, polyacrylate or polyester
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/50Protective arrangements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/50Protective arrangements
    • G02F2201/503Arrangements improving the resistance to shock
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/10Methods of surface bonding and/or assembly therefor
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31855Of addition polymer from unsaturated monomers
    • Y10T428/31935Ester, halide or nitrile of addition polymer

Description

本発明は、画像表示用装置の割れ防止、応力及び衝撃の緩和に有用で透明性に優れた光学用樹脂組成物若しくは光学用樹脂材料を有する画像表示用装置のための光学フィルター及び画像表示用装置に関する。
代表的な画像表示用パネルとして液晶表示用装置が例示される。液晶表示用装置は、透明電極、画素パターンなどを表面に形成した厚さ約1mm程度のガラス基板の間に数ミクロン程度のギャップを介して液晶を充填、シールしてなる液晶セルとその外側両面に貼り付けた偏光板などの光学フィルム等からなる薄くて傷付きやすい表示用部品である。このため、特に携帯電話、ゲーム機、デジカメ、車載用途などでは、液晶表示用装置の前面に一定の空間を置いて透明な前面板(保護パネル)を設けた構造の液晶表示用装置が一般的に用いられている。
また、現在の大型液晶ディスプレイは液晶パネルの前面偏光板表面を反射低減のためにアンチグレア(AG)処理したものが一般的である。この構成の場合、特に衝撃吸収性に関する手立ては講じられておらず、パネル全体及びセットとしての構造で衝撃耐性を持たせている。この構成の課題はAG処理により画像が滲んで見えること、表面に触るとパネルがたわみ画像が乱れること、AG処理のため汚れが落ちにくく強くこすると傷になりやすいことに加え、今後のパネルの大型化に伴い、パネルの衝撃耐性が低下し、衝撃耐性に問題が発生することが考えられる。
そこで、液晶パネルの前にアンチリフレクション(AR)処理を施した前面板を置いてAG処理に由来する欠点の解消を図ることが考えられる。しかし前面板と液晶パネルとの間が空気の場合には透過率の低下、2重映りによる画質の低下などが考えられ、空間を樹脂等で埋めることが提案されてきている(特許文献1,2,3,4)。
ガラス製ブラウン管(CRT)はテレビ用、ディスプレイ用としてUL規格や電波取締法等で鋼球落下による耐衝撃試験により飛散防止性や貫通しないことが決められている。
そのため、この規格を満たすためCRTのガラスを厚く設計する必要がありCRTの重量を重くしていた。そこで、ガラスを厚くすること無く飛散防止性を持たせる手段として自己修復性を有する合成樹脂保護フィルムをガラスに積層する方法が提案されている(特許文献5、特許文献6参照)。しかし、この提案は、飛散防止性を特徴としているが、ガラスの割れ防止機能は兼ね備えていない。
一方、フラットパネルディスプレイ(FPD)の一つであるPDPは、PDPの割れを防止するため、PDPから1〜5mm程度の空間を設け、厚さ3mm程度のガラス等の前面板を前面(視認面側)に設けている。そのため、PDPの大型化に伴い、前面板の面積も大きくなるため、PDPの重量が重くなってしまう。
そこで、ディスプレイの割れ防止のために、特定の樹脂をディスプレイ表面に積層すること、又は特定の樹脂を積層した光学フィルターをディスプレイ表面に積層することが提案されている(特許文献7,8,9参照)。
特開平05−011239号公報 特開平03−204616号公報 特開平06−59253号公報 特開2004−125868号公報 特開平06−333515号公報 特開平06−333517号公報 特開2004−58376号公報 特開2005−107199号公報 特開2004−263084号公報
しかし、特許文献1で使用されているオイルは漏れを防ぐためのシールが難しく、また液晶パネルに使用されている材料を侵す可能性があり、また前面板が割れた場合にオイルが漏れ出すという問題ある。また特許文献2の不飽和ポリエステルは黄色に着色しやすくディスプレイ装置への適用は望ましくない。特許文献3のシリコーンは密着力が小さく固定のために別途粘着剤が必要になるためプロセスが煩雑になり、さらに粘着剤との接着力もあまり大きくないことから衝撃が加わった際に剥離して気泡が入ってしまうという問題がある。特許文献4のアクリルモノマの重合物は接着力が小さく、小型の機器であれば別途粘着剤を必要としないが、大型ディスプレイの前面板を支えるためには別途粘着剤が必要となり、プロセスが煩雑になる。また原料がモノマーのみからなるため粘度が低く、硬化収縮が大きいため大面積のフィルムを均一に作製することが難しいという問題も発生する。
また、前記特許文献7,8では、使用する樹脂材料の組成に関する考察が特になく、接着性や透明性を発現させる手段が不明瞭である。特に、特許文献7では、樹脂の耐湿信頼性に関する考察がなく、実施例に具体的に示される組成の樹脂材料ではディスプレイに適用後、短時間の耐湿試験において白濁してしまう。また、特許文献8でも、実施例で具体的に示される樹脂の一部にアクリル酸を使用しており、長時間の耐湿試験において、樹脂が白濁してしまい、耐湿試験時に接触している金属を腐食させてしまうという問題が発生する。さらに、特許文献7,8では、より優れた衝撃吸収性を得るという観点からは、検討が不十分であると考えられる。特許文献8では、樹脂を用いた耐衝撃層の厚みが0.2〜1mmとされるが、厚さを大きくしてより衝撃吸収性を向上させるという観点での開示はない。特許文献9では耐湿熱性に関する考察がなされているが、本特許文献に記載の樹脂原料組成では、耐衝撃性の大幅な向上は望めない。また、実施例おける樹脂層の厚みは1mmであり、より優れた衝撃吸収性を得るという観点からは、検討が不十分であると考えられる。また、特許文献9の実施例に記載されるような、どちらかというと硬化後に柔らかい樹脂は、厚く使用した場合、前面フィルターの表面硬度が低下し、耐擦傷性に問題が出てくることが考えられる。
そこで、本発明は、透明で、適度な粘着力と画像表示用装置の保護に必要な衝撃吸収性を有し、画像表示用パネルの構成材料を侵すことがなく、耐湿信頼性に優れる光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂材料を有する画像表示用装置のための光学フィルターを提供することを第1の目的とする。
また、本発明は、耐衝撃性を有し、二重写りがなく鮮明でコントラストの高い画像が得られる画像表示用装置を提供することを第2の目的とする。
前記課題を解決するための手段は以下に通りである。
(1)(A)第1のアクリル酸系誘導体(ただし、重合性不飽和結合を分子内に1個有する化合物)、(B)第2のアクリル酸系誘導体(ただし、重合性不飽和結合を分子内に2個以上有する化合物)、及び(C)アクリル酸系誘導体ポリマーを含有してなる光学用樹脂組成物又はこれを硬化させた光学用樹脂材料からなる層を有することを特徴とする画像表示用装置のための光学フィルター。
(2) 前記光学用樹脂組成物における、(A)第1のアクリル酸系誘導体、(B)第2のアクリル酸系誘導体、及び(C)アクリル酸系誘導体ポリマーの合計100重量部に対して各成分の配合量が(A)14〜89.49重量部、(B)0.1〜50重量部、(C)10〜80重量部であることを特徴とする前記(1)に記載の画像表示用装置のための光学フィルター。
(3) 前記(A)第1のアクリル酸系誘導体が、アルキル基の炭素数が4〜18であるアルキルアクリレート(以下、AAモノマーという。)及び下記一般式(I)で表されるヒドロキシル基含有アクリレート(以下、HAモノマーという。)の混合物からなり、
CH=CHCOO(C2mO)H 一般式(I)
(ただし、一般式(I)中、mは2、3、又は4、nは1〜10の整数を示す。)
前記(C)アクリル酸系誘導体ポリマーが、AAモノマーとHAモノマーとを重合させて得られるコポリマーであり、
前記光学用樹脂組成物が、前記(A)第1のアクリル酸系誘導体におけるHAモノマーの割合(M重量%)と、前記(C)アクリル酸系誘導体ポリマー中のHAモノマーの割合(P重量%)との間に、
−8≦(P−M)≦8 数式(I)
の関係があるように配合されてなることを特徴とする前記(1)に記載の画像表示用装置のための光学フィルター。
(4)前記(A)第1のアクリル酸系誘導体が、AAモノマーを50〜87重量%、及びHAモノマーを13〜50重量%の割合で混合した混合物であり、前記(C)アクリル酸系誘導体ポリマーが、AAモノマーを50〜87重量%、及びHAモノマーを13〜50重量%の割合で重合させたコポリマーであることを特徴とする前記(3)に記載の画像表示用装置のための光学フィルター。
(5) 前記光学用樹脂組成物における、(A)第1のアクリル酸系誘導体、(B)第2のアクリル酸系誘導体、及び(C)アクリル酸系誘導体ポリマーの合計100重量部に対して各成分の配合量が、(A)36〜84.99重量部、(B)0.1〜50重量部、(C)15〜60重量部であることを特徴とする前記(3)または(4)に記載の画像表示用装置のための光学フィルター。
(6) 前記光学用樹脂組成物が、さらに、(D)重合開始剤を含有することを特徴とする前記(1)から(5)のいずれかに記載の画像表示用装置のための光学フィルター。
(7) 前記光学用樹脂組成物における、(A)第1のアクリル酸系誘導体、(B)第2のアクリル酸系誘導体、(C)アクリル酸系誘導体ポリマー、及び(D)重合開始剤の合計100重量部に対して(D)の配合量が0.01〜5重量部であることを特徴とする前記(6)に記載の画像表示用装置のための光学フィルター。
(8) 前記光学用樹脂組成物が、(D)重合開始剤として、(D1)光重合開始剤を含有することを特徴とする前記(6)または(7)に記載の画像表示用装置のための光学フィルター。
(9) 前記光学用樹脂組成物における、(A)第1のアクリル酸系誘導体、(B)第2のアクリル酸系誘導体、(C)アクリル酸系誘導体ポリマー、及び(D1)光重合開始剤の合計100重量部に対して(D1)の配合量が0.1〜5重量部であることを特徴とする前記(8)に記載の画像表示用装置のための光学フィルター。
(10) (A)第1のアクリル酸系誘導体(ただし、重合性不飽和結合を分子内に1個有する化合物)、(B)第2のアクリル酸系誘導体(ただし、重合性不飽和結合を分子内に2個以上有する化合物)、及び(C)アクリル酸系誘導体ポリマーを含有してなる光学用樹脂組成物又はこれを硬化させた光学用樹脂材料からなる層を視認側に有することを特徴とする画像表示用装置。
(11) 前記光学用樹脂組成物における、(A)第1のアクリル酸系誘導体、(B)第2のアクリル酸系誘導体、及び(C)アクリル酸系誘導体ポリマーの合計100重量部に対して各成分の配合量が(A)14〜89.49重量部、(B)0.1〜50重量部、(C)10〜80重量部であることを特徴とする前記(10)に記載の画像表示用装置。
(12) 前記(A)第1のアクリル酸系誘導体が、アルキル基の炭素数が4〜18であるアルキルアクリレート(以下、AAモノマーという。)及び下記一般式(I)で表されるヒドロキシル基含有アクリレート(以下、HAモノマーという。)の混合物からなり、
前記(C)アクリル酸系誘導体ポリマーが、AAモノマーとHAモノマーとを重合させて得られるコポリマーであり、
前記光学用樹脂組成物が、前記(A)第1のアクリル酸系誘導体におけるHAモノマーの割合(M重量%)と、前記(C)アクリル酸系誘導体ポリマー中のHAモノマーの割合(P重量%)との間に、
−8≦(P−M)≦8 数式(I)
の関係があるように配合されてなることを特徴とする前記(10)に記載の画像表示用装置。
(13)前記(A)第1のアクリル酸系誘導体が、AAモノマーを50〜87重量%、及びHAモノマーを13〜50重量%の割合で混合した混合物であり、前記(C)アクリル酸系誘導体ポリマーが、AAモノマーを50〜87重量%、及びHAモノマーを13〜50重量%の割合で重合させたコポリマーであることを特徴とする前記(12)に記載の光学フィルター。
(14) 前記光学用樹脂組成物における、(A)第1のアクリル酸系誘導体、(B)第2のアクリル酸系誘導体、及び(C)アクリル酸系誘導体ポリマーの合計100重量部に対して各成分の配合量が(A)36〜84.49重量部、(B)0.1〜50重量部、(C)15〜60重量部であることを特徴とする前記(12)または(13)に記載の画像表示用装置。
(15) 前記光学用樹脂組成物が、さらに、(D)重合開始剤を含有することを特徴とする前記(10)から(14)いずれかに記載の画像表示用装置。
(16) 前記光学用樹脂組成物における、(A)第1のアクリル酸系誘導体、(B)第2のアクリル酸系誘導体、(C)アクリル酸系誘導体ポリマー、及び(D)重合開始剤の合計100重量部に対して(D)の配合量が0.01〜5重量部であることを特徴とする前記(15)に記載の画像表示用装置。
(17) 前記光学用樹脂組成物が、(D)重合開始剤として、(D1)光重合開始剤を含有することを特徴とする前記(15)または(16)に記載の画像表示用装置。
(18) 前記光学用樹脂組成物における、(A)第1のアクリル酸系誘導体、(B)第2のアクリル酸系誘導体、(C)アクリル酸系誘導体ポリマー、及び(D1)光重合開始剤の合計100重量部に対して(D1)の配合量が0.1〜5重量部であることを特徴とする前記(17)に記載の画像表示用装置。
(19) 光学用樹脂組成物を硬化させた光学用樹脂材料からなる層を画像表示用パネルと前面板又は透明保護基板の間に有することを特徴とする前記(10)から(18)のいずれかに記載の画像表示用装置。
本発明によれば、透明で衝撃吸収性を有する画像表示用装置のための光学フィルターを提供することができ、特に好ましい形態では、耐湿信頼性に優れる。
また、本発明によれば、耐衝撃性を有し、二重写りがなく鮮明でコントラストの高い画像が得られる画像表示用装置を提供することができる。
本発明の画像表示用装置のための光学フィルターは、(A)第1のアクリル酸系誘導体(ただし、重合性不飽和結合を分子内に1個有する化合物)、(B)第2のアクリル酸系誘導体(ただし、重合性不飽和結合を分子内に2個以上有する化合物)、及び(C)アクリル酸系誘導体ポリマーを含有してなる光学用樹脂組成物又はこれを硬化させた光学用樹脂材料からなる層を有することを特徴とする。
また、本発明の画像表示用装置は、(A)第1のアクリル酸系誘導体(ただし、重合性不飽和結合を分子内に1個有する化合物)、(B)第2のアクリル酸系誘導体(ただし、重合性不飽和結合を分子内に2個以上有する化合物)、及び(C)アクリル酸系誘導体ポリマーを含有してなる光学用樹脂組成物又はこれを硬化させた光学用樹脂材料からなる層を視認側に有することを特徴とする。
本発明の画像表示用装置のための光学フィルター及び画像表示用装置のいずれも、光学用樹脂組成物又はこれを硬化させた光学用樹脂材料からなる層を有する点において共通する。従って、以下に先ず、当該共通点である光学用樹脂組成物について説明する。
なお、本明細書において、アクリル酸系誘導体などの「アクリル酸」には、「メタクリル酸」をも含むものとする。
<光学用樹脂組成物>
以下、本発明に係る光学用樹脂組成物に含有する成分ごとに説明する。
[(A)第1のアクリル酸系誘導体]
本発明において、(A)第1のアクリル酸系誘導体としては、重合性不飽和結合を分子内に1個有するアクリル酸又はメタクリル酸、それらの誘導体等がある。具体的には、重合性不飽和結合を分子内に1個有する化合物としては、メチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、i−ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、イソノニルメタクリレート、n−オクチルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、ステアリルメタクリレート等のアルキルメタクリレート、メチルアクリレート、n−ブチルアクリレート、i−ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、イソノニルアクリレート、n−オクチルアクリレート等のアルキルアクリレート、ベンジルメタクリレート等のアラルキルメタクリレート、ベンジルアクリレート等のアラルキルアクリレート、ブトキシエチルメタクリレート等のアルコキシアルキルメタクリレート、ブトキシエチルアクリレート等のアルコキシアルキルアクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等のアミノアルキルメタクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート等のアミノアルキルアクリレート、ジエチレングリコールエチルエーテルのメタクリル酸エステル、トリエチレングリコールブチルエーテルのメタクリル酸エステル、ジプロピレングリコールメチルエーテルのメタクリル酸エステル等のポリアルキレングリコールアルキルエーテルのメタクリル酸エステル、ジエチレングリコールエチルエーテルのアクリル酸エステル、トリエチレングリコールブチルエーテルのアクリル酸エステル、ジプロピレングリコールメチルエーテ)のアクリル酸エステル等のポリアルキレングリコールアルキルエーテルのアクリル酸エステル、ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルのメタクリル酸エステル等のポリアルキレングリコールアリールエーテルのメタクリル酸エステル、ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルのアクリル酸エステル等のポリアルキレングリコールアリールエーテルのアクリル酸エステル、シクロヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、メトキシ化シクロデカトリエンメタクリレート、イソボルニルアクリレート、メトキシ化シクロデカトリエンアクリレート等の脂環式基を有するメタクリル酸エステル又はアクリル酸エステル、ヘプタデカフロロデシルメタクリレート等のフッ素化アルキルメタクリレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレート等のフッ素化アルキルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、グリセロールメタクリレート、グリセロールアクリレート等の水酸基を有するメタクリル酸エステル又はアクリル酸エステル、アクリル酸、メタクリル酸等のカルボキシル基を有するメタクリル酸エステル又はアクリル酸エステル、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート等のグリシジル基を有するメタクリル酸エステル又はアクリル酸エステル、アクリルアミド等が挙げられる。
これらの重合性不飽和結合を分子内に1個有する化合物は、1種で又は2種以上併用して用いることができる。
[(B)第2のアクリル酸系誘導体]
本発明において、(B)第2のアクリル酸系誘導体としては、重合性不飽和結合を分子内に2個以上有するアクリル酸又はメタクリル酸、それらの誘導体等が挙げられ、特に、アクリロイル基を分子内に2個以上有する化合物であることが好ましい。また、分子量別には、第2のアクリル酸系誘導体としては、(1)分子量が1000未満の低分子量のもの、(2)分子量が1000以上4000未満の中分子量のもの、及び(3)分子量が4000以上の高分子量のものが挙げられ、以下にそれぞれ分類して説明する。
(1)第2のアクリル酸系誘導体のうち低分子量のものとしては、ビスフェノールAジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、1,3−ブチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリブチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等のアクリレートモノマ、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、アクリルアクリレート等のアクリルオリゴマが挙げられるが、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート等のジアクリレートが好ましい。その他前記した重合性不飽和結合を分子内に2個以上有する化合物のなかからアクリロイル基を分子内に2個以上有するものを適宜選択して使用できる。
(2)第2のアクリル酸系誘導体のうち中分子量のものとしては、下記一般式(a)
Figure 0005680813
(ただし、式(a)中、Rはエチレン基又はプロピレン基を示し、m及びnはそれぞれ独立に、1〜20の整数を示す。)で示されるビスフェノールAのアルキレンオキシド付加物のジアクリレート化合物、これらのアクリロイル基をメタクリロイル基に換えた化合物、下記一般式(b)
Figure 0005680813
(ただし、式(b)中、m及びnはそれぞれ独立に、1〜10の整数を示す。)で示されるビスフェノールAのエピクロルヒドリン変性物とアクリル酸の付加エステル化物、これらのアクリロイル基をメタクリロイル基にかえた化合物、下記一般式(c)
Figure 0005680813
(ただし、式(c)中、Rはエチレン基又はプロピレン基を示し、m及びnはそれぞれ独立に、1〜20の整数を示す。)で示されるリン酸のアルキレンオキシド付加物のジアクリレート化合物、これらのアクリロイル基をメタクリロイル基にかえた化合物、下記一般式(d)
Figure 0005680813
(ただし、式(d)中、m及びnはそれぞれ独立に、1〜10の整数を示す。)で示されるフタル酸のエピクロリン変性物とアクリル酸の付加エステル化物、これらのアクリロイル基をメタクリロイル基にかえた化合物、下記一般式(e)
Figure 0005680813
(ただし、式(e)中、m及びnはそれぞれ独立に、1〜20の整数を示す。)で示される1,6−ヘキサンジオールのエピクロリン変性物とアクリル酸の付加エステル化物(アクイリル基を一分子中に2個有するもの)、これらのアクリロイル基をメタクリロイル基にかえた化合物、下記一般式(f)
Figure 0005680813
(ただし、式(f)中、Rはエチレン基又はプロピレン基を示し、3個のmはそれぞれ独立に、1〜20の整数を示す。)で示されるリン酸のアルキンオキシド付加物のトリアクリレート化合物、これらのアクリロイル基をメタクリロイル基にかえた化合物、下記一般式(g)
Figure 0005680813
(ただし、式(g)中、Rはエチレン基又はプロピレン基を示し、m、m’及びm”はそれぞれ独立に、1〜20の整数を示す。)で示されるトリメチロールプロパンのアルキレンオキシド付加物のトリアクリレート化合物、これらのアクリロイル基をメタクリロイル基にかえた化合物、などが挙げられる。これらのモノマーは、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
(3)第2のアクリル酸系誘導体のうち高分子量のものとしては、2つ以上の反応性不飽和結合を有する高分子量の化合物(以下、「高分子量架橋剤」と称する。)であって、重量平均分子量が4,000〜20,000であることが好ましく、8,000〜16,000であることがより好ましい。高分子量架橋剤の分子量が4000未満であると硬化物が脆くなりやすくなり、20000を超えると組成物の粘度が高くなりすぎシート作製が困難になる。高分子量架橋剤としては相溶性の点からアルキレングリコールを原料に使用しているものが好ましい。
高分子量架橋剤としては、次のものが挙げられる。
(a)ジアルコール化合物のジ(メタ)アクリレート、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコ−ル等のポリアルキレングリコールとアクリル酸又はメタクリル酸を反応させて得られる。
(b)エポキシ樹脂のジ(メタ)アクリレート、例えば、ポリエチレングリコール、ポリブロピレングリコール、ポリブチレングリコ−ル等のポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテルなどの分子内にエポキシ基を2個有するエポキシ樹脂とアクリル酸又はメタクリル酸を反応させて得られる。
(c)両末端が水酸基であるポリエステルのジ(メタ)アクリレート;詳しくは、ポリエステルポリオールを、飽和酸と多価アルコールを反応させて製造する。飽和酸としては、アゼライン酸、アジピン酸、セバチン酸等の脂肪族ジカルボン酸があり、多価アルコールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等がある。このようなポリエステルポリオールとアクリル酸又はメタクリル酸を反応させることによりポリエステルのジ(メタ)アクリレートを得ることができる。
(d)ポリウレタンのジ(メタ)アクリレート;詳しくは、ポリウレタンは多価アルコール化合物と多価イソシアネート化合物を反応させて得られる。多価アルコールとしては、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ポリ1,2−ブチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、エチレングリコール−プロピレングリコール・ブロックコポリマー、エチレングリコール−テトラメチレングリコールコポリマー、メチルペンタンジオール変性ポリテトラメチレングリコール、プロピレングリコール変性ポリテトラメチレングリコール、ビスフェノールAのプロピレンオキシド付加体、水添ビスフェノールAのプロピレンオキシド付加体、ビスフェノールFのプロピレンオキシド付加体、水添ビスフェノールFのプロピレンオキシド付加体等があり、多価イソシアネート化合物としては、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水素添加されたトリレンジイソシアネート、水素添加されたキシリレンジイソシアネート、水素添加されたジフェニルメタンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート等のジイソシアネート、さらには上記したジイソシアネートの重合体、又は、ジイソシアネートの尿素変性体、ビュレット変性体等がある。これら多価アルコール、多価イソシアネートは、それぞれ、1種で又は2種以上併用して使用することができる。
このようなポリウレタンであって多価アルコール過剰で反応させて得られる末端に水酸基を有する化合物を、アクリル酸又はメタクリル酸と反応させることによりポリウレタンのジ(メタ)アクリレートを得ることができる。
(e)ポリウレタンをヒドロキシル基と反応性二重結合を有する化合物と反応させて得られる化合物;詳しくは、ポリウレタンの原料となる多価アルコールと多価イソシアネート化合物は前記と同じである。
このようなポリウレタンであって多価イソシアネート過剰で反応させて得られる末端にイソシアネート基を有する化合物を、ヒドロキシル基と反応性二重結合を有する化合物と反応させることにより、反応性二重結合末端ポリウレタンとすることができる。
ヒドロキシル基と反応性二重結合を有する化合物としては、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリプロピレングリコールモノアクリレート、エチレングリコール−プロピレングリコール・ブロックコポリマーモノアクリレート、エチレングリコール−テトラメチレングリコールコポリマーモノアクリレート、カプロラクトン変性モノアクリレート(商品名プラクセルFAシリーズ、ダイセル化学社製)、ペンタエリスリトールトリアクリレート等のアクリル酸誘導体、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、ポリエチレングリコールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタクリレート、エチレングリコール−プロピレングリコール・ブロックコポリマーモノメタクリレート、エチレングリコール−テトラメチレングリコールコポリマーモノメタクリレート、カプロラクトン変性モノメタクリレート(商品名プラクセルFMシリーズ:ダイセル化学社製)、ペンタエリスリトールトリメタクリレート等のメタクリル酸誘導体等がある。これらの化合物は、1種で又は2種以上併用して使用される。
硬化物の強靭さの点から、高分子量架橋剤としては、ポリウレタンのジ(メタ)アクリレート、反応性二重結合末端ポリウレタン(特に反応性二重結合がアクリロイル基に基づくもの)が好ましい。さらに、これらのうち、ポリウレタンのジオール成分がポリプロピレングリコールやポリテトラメチレングリコールからなるものがより好ましく、ジオール成分がポリプロピレングリコールやポリテトラメチレングリコールで、ジイソシアネート成分がイソホロンジイソシアネートであるポリウレタンを使用するものが特に好ましい。
後述する(C)アクリル酸系誘導体ポリマーと高分子量架橋剤の相溶性が低い場合、高分子量架橋剤の量を多くすると硬化物が白濁するが、高分子量架橋剤の原料にアルキレングリコールを使用することによりポリマーとの相溶性を向上させることができ、高分子量架橋剤の量によらず透明性を保つことができる。また、高分子量の架橋剤を使用することにより、比較的多量に使用した場合でも硬化物が脆くなったり、粘着力が低くなりすぎたりすることを防ぐことが出来る。これにより、架橋剤の使用量を増やすことが出来、配合時の誤差によって硬化物の特性が変化してしまうことを抑制することが出来る。
高分子量架橋剤の合成方法は塊状重合、溶液重合、懸濁重合及び乳化重合等の既知の重合方法を使用することができる。これらの方法は、前記(C)アクリル酸系誘導体ポリマーの合成にも利用できる。
以上の高分子量架橋剤は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
[(C)アクリル酸系誘導体ポリマー]
本発明に係る(C)アクリル酸系誘導体ポリマーは、アクリル酸誘導体の中で重合性不飽和結合を分子内に1個有する化合物(上記(A)成分)を重合させて得られるものであるが、本発明の効果を損なわない範囲で重合性不飽和結合を分子内に2個以上有する化合物(上記(B)成分)を共重合させてもよい。
その重量平均分子量(ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより標準ポリスチレンの検量線を用いて測定したもの、以下同様)が100,000〜700,000であるものが好ましく、150,000〜400,000がより好ましく、200,000〜350,000がより好ましい。
(C)アクリル酸系誘導体ポリマーは、重合性不飽和結合を分子内に1個有する化合物を1種で又は2種以上併用して用いることができ、アクリル酸系誘導体以外の重合性化合物を併用して重合させて得られるポリマーであってもよい。
アクリル酸系誘導体以外の重合性化合物として、上記の(A)第1のアクリル酸系誘導体以外に、アクリロニトリル、スチレン、酢酸ビニル、エチレン、プロピレン等の重合性不飽和結合を分子内に1個有する化合物を使用することができる。また、上記の第2のアクリル酸系誘導体以外の化合物であって、重合性不飽和結合を分子内に2個以上有する化合物(ジビニルベンゼン等)を使用することもできる。
以上の本発明の光学用樹脂組成物の組成において、(A)第1のアクリル酸系誘導体は、組成物の粘度調整に使用できる。(B)第2のアクリル酸系誘導体は組成物の硬化物が形状を保持する上で使用することが好ましい。
また、(C)アクリル酸系誘導体ポリマーは機械的特性の改善のために使用することが好ましい。また、(C)アクリル酸系誘導体ポリマーを使用することにより硬化収縮を抑制することができる。
本発明において、以上の各成分の好ましい配合量は、(A)第1のアクリル酸系誘導体、(B)第2のアクリル酸系誘導体、及び(C)アクリル酸系誘導体ポリマーの合計100重量部に対して、
(A)第1のアクリル酸系誘導体14〜89.49重量部、より好ましくは36〜84.49重量部、さらに好ましくは、39〜59重量部、
(B)第2のアクリル酸系誘導体0.1〜50重量部、より好ましくは1〜40重量部、さらに具体的には、(1)分子量が1000未満の低分子量のものは0.1〜10重量部、(2)分子量が1000以上4000未満の中分子量のものは0.5〜20重量部、(3)分子量が4000以上の高分子量のものは1〜50重量部(より好ましくは、10〜40重量部)
(C)アクリル酸系誘導体ポリマー10〜80重量部、より好ましくは15〜60重量部、さらに好ましくは、15〜40重量部、
である。
前記(A)の配合量が14重量部未満であると、粘度が高くなり、取扱性が低下したり、気泡が抜けにくく、塗工時に気泡を巻き込みやすくなることがある。逆に89.49重量部を超えると、粘度が低下し、液だれを生じたり、必要な膜厚の確保ができなくなったり、硬化収縮が大きくなり、シート化した際に平滑性が低下したり、パネルに直接塗布硬化した際に歪みが残りやすくなることがある。
前記(B)の配合量が0.1重量部未満であると樹脂組成物の硬化物が形状を保つことが困難となることがあり、逆に50重量部を超えると樹脂組成物の硬化物が脆くなり機械的特性に問題が生じることがある。
前記(C)の配合量が10重量%未満であると、硬化収縮が大きくなり、シート化した際に平滑性が低下したり、パネルに直接塗布硬化した際に歪みが残りやすくなることがある。逆に80重量部を超えると、粘度が高くなったり、気泡が抜けにくく、塗工時に気泡を巻き込みやすくなることがある。
[(D)重合開始剤]
本発明に係る光学用樹脂組成物の硬化反応に際し、該光学用樹脂組成物は、さらに(D)重合開始剤を含有することが好ましく、その配合量は、前記(A)第1のアクリル酸系誘導体、(B)第2のアクリル酸系誘導体、(C)アクリル酸系誘導体ポリマー、及び(D)重合開始剤の合計100重量部に対して0.01〜5重量部であることが好ましく、0.01〜3重量部であることがより好ましく、0.03〜2重量部であることがさらに好ましい。
また、(D)重合開始剤としては、(D1)光重合開始剤又は(D2)熱重合開始剤のいずれも使用することができ、これらを併用してもよい。上記配合において、(D)重合開始剤として(D1)光重合開始剤を使用するときは、その使用量は、0.1〜5重量部が好ましく、重合開始剤として熱重合開始剤を使用するときは、その使用量は、0.01〜1重量部が好ましく、(D1)光重合開始剤と(D2)熱重合開始剤とを併用するときは、それぞれこれらの量範囲で使用することが好ましい。
前記配合において、(B)第2のアクリル酸系誘導体の配合は、高分子量架橋剤を使用するときは、1重量部以上使用することが好ましく、低分子量〜中分子量の第2のアクリル酸系誘導体(特に低分子量モノマーなど)は、10重量部以下が好ましい。
また、電子線の照射により重合させる場合などには重合開始剤を使用しなくてもよい。すなわち、硬化反応には、活性エネルギー線の照射による硬化反応、熱による硬化反応、又は、これらの併用により行うことができる。活性エネルギー線とは、紫外線、電子線、α線、β線、γ線等をいう。これらの方法は、前記(C)アクリル酸系誘導体ポリマーの合成にも利用できる。
重合開始剤は少なすぎると反応が十分に進行せず、逆に多すぎると重合開始剤が大量に残存し、光学的な特性や機械的特性に問題が生じる。
本発明において、(D1)光重合開始剤としては、ベンゾフェノン系、アントラキノン系、ベンゾイン系、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩、オニウム塩等の公知の材料から選ぶことができる。これらは、特に紫外線に感度を有する。
前記(D1)光重合開始剤として、さらに具体的には、ベンゾフェノン、N,N’−テトラメチル−4,4’−ジアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、N,N−テトラエチル−4,4’−ジアミノベンゾフェノン、4−メトキシ−4’−ジメチルアミノベンゾフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、2−エチルアントラキノン、t−ブチルアントラキノン、1,4−ジメチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、2,3−ジクロロアントラキノン、3−クロル−2−メチルアントラキノン、1,2−ベンゾアントラキノン、2−フェニルアントラキノン、1,4−ナフトキノン、9,10−フェナントラキノン、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ―1,2−ジフェニルエタン―1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等の芳香族ケトン化合物、ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物、ベンジル、2,2−ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、β−(アクリジン−9−イル)アクリル酸のエステル化合物、9−フェニルアクリジン、9−ピリジルアクリジン、1,7−ジアクリジノヘプタン等のアクリジン化合物、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾール二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2,4−ジ(p−メトキシフェニル)5−フェニルイミダゾール二量体、2−(2,4−ジメトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−メチルメルカプトフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体等の2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モリホリノフェニル)−1−ブタノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−1−プロパン、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)等が挙げられる。また、特に、樹脂組成物を着色させないものとしては1―ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン等のα−ヒドロキシアルキルフェノン系化合物、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド系化合物、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)及びこれらを組み合わせたものが好ましい。また、特に厚いシートを作製するためには、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド系化合物を含む光重合開始剤が好ましい。また、シートの臭気を減らすためにはオリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)が好ましい。これらの光重合開始剤は複数を組み合わせて使用してもよい。
前記(D2)熱重合開始剤としては、熱によりラジカルを発生する開始剤であり、具体的には、過酸化ベンゾイル、t−ブチルパーベンゾエイト、クメンヒドロパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ(2−エトキシエチル)パーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシビバレート、t−ヘキシルパーオキシピバレート、(3,5,5−トリメチルヘキサノイル)パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ジアセチルパーオキシドの様な有機過酸化物が挙げられる。また、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチル−4−メトキシバレロニトリル)、ジメチル2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)、4,4’−アゾビス(4−シアノバレリック酸)、2,2’−アゾビス(2−ヒドロキシメチルプロピオニトリル)、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]のようなアゾ系化合物が挙げられる。
なお、光学用樹脂組成物は樹脂組成物のままの状態で塗布あるいは注型する場合は、液晶パネルに使用している偏向板の高温耐性が低い等の理由から加熱することが困難な場合もあり、この場合、光で重合できる(D1)光重合開始剤が好ましい。
一方、本発明に係る光学用樹脂組成物において、前記(A)第1のアクリル酸系誘導体が、アルキル基の炭素数が4〜18であるアルキルアクリレート(以下、AAモノマーという。)及び下記一般式(I)で表されるヒドロキシル基含有アクリレート(以下、HAモノマーという。)の混合物からなることが好ましく、
CH=CHCOO(C2mO)H 一般式(I)
(ただし、一般式(I)中、mは2、3、又は4、nは1〜10の整数を示す。)
また、前記(C)アクリル酸系誘導体ポリマーが、AAモノマーとHAモノマーとを重合させて得られるコポリマーであることが好ましい。
前記(A)第1のアクリル酸系誘導体におけるHAモノマーの割合(M重量%)と、前記(C)アクリル酸系誘導体ポリマー中のHAモノマーの割合(P重量%)との間に、
−8≦(P−M)≦8 数式(I)
の関係があるように配合されてなることがより好ましい。
この場合において、本発明に係る光学用樹脂組成物における各成分の配合量は、(A)第1のアクリル酸系誘導体、(B)第2のアクリル酸系誘導体、(C)アクリル酸系誘導体ポリマーの合計100重量部に対して、(A)第1のアクリル酸系誘導体を好ましくは36〜84.49重量部、より好ましくは39〜69重量部、更に好ましくは39〜59重量部の範囲で、(B)第2のアクリル酸系誘導体を好ましくは0.1〜50重量部、より好ましくは1〜40重量部で、(C)アクリル酸系誘導体ポリマーを好ましくは15〜60重量部、より好ましくは30〜60重量部、更に好ましくは40〜60重量部の範囲で含有する。なお、(B)第2のアクリル酸系誘導体に関しては、さらに具体的には、(1)分子量が1000未満の低分子量のものは0.1〜10重量部、(2)分子量が1000以上4000未満の中分子量のものは0.5〜20重量部、(3)分子量が4000以上の高分子量のものは1〜5重量部(より好ましくは、10〜40重量部)含有することが好ましい。
さらに、(D)重合開始剤を含有する場合は、これらの樹脂組成物((A)〜(C))と(D)重合開始剤の合計100重量部に対して、好ましくは0.01〜5重量部、さらに好ましくは0.01〜3重量部、特に好ましくは0.03〜2重量部(光重合開始剤は、好ましくは0.1〜5重量部、より好ましくは0.3〜3重量部、特に好ましくは、0.5〜2重量部、熱重合開始剤は、好ましくは0.01〜1重量部、より好ましくは、0.01〜0.5重量部、(D1)光重合開始剤と(D2)熱重合開始剤を併用するときは、それぞれ、これらの範囲で使用されることが好ましい)含有することが好ましい。
前記配合において、(B)第2のアクリル酸系誘導体の配合は、高分子量架橋剤を使用するときは、1重量部以上使用することが好ましく、5重量部以上使用することがより好ましく、低分子量〜中分子量の第2のアクリル酸系誘導体(特に低分子量モノマーなど)は、10重量部以下が好ましい。
また、(A)第1のアクリル酸系誘導体としては、アクリロイル基を分子内に1個有する化合物が好ましく、これは、AAモノマー及びHAモノマーの混合物が好ましく、また、AAモノマーを50〜87重量%、HAモノマー13〜50重量%の割合で使用することがより好ましく、更に好ましくはAAモノマーを60〜70重量%とHAモノマーを30〜40重量%の割合である。
これらにおいて、AAモノマーが87重量%を超えると、従って、HAモノマーが少なすぎるともし吸湿した時に硬化物が白濁しやすくなり、逆に、HAモノマーが50重量%を超えると、従って、AAモノマーが少なすぎるともし吸湿した時に本発明に係る光学用樹脂組成物の硬化物が変形しやすくなる。
また、前記(A)第1のアクリル酸系誘導体におけるHAモノマーの割合(M重量%)と、前記(C)アクリル酸系誘導体ポリマー中のHAモノマーの割合(P重量%)との間に、
−8≦(P−M)≦8 数式(I)
の関係があるようにそれぞれの配合が調整されることが好ましい。(P−M)が上記の式を満足しない場合、硬化時に本発明に係る光学用樹脂材料が白濁しやすくなる傾向にある。前記(C)アクリル酸系誘導体ポリマー及び(A)第1のアクリル酸系誘導体において、AAモノマー(及びHAモノマー)が、前記した好ましい割合にあるときは、常にこの条件を満足する。
また、(P−M)の値は、下限−5,上限5がより好ましく、下限−3,上限3がさらにより好ましいい。
上記のAAモノマーとしては、n−ブチルアクリレート、n−ペンチルアクリレート、n−ヘキシルアクリレート、n−オクチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、ステアリルアクリレート等が挙げられるが、n−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、n−オクチルアクリレートが好ましく、エチルヘキシルアクリレートが特に好ましい。またこれらのアクリレートは2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
上記のHAモノマーとしては、2−ヒドロキシエチルアクリレート、1−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、1−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、3−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、1−ヒドロキシブチルアクリレート等の水酸基含有アクリレート、ジエチレングリコールやトリエチレングリコール等のポリエチレングリコールモノアクリレート、ジプロピレングリコールやトリプロピレングリコール等のポリプロピレングリコールモノアクリレート、ジブチレングリコールやトリブチレングリコール等のポリブチレングリコールモノアクリレートなどが挙げられるが、2−ヒドロキシエチルアクリレート、1−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、1−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、3−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、1−ヒドロキシブチルアクリレートが好ましく、2−ヒドロキシエチルアクリレートが特に好ましい。また、これらのアクリレートは2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明において、以上のAAモノマー及びHAモノマーは、(A)第1のアクリル酸系誘導体と、(C)アクリル酸系誘導体ポリマーとでそれぞれ同一の組み合わせで使用することが好ましい。
本発明において、AAモノマーとHAモノマーとを重合させて得られるコポリマーはその重量平均分子量(ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより標準ポリスチレンの検量線を用いて測定したもの、以下同様)が、100,000〜700,000であるものが好ましく、100,000〜600,000がより好ましく、150,000〜400,000がより好ましく、200,000〜350,000がより好ましい。
AAモノマーとHAモノマーを重合させて得られるコポリマーの合成方法としては、溶液重合、懸濁重合、乳化重合及び塊状重合等の既知の重合方法を用いることができるが、溶液重合あるいは塊状重合が好ましい。重合開始剤としては、熱によりラジカルを発生する化合物を用いることができ、具体的には、過酸化ベンゾイル、t−ブチルパーベンゾエイト、クメンヒドロパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ(2−エトキシエチル)パーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシビバレート、(3,5,5−トリメチルヘキサノイル)パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、ジアセチルパーオキシド、ジドデシルパーオキシドの様な有機過酸化物や、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチル−4−メトキシバレロニトリル)、ジメチル2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)、4,4’−アゾビス(4−シアノバレリック酸)、2,2’−アゾビス(2−ヒドロキシメチルプロピオニトリル)、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]のようなアゾ系化合物が挙げられる。
また、AAモノマーを50〜87重量%、HAモノマーを13〜50重量%の割合で重合させることが好ましく、より好ましくは、AAモノマーを60〜70重量%、HAモノマーを30〜40重量%である。
以上の本発明に係る光学用樹脂組成物を硬化反応させることにより得られる光学用樹脂材料は、優れた衝撃吸収性を有し、透明性にも優れる。
また、本発明に係る光学用樹脂組成物は、ポリマーとモノマーの組成を類似させることによりポリマーの溶解性を高くすることができ、高分子量のポリマーを使用しても透明な樹脂組成物や硬化物を作製でき、耐湿信頼性にも優れる。さらにモノマーで希釈されているため無溶剤で成形が可能であり、気泡の無い厚いフィルム若しくはシートを作製できる。
また、高分子量のポリマーを比較的高濃度で含有しているので、薄い膜厚でも衝撃吸収性に優れる。また、そのために硬さがあり、耐擦傷性の低下を抑制できる。この硬さのため塑性変形しにくく、厚い膜厚でより優れた衝撃吸収性を発揮することができる。さらに、凝集力が高く伸縮性もあるためフィルムがたわんだときやロールに巻きつけたときに亀裂が入ったり、筋が入ったりすることが少ない。
また、高分子量架橋剤を使用することにより、配合の誤差による粘着力のばらつきを低減することができ、特性安定性にすぐれたフィルム若しくはシートを作製できる。
また、本発明に係る光学用樹脂組成物は、液晶ディスプレイ、PDP等のディスプレイに一般に使用される材料を侵すことがない。
本発明に係る光学用樹脂材料は、前記光学用樹脂組成物を硬化反応させて得ることができるが、その形状を容易にシートとすることができる。また、この光学用樹脂材料には、粘着性が付与されているので、粘着剤又は接着剤を使用することなく、ガラス、その他の基材等に貼合が可能である。
以上の光学用樹脂組成物又は光学用樹脂材料を使用して得られる透明樹脂層を備えた液晶ディスプレイ等のディスプレイ用光学フィルター及びディスプレイは、上記した光学用樹脂組成物及び光学用樹脂材料の作用効果を継承する。
本発明に係る光学用樹脂組成物には、光学特性又は本発明の作用効果を著しく損なわない範囲で、劣化防止、熱的安定性、成形性及び加工性などの観点から、フェノール系、ホスファイト系、チオエーテル系などの抗酸化剤、脂肪族アルコール、脂肪酸エステル、フタル酸エステル、トリグリセライド類、フッ素系界面活性剤、高級脂肪酸金属塩などの離型剤、その他滑剤、可塑剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、重金属不活性化剤、アルミナ、シリカ、酸化マグネシウム、タルク、チタン酸バリウム、硫酸バリウム等の微粒状充填剤、ビクトリアピュアブルー等の染料、フタロシアニングリーン等の顔料等の着色剤等を添加して使用してもよい。また、前記(A)〜(D)成分以外の成分として、アクリロニトリル、スチレン、酢酸ビニル、エチレン、プロピレン等の重合性不飽和結合を分子内に1個有する化合物を使用してもよい。
本発明に係る光学用樹脂組成物は、硬化収縮が15%以下であることが好ましく、12%以下であることがより好ましい。硬化収縮が大きいと収縮による応力が大きくなり、樹脂中に歪が発生したり、保護板や液晶パネルから剥離したりしやすくなる。
本発明に係る光学用樹脂組成物は、光学フィルター又は画像表示用装置の画像表示用パネル表面に膜厚が0.1mm〜3mmになるように製膜又は積層することが好ましい。衝撃吸収性を考慮すると0.2mm以上の厚さがより好ましい。特に、衝撃吸収性を大きくしたいときは、厚さを1.3mm以上にすることが好ましい。画像表示用パネル又は画像表示用装置表面、光学フィルターの基材等に塗布して製膜した後、紫外線等の光線、電子線などの放射線を照射して硬化させ、光学用樹脂材料とすることができる。光学フィルターを作製する場合、該光学フィルターの基材又は反射防止膜層等の機能層の上に本発明に係る光学用樹脂組成物を製膜した後、さらに、光学フィルターの基材、機能層又は保護層を積層してから、放射線を照射して硬化させてもよい。
本発明に係る光学用樹脂材料は、上記光学用樹脂組成物を硬化反応させることにより得ることが出来る。画像表示用パネル又は画像表示用装置表面、光学フィルターの基材等に塗布して製膜した後、光照射により硬化させてもよく、あるいは所定の温度に加熱することにより硬化させてもよい。また、加熱と光照射とを併用してもよい。
(C)アクリル酸系誘導体ポリマーの合成方法は、溶液重合、懸濁重合、乳化重合及び塊状重合等の既知の重合方法を用いることができる。
本発明に係る光学用樹脂材料の製造は、注形成形などが利用でき、また、汎用の塗工機を用い所望の厚みを塗工し、紫外線等の光線、電子線などの放射線を照射して硬化させることにより製造することができる。形状がシート状(フィルム状を含む)である場合は、膜厚が0.1mm〜3mmのものであることが好ましい。透明保護基板と併用しない場合は衝撃吸収性を考慮すると0.2mm以上の厚さがより好ましい。特に、衝撃吸収性を大きくしたいときは、厚さを1.3mm以上にすることが好ましい。一方、透明保護板と併用する場合は、0.5mm以下であることが好ましく、0.2mm以下であることが特に好ましい。この光学用樹脂材料は、画像表示用パネル又は画像表示用装置表面、光学フィルターなどにシート状物(フィルム上のものを含む)をそのまま、又は、粘着剤若しくは接着剤を介して積層することができる。
本発明に係る光学用樹脂材料は、ゴム硬度が50以下であることが好ましい。
ゴム硬度の測定は、幅40mm、奥行き40mm、深さ10mmのサンプルを使用し、スプリング式硬度計(例えば、西東京精密株式会社製、型式:WR−104A)を用いて行い、測定は5点行い、5点の平均値をゴム硬度とする。
本発明に係る光学用樹脂材料は、ガラス転移温度(Tg)が、0℃以下であることが好ましい。ガラス転移温度が0℃を超えると衝撃吸収層が硬くなり、衝撃で裂けやすくなる。Tgは−20〜−60℃であることがより好ましい。
本発明に係る光学用樹脂材料は、保護板を支え、衝撃を吸収する上で、25℃における貯蔵弾性率が10〜10Paであることが好ましい。
また、本発明に係る光学用樹脂材料は、複屈折が30nm以下であることが好ましく10nm以下であることが好ましい。複屈折が大きいと液晶パネルを点灯した場合に色ムラが発生しやすくなる傾向がある。
本発明に係る光学用樹脂材料となるポリマーの分子中には、粘着性を大きくする目的で、極性基を付与しておくことが好ましい。ガラスとの粘着性を大きくする極性基としては、水酸基、カルボキシル基、シアノ基、グリシジル基等の極性基があるが、これらの基は、この様な基を有するモノマーを反応させることにより導入することができる。
本発明に係る光学用樹脂組成物及び光学用樹脂材料は、また、画像表示用装置に使用するためには、可視光透過率を50%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましく、85%以上であることがさらに好ましい。全光線透過率が低すぎると、コントラストが低下したり、視認性が低下したりする傾向がある。
本発明に係る光学用樹脂組成物に紫外線等を照射して重合させる場合、酸素が存在すると重合が阻害される場合には、樹脂表面を酸素を遮断するための透明フィルム又は透明ガラスで覆うことが好ましい。また、不活性雰囲気下で重合を行うことにより酸素を遮断することもできる。また、酸素を遮断することが困難な場合、重合開始剤の添加量を増やすことにより酸素による重合阻害の影響を低減することが出来る。この場合の重合開始剤としてはオキシ−フェニル−アセチックアシッド2−[2−オキソ−2−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステルとオキシ−フェニル−アセチックアシッド2−[2−ヒドロキシ−エトキシ]−エチルエステルの混合物が好ましい。紫外線照射装置としては枚葉式、コンベア式等の紫外線照射装置を使用することができる。また、紫外線照射用の光源としては低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、LEDランプ等が使用できるが、高圧水銀灯、メタルハライドランプが好ましい。
本発明に係る光学用樹脂組成物は厚く製膜しても、また、本発明に係る光学用樹脂材料が厚いものであっても、高分子量のコポリマー((C)成分)を含むので、その硬化樹脂である光学用樹脂材料は、硬さがあり、衝撃に対して、組成変形しにくく、従って、厚くして衝撃吸収性を向上させやすい。
本発明の光学フィルターは、既述の本発明に係る光学用樹脂組成物又は光学用樹脂材料と、反射防止層、防汚層、色素層、ハードコート層などの機能性を有する層をポリエチレンフィルム、ポリエステルフィルム等の基材フィルムなどに製膜又は積層した多層物、あるいはガラス、アクリル、ポリカーボネートなどの板、これらの板に機能性を有する層を製膜又は積層した多層物等とを組み合わせて、また、このような板や多層物と組み合わせたものとして構成することができる。
前記反射防止層は、可視光反射率が5%以下となる反射防止性を有している層であればよく、透明なプラスチックフィルム等の透明基材に既知の反射防止方法で処理された層を用いることができる。
前記防汚層は表面に汚れがつきにくくするためのもので、表面張力を下げるためにフッ素系樹脂やシリコン系樹脂等の層が使用されるが、これら既知の層を使用することができる。
前記色素層は色純度を高めるために使用されるもので、液晶表示用パネル等の画像表示用パネルから発する光の色純度が低い場合に不要な光を低減するために使用される。不要な部分の光を吸収する色素を樹脂に溶解させ、ポリエチレンフィルム、ポリエステルフィルム等の基材フィルムなどに製膜又は積層したり、粘着剤に混合したりするなどして形成する。
前記ハードコート層は表面硬度を高くするために使用される。ハードコート層としてはウレタンアクリレートやエポキシアクリレート等のアクリル樹脂やエポキシ樹脂等をポリエチレンフィルム等の基材フィルムなどに製膜又は積層したものを使用することができる。同様に表面硬度を高めるためにガラス、アクリル板、ポリカーボネートなどの板、あるいはこれらの板にハードコート層を製膜又は積層したものを使用することもできる。
本発明の光学用樹脂組成物又は上記光学用樹脂材料、電磁波遮蔽層、反射防止層、近赤外線遮蔽層等の機能性を有する層は、本発明の光学用樹脂組成物又は上記光学用樹脂材料からなる層を必須とし、その他適宜必要なものを積層して使用することができる。この場合、機能性を有する層は、透明基材の一方に積層されていてもよく、透明基材の両側に機能の異なる層が別々に、また、その両側に機能の同じ層が積層されていてもよい。機能性を有する層の積層順序は任意である。
これら機能性を有する層と組み合わせる場合、本発明に係る光学用樹脂組成物又は光学用樹脂材料は、画像表示用パネル又は画像表示用装置表面に近い側に積層することが好ましい。
本発明の光学フィルターは、既述の本発明に係る光学用樹脂組成物又は光学用樹脂材料を、偏光板に積層して得ることもできる。この場合、偏光板の視認面側に積層することもでき、その反対側に積層することもできる。偏光板の視認面側に使用する場合には本発明に係る光学用樹脂組成物又は光学用樹脂材料のさらに視認面側に反射防止層、防汚層、ハードコート層を積層することができ、偏光板と液晶セルの間に使用する場合には、偏光板の視認面側に機能性を有する層を積層することができる。
このような多層物とする場合、本発明に係る光学用樹脂組成物又は上記光学用樹脂材料が最外層となるようにすることが好ましい。
これらの層は、必要なら各層の間に粘着層を介しロールラミネートや枚葉貼合機を用いて積層することができる。さらに、ロールラミネートや枚葉貼合機で積層した多層材は、ロールラミネータ又は枚葉貼合機を用いて画像表示用パネル若しくは画像表示用装置の前面又は画像表示用装置用の前面板若しくは透明保護基板に貼合することができる。
本発明の画像表示用装置は、本発明に係る光学用樹脂組成物又は上記光学用樹脂材料からなる層を、視認側の適切な位置に配置される。特に、画像表示用パネルと前面板又は透明保護基板の間に適用されることが特に好ましい。
画像表示用装置の前面板又は透明保護基板は、一般的な光学用透明基板を使用することができる。具体的にはガラス板、石英板等の無機物の板、アクリル樹脂板、シクロオレフィン系樹脂板、ポリカーボネート板等の樹脂板、厚手のポリエステルシート等の樹脂シートが挙げられる。高い表面硬度が必要な場合にはガラス、アクリル等の板が好ましく、ガラス板がより好ましい。これらの前面板又は透明保護基板の表面には反射防止、防汚、ハードコート等の処理がなされていてもよい。これらの表面処理は前面板又は透明保護基板の片面でもよく、両面に処理されていてもよい。これらの前面板又は透明保護基板は複数を組み合わせて使用することもできる。
画像表示用装置の前面板又は透明保護基板は、鉛筆硬度がH以上で、複屈折が50nm以下であることが好ましい。鉛筆硬度が小さいと表面に傷がついたり、衝撃で割れやすくなったりなる。複屈折が大きいと色ムラが発生しやすくなる。光学用樹脂組成物が紫外線硬化型樹脂組成物である場合、画像表示用装置の前面板又は透明保護基板は、波長365nmの紫外線透過率が1%以上であることが好ましい。紫外線の透過率が低いと紫外線硬化性樹脂組成物が硬化不足になりやすくなり、信頼性が低下しやすくなる。
本発明の画像表示用装置が液晶表示装置の場合、液晶表示セルは一般的な液晶表示セルを使用することができる。液晶表示セルは液晶の制御方法によりTN、STN、VA、IPS等に別けられるが、いずれの制御方法を使用した液晶表示セルでも使用することができる。
液晶表示装置について、図面を用いて説明する。図1、図2、図3、及び図4は、本発明の画像表示用装置(液晶表示装置)を示す断面模式図、図5及び図6は、従来の液晶表示装置を示す断模式面図である。
従来の液晶表示装置の構造は、1例として図5に示すように、液晶表示セル1と、その両面に貼り付けられた偏光板2、前面に空隙3を設けて配置された透明保護基板5とから構成される。液晶表示セル1は、透明な二枚のガラスに液晶を封入した構造体で、そのガラスの外側の両面に偏光板2等が貼り付けられている。液晶表示セル1の下部4は、反射板又はバックライトシステムである。この場合透明保護基板5の前面に反射防止層、防汚層、ハードコート層などが適宜積層される。図6に従来の他の液晶表示装置を示すが、液晶表示セル1と、その両面に貼り付けられた偏光板2と反射板又はバックライトユニット4を備えたものである。この場合、偏光板2の前面に反射防止層、防汚層、ハードコート層などが適宜積層される。これに対し、本発明の画像表示用装置として、図1に、本発明に係る光学用樹脂材料からなる透明樹脂層を介して構成される液晶表示装置の一例を示す。
液晶表示セル1の両面に偏光板2が積層され、一方偏光板2の上に透明樹脂層3’、その上に透明保護基板5が積層されて視認側を構成し、他方偏光板2に反射板又はバックライトシステム4が配置されている。
また、図2のように図1における構成で、透明樹脂層3’と視認側の偏光板2の順番を入れ替えてもよい。この場合透明保護基板5と偏光板2を貼り付けるために粘着剤等を使用してもよい。図1や図2のように透明保護基板5を使用する場合、透明保護基板5の表面に反射防止層、防汚層、ハードコート層などが適宜積層されてもよい。また偏光板2の表面に反射防止層、防汚層、ハードコート層などが積層されていてもよいが、これらの機能性を有する層が無くてもよい。
また、図1及び図2における液晶表示装置の構成に対応して、図3及び図4のように透明保護基板5を配置しない構成もある。ただし、図4では、さらに、透明樹脂層3’と偏光板2の順番を入れ替えている。図3のように偏光板2が最前面にある場合には偏光板2の表面に反射防止層、防汚層、ハードコート層などが積層されていてもよい。図4のように透明樹脂層3’が最前面にある場合には透明樹脂層3’の前面に反射防止層、防汚層、ハードコート層などが積層されていてもよく、少なくともハードコート層が積層されていることが特に好ましい。
上記の偏光板は一般的な偏光板を使用することができる。これらの偏光板の表面には反射防止、防汚、ハードコート等の処理がなされていてもよい。これらの表面処理は偏光板の片面でもよく、両面に処理されていてもよい。
本発明に係る光学用樹脂組成物又は光学用樹脂材料は、反射防止層、電磁波遮蔽層、近赤外線遮蔽層などの機能性を有する層、ポリエチレンフィルム、ポリエステルフィルム等の基材フィルムなどに製膜又は積層され、多層物として、また、このような多層物からなる光学用フィルターとして利用することができる。
電磁波遮蔽層としては可視光透過率60%以上で電磁波遮蔽性を有していれば既知の電磁波遮蔽層を用いることができる。透明導電膜、導電性繊維メッシュ、導電性インキにより作製されたメッシュ等を使用することができるが、高透明、高電磁波遮蔽性の観点から、金属メッシュが最も好ましい。金属メッシュの作製は、ポリエステルフィルム等の透明基材と銅箔、アルミ箔等の導電性金属箔のどちらか一方又は両方に接着剤を塗布し両者を貼り合わせ、次いで金属箔をケミカルエッチングプロセスによりエッチング加工して得られる。この時、導電性金属箔としては、密着性の確保から表面が粗面であるものを使用することが好ましい。導電性金属箔の粗面が上記の接着剤層に面するように積層される。上記のエッチングにより金属製メッシュが作製されたなら、その上に、樹脂を塗布し、特に好ましくは紫外線、電子線等の放射線の照射で硬化可能な樹脂を塗布し、紫外線、電子線等の放射線を照射し硬化することによって、粗面が転写された接着剤層を透明化することが好ましい。透明化に用いる樹脂としてあるいは透明化と衝撃吸収層を兼ねた樹脂として本発明に係る光学用樹脂組成物を用いることが可能である。
また、反射防止層は、可視光反射率が5%以下となる反射防止性を有している層であればよく、透明なプラスチックフィルム等の透明基材に既知の反射防止方法で処理された層を用いることができる。
さらに、近赤外線遮蔽層は、イモニウム塩等の近赤外線吸収材や近赤外線遮蔽材を分散させた樹脂層からなり、透明なプラスチックフィルム等の透明基材に積層させておくことができる。本発明における光学用樹脂組成物又は上記光学用樹脂シートにイモニウム塩等の近赤外線吸収材や近赤外線遮蔽材を分散させて近赤外線遮蔽能を付与することができる。
電磁波シールド層又は近赤外線遮蔽層を有するフィルターは、プラズマディスプレイ用に好適である。
本発明に係る光学用樹脂組成物又は光学用樹脂材料、電磁波遮蔽層、反射防止層、近赤外線遮蔽層等の機能性を有する層は、適宜必要なものを積層して使用することができる。この場合、機能性を有する層は、透明基材の一方に積層されていてもよく、透明基材の両側に機能の異なる層が別々に、その両側に機能の同じ層が積層されていてもよい。機能性を有する層の積層順序は任意である。
このような多層物とする場合、本発明に係る光学用樹脂組成物又は光学用樹脂材料が最外層となるようにすることが好ましい。このような場合、本発明の光学用樹脂組成物又は光学用樹脂材料の粘着力により、ユーザーが必要に応じてパネルや透明基材等に貼り付けることができる。一方、最外層となる透明基材などと予め積層しておくことにより、ユーザー側での貼り付けの工程を省略することができる。
これらの層は、各層の間に粘着層を介しロールラミネートや枚葉貼合機で積層することができる。さらに、ロールラミネートや枚葉貼合機で積層した多層材は、ロールラミネータ又は枚葉貼合機を用いて画像表示用装置若しくは画像表示用パネルの前面又は画像表示用装置用前面板に貼合することができる。この場合、本発明に係る光学用樹脂組成物又は光学用樹脂材料からなる層が、画像表示用装置若しくは画像表示用パネルの前面又は画像表示用装置用前面板に面して貼り合わされることが好ましい。画像表示用装置又画像表示用装置はとしては、PDP、液晶表示(LCD)パネル、陰極線管(CRT)等がある。
以下に実施例により本発明をさらに具体的に説明するが本発明は以下の実施例に限定されることはない。
先ず、本発明を適用した光学フィルター又は画像表示用装置に使用し得る透明シートの作製例を以下に示す。
[透明シート1の作製]
(アクリル酸系誘導体ポリマーの合成)
冷却管、温度計、撹拌装置、滴下漏斗及び窒素注入管の付いた反応容器に初期モノマーとして、2−エチルヘキシルアクリレート(AAモノマー)84.0gと2−ヒドロキシエチルアクリレート(HAモノマー)36.0g並びにメチルイソブチルケトン150.0gをとり100ml/minの風量で窒素置換しながら、15分間で常温から70℃まで加熱した。その後、この温度に保ちながら、追加モノマーとして、2−エチルヘキシルアクリレート21.0gと2−ヒドロキシエチルアクリレート9.0gを使用し、これらにラウロイルパーオキシド0.6gを溶解した溶液を準備し、この溶液を60分間かけて滴下し滴下終了後さらに2時間反応させた。続いて、メチルイソブチルケトンを溜去することにより2−エチルヘキシルアクリレートと2−ヒドロキシエチルアクリレートのコポリマー(重量平均分子量250,000)を得た。
(高分子量架橋剤の合成)
次に、冷却管、温度計、攪拌装置、滴下漏斗及び空気注入管のついた反応容器にポリプロピレングリコール(分子量2,000)180g、2−ヒドロキシエチルアクリレート2.33g、重合禁止剤としてp−メトキシフェノール0.5g、触媒としてジブチル錫ジラウレート0.05gをとり、空気を流しながら70℃に昇温後、70〜75℃で攪拌しつつイソホロンジイソシアネート22.2gを2時間かけて均一滴下し、反応を行った。滴下終了後、約5時間反応させたところで、IR測定の結果、イソシアネートが消失したことを確認して反応を終了し、ポリプロピレングリコールとイソホロンジイソシアネートを繰り返し単位として有し、両末端に重合性不飽和結合を有するポリウレタンアクリレート(重量平均分子量16,000)を得た。
(光学用樹脂組成物の調製〜透明シートの作製)
次に、
上記のコポリマー 24.88g、
2−エチルヘキシルアクリレート(AAモノマー) 27.85g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート(HAモノマー) 11.94g、
上記のポリウレタンアクリレート 34.83g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(光重合開始剤) 0.50g
を加え、攪拌混合して、光学用樹脂組成物を調製した後、幅100mm、奥行き100mm、深さ0.5mmの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を2,000mJ照射して透明シート1を得た。この樹脂組成物の硬化収縮は5.3%、シートの全光線透過率は92%、複屈折は0.4nmであった。次に、このシートを前面ガラス用の2.8mm厚のフロートガラスに貼合し、さらに0.7mm厚のガラスに貼り合わせて耐衝撃性の試験を行ったところ、0.6Jでは前面ガラスが破損せず、0.75Jで破損した。また、このシートは吸湿試験後も透明性を維持した。なお、耐衝撃性試験は以下のようにして行った。
−耐衝撃性試験−
耐衝撃性試験は、前面ガラスに前記の樹脂シートを貼合したものをさらに厚さ0.7mmの液晶パネルに使用されているものと同等のガラスに貼合し、前面ガラス側に510gの鋼球を落下させて評価した。5cm、8cm、10cm、12cm、15cm、以降は5cm刻みで鋼球の中心高さを変えて鋼球を落下させ、前面ガラスが割れるかどうかで判定を行った。衝撃強さは下記の式から計算した。
衝撃強さ=鋼球重さ(Kg)×高さ(m)×9.8(m/s
例えば高さ5cmの場合、0.51×0.05×9.8=0.25Jとなる。
また、幅40mm、奥行き40mm、深さ10mmの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を9,000mJ照射しゴム硬度測定用のサンプルを作製し、ゴム硬度の測定を行ったところゴム硬度は2であった。
[透明シート2の作製]
透明シート1の作製に用いたコポリマー 39.60g、
2−エチルヘキシルアクリレート(AAモノマー) 31.88g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート(HAモノマー) 13.66g、
透明シート1の作製に用いたポリウレタンアクリレート 13.86g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(光重合開始剤) 1.0g
を加え、攪拌混合して光学用樹脂組成物を調製した後、幅100mm、奥行き100mm、深さ0.5mmの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を2,000mJ照射して透明シート2を得た。この樹脂組成物の硬化収縮は5.9%、シートの全光線透過率は91%であった。次に、このシートを前面ガラス用の2.8mm厚のフロートガラスに貼合し、さらに0.7mm厚のガラスに貼り合わせて、透明シート1における耐衝撃性試験と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、0.5Jでは前面ガラスが破損せず、0.75Jで破損した。また、このシートは吸湿試験後も透明性を維持した。
また、幅40mm、奥行き40mm、深さ10mmの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を9,000mJ照射しゴム硬度測定用のサンプルを作製し、ゴム硬度の測定を行ったところゴム硬度は0であった。
[透明シート3の作製]
透明シート1の作製に用いたコポリマー 24.50g、
2−エチルヘキシルアクリレート(AAモノマー) 27.44g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート(HAモノマー) 11.76g、
透明シート1の作製に用いたポリウレタンアクリレート 34.30g、
オキシ−フェニル−アセチックアシッド2−[2−オキソ−2−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステルとオキシ−フェニル−アセチックアシッド2−[2−ヒドロキシ−エトキシ]−エチルエステルの混合物(光重合開始剤) 2.00g
を加え、攪拌混合して光学用樹脂組成物を調製した後、幅100mm、奥行き100mm、深さ0.5mmの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を2,000mJ照射して透明シート3を得た。この樹脂組成物の硬化収縮は5.4%、シートの全光線透過率は91%、複屈折は0.4nmであった。次にこのシートを前面ガラス用の2.8mm厚のフロートガラスに貼合し、さらに0.7mm厚のガラスに貼り合わせて、透明シート1における耐衝撃性試験と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、0.5Jでは前面ガラスが破損せず、0.75Jで破損した。また、このシートは吸湿試験後も透明性を維持した。
また、幅40mm、奥行き40mm、深さ10mmの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を9,000mJ照射しゴム硬度測定用のサンプルを作製し、ゴム硬度の測定を行ったところゴム硬度は0であった。また、幅100mm、奥行き100mm、深さ0.5mmの枠に流し込み、上部を覆わない状態で紫外線照射装置を用いて紫外線を2,000mJ照射して透明なシートを得た。触診試験を行ったところ、表面の糸引きは発生しなかった。
[透明シート4の作製]
(高分子量架橋剤の合成)
冷却管、温度計、攪拌装置、滴下漏斗及び空気注入管のついた反応容器にポリテトラメチレングリコール(分子量850)520.80g、ジエチレングリコール1.06g、不飽和脂肪酸ヒドロキシアルキルエステル修飾ε−カプロラクトン(プラクセルFA2D:ダイセル化学工業株式会社商品名)275.20g、重合禁止剤としてp−メトキシフェノール0.5g、触媒としてジブチル錫ジラウレート0.3gを入れ、70℃に昇温後、70〜75℃で攪拌しつつイソホロンジイソシアネート222gを2時間かけて均一滴下し、反応を行った。滴下終了後、約5時間反応させたところで、IR測定の結果、イソシアネートが消失したことを確認して反応を終了し、重量平均分子量が7,000のポリウレタンアクリレートを得た。
(光学用樹脂組成物の調製〜透明シートの作製)
次いで、
透明シート1の作製に用いたコポリマー 47.00g
2−エチルヘキシルアクリレート(AAモノマー) 33.25g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート(HAモノマー) 14.25g、
上記のポリウレタンアクリレート 5.00g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(光重合開始剤) 0.50g
を加え、攪拌混合して光学用樹脂組成物を調製した後、幅100mm、奥行き100mm、深さ0.5mmの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を2,000mJ照射して透明シート4を得た。この樹脂組成物の硬化収縮は5.4%、シートの全光線透過率は92%、複屈折は0.4nmであった。次にこのシートを前面ガラス用の2.8mm厚のフロートガラスに貼合し、さらに0.7mm厚のガラスに貼り合わせて、透明シート1における耐衝撃性試験と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、0.5Jでは前面ガラスが破損せず、0.75Jで破損した。また、このシートは吸湿試験後も透明性を維持した。
また、幅40mm、奥行き40mm、深さ10mmの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を9,000mJ照射しゴム硬度測定用のサンプルを作製し、ゴム硬度の測定を行ったところゴム硬度は1であった。
[透明シートの評価1]
透明シート1の作製と同様に作製したシートを前面ガラス用の6.0mm厚のフロートガラスに貼合し、さらに0.7mm厚のガラスに貼り合わせて、透明シート1における耐衝撃性試験と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、2.75Jでは前面ガラスが破損せず、3.0Jで破損した。
[透明シートの評価2]
透明シート1の作製と同様に作製したシートを前面ガラス用の1.3mm厚のフロートガラスに貼合し、さらに0.7mm厚のガラスに貼り合わせて、透明シート1における耐衝撃性試験と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、0.4Jでは前面ガラスが破損せず、0.5Jで破損した。
[実施例1]
対角32インチの液晶表示セルの表面に貼り付けられたAG処理された偏光板の4辺に厚さ0.5mm、幅5mmの短冊を貼り付け型枠とした。そこに、透明シート1の作製において使用した光学用樹脂組成物と同じ光学用樹脂組成物を流し込み、対角32インチで厚さ2.8mmの、表面に反射防止層を製膜したソーダガラスで気泡が入らないように表面を覆った。次にメタルハライドランプを使用したコンベア型紫外線照射装置を使用して積算露光量2,000mJで露光し、樹脂を硬化させて光学用樹脂材料と透明保護板を有する液晶表示セルを得た。この液晶表示セルをバックライトユニットや駆動回路を有する筐体にセットし、実施例1の液晶表示装置(画像表示用装置)とした。この液晶表示装置は内部の樹脂材料の着色による色の変化はなく、また光学用樹脂材料や透明保護板の界面での剥離や浮きは見られなかった。また2重映りによる画像劣化がなく、表面に触ってもパネルのたわみによる画質の劣化も見られなかった。
[実施例2]
透明シート1の作製と同様に作製したシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの基材フィルムより電磁波遮蔽層側の上に貼合し、電磁波シールド性を有する光学フィルターを作製した。このフィルターについての試験を行ったところ、0.8Jの衝撃でガラスが破損せず、0.9Jの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
なお、耐衝撃性試験は以下のようにして行った。
−耐衝撃性試験−
電磁波シールドフィルムに前記の樹脂シートを貼合したものをさらに厚さ2.8mmのソーダガラスに貼合し、鋼球を落下させて評価した。0.1J単位で衝撃を大きくし、ガラスあるいは樹脂シートが破損した1つ手前の値を耐衝撃性とした。
[実施例3]
透明シート2の作製と同様に作製したシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの基材フィルムより電磁波遮蔽層側の上に貼合し、実施例2と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、0.9Jの衝撃でガラスが破損せず、1.0Jの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
[実施例4]
透明シート1の作製で使用した樹脂組成物をポリエステルフィルムの上に塗工しカバーフィルムをかけてUV照射することにより、42インチサイズのシートを得た。このシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの透明化樹脂層にロールラミネータで貼合し、衝撃吸収層付電磁波シールドフィルムを得た。さらに電磁波シールドフィルムの基材ポリエステルフィルム側に、赤外線遮蔽機能や可視光線波長選択吸収機能を有する反射防止フィルム(クリアラスNIR−SA:住友大阪セメント製)をロールラミネータで貼合し、プラズマディスプレイ用直貼フィルターを作製した。この直貼用フィルターを、衝撃吸収層の粘着力を使用してラミネータによりプラズマディスプレイパネルに貼合し、画像を表示させたところ、2重映りが無くコントラストに優れた表示が得られた。
実施例20
透明シート1の作製で用いたコポリマー 31.5g、
2−エチルヘキシルアクリレート 26.95g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート 11.55g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 30.00g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン 0.50g
を加え、攪拌混合した後、幅100mm、奥行き100mm、深さ0.5mmの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を2,000mJ照射して透明なシートを得た。次にこのシートを前面ガラス用の2.8mm厚のフロートガラスに貼合し、さらに0.7mm厚のガラスに貼り合わせて、透明シート1における耐衝撃性試験と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、0.25Jで前面ガラスが破損した。
また、幅40mm、奥行き40mm、深さ10mmの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を9,000mJ照射しゴム硬度測定用のサンプルを作製し、ゴム硬度の測定を行ったところゴム硬度は75であった。
[透明シートの評価3]
透明シート1の樹脂を幅100mm、奥行き100mm、深さ1.0mmの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を2,000mJ照射して透明なシートを得た。次にこのシートを前面ガラス用の2.8mm厚のフロートガラスに貼合し、さらに0.7mm厚のガラスに貼り合わせて、透明シート1における耐衝撃性試験と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、0.25Jでは前面ガラスが破損せず、0.4Jで破損した。
[比較例1]
厚さ0.7mmのガラスのみで、透明シート1における耐衝撃性試験と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ0.25Jでガラスが破損した。
[透明シート5の作製]
(アクリル酸系誘導体ポリマーの合成)
冷却管、温度計、撹拌装置、滴下漏斗及び窒素注入管の付いた反応容器に初期モノマーとして、2−エチルヘキシルアクリレート(AAモノマー)84.0gと2−ヒドロキシエチルアクリレート(HAモノマー)36.0g並びにメチルイソブチルケトン150.0gをとり100ml/minの風量で窒素置換しながら、15分間で常温から70℃まで加熱した。その後、この温度に保ちながら、追加モノマーとして、2−エチルヘキシルアクリレート21.0gと2−ヒドロキシエチルアクリレート9.0gを使用し、これらにラウロイルパーオキシド0.6gを溶解した溶液を準備し、この溶液を60分間かけて滴下し滴下終了後さらに2時間反応させた。続いて、メチルイソブチルケトンを溜去することにより2−エチルヘキシルアクリレートと2−ヒドロキシエチルアクリレートのコポリマー(重量平均分子量250,000)を得た。
(光学用樹脂組成物の調製〜透明シートの作製)
次に、
このコポリマー 44.50g、
2−エチルヘキシルアクリレート(AAモノマー) 38.25g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート(HAモノマー) 16.25g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(光重合開始剤) 0.50g
を攪拌混合して、光学用樹脂組成物を調製した後、幅100mm、奥行き100mm、深さ0.5mmの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を2,000mJ照射して透明シート5を得た。この樹脂組成物の硬化収縮は5.5%、シートの全光線透過率は92%、複屈折は0.5nm、25℃での貯蔵弾性率は1.8×10であった。次にこのシートを前面ガラス用の2.8mm厚のフロートガラスに貼合し、さらに0.7mm厚のガラスに貼り合わせて、透明シート1における耐衝撃性試験と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、0.6Jでは前面ガラスが破損せず、0.75Jで破損した。
また、幅40mm、奥行き40mm、深さ10mmの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を9,000mJ照射しゴム硬度測定用のサンプルを作製し、ゴム硬度の測定を行ったところゴム硬度は2であった。
[透明シート6の作製]
透明シート5の作製に用いたコポリマー 42.75g、
2−エチルヘキシルアクリレート(AAモノマー) 36.58g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート(HAモノマー) 15.67g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 5.00g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(光重合開始剤) 0.50g
を攪拌混合して、光学用樹脂組成物を調製した後、幅100mm、奥行き100mm、深さ0.5mmの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を2,000mJ照射して透明シート6を得た。この樹脂組成物の硬化収縮は5.7%、シートの全光線透過率は92%、複屈折は0.6nmであった。次にこのシートを前面ガラス用の2.8mm厚のフロートガラスに貼合し、さらに0.7mm厚のガラスに貼り合わせて、透明シート1における耐衝撃性試験と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、1.0Jでは前面ガラスが破損せず、1.25Jで破損した。
また、幅40mm、奥行き40mm、深さ10mmの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を9,000mJ照射しゴム硬度測定用のサンプルを作製し、ゴム硬度の測定を行ったところゴム硬度は22であった。
[透明シート7の作製]
透明シート5の作製に用いたコポリマー 40.5g、
2−エチルヘキシルアクリレート(AAモノマー) 34.65g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート(HAモノマー) 14.85g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 10.00g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(光重合開始剤) 0.50g
を攪拌混合して、光学用樹脂組成物を調製した後、幅100mm、奥行き100mm、深さ0.5mmの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を2,000mJ照射して透明シート7を得た。この樹脂組成物の硬化収縮は6.1%、シートの全光線透過率は91%であった。次にこのシートを前面ガラス用の2.8mm厚のフロートガラスに貼合し、さらに0.7mm厚のガラスに貼り合わせて、透明シート1における耐衝撃性試験と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、0.5Jでは前面ガラスが破損せず、0.75Jで破損した。
また、幅40mm、奥行き40mm、深さ10mmの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を9,000mJ照射しゴム硬度測定用のサンプルを作製し、ゴム硬度の測定を行ったところゴム硬度は38であった。
[透明シートの評価4]
透明シート5の作製に用いた光学用樹脂組成物を幅100mm、奥行き100mm、深さ0.15mmの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を2,000mJ照射して透明シートを得た。次にこのシートを前面ガラス用の2.8mm厚のフロートガラスに貼合し、さらに0.7mm厚のガラスに貼り合わせて、透明シート1における耐衝撃性試験と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、0.75Jでは前面ガラスが破損せず、1.0Jで破損した。
[透明シートの評価5]
透明シート5の作製と同様に作製したシートを前面ガラス用の6.0mm厚のフロートガラスに貼合し、さらに0.7mm厚のガラスに貼り合わせて、透明シート1における耐衝撃性試験と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、2.75Jでは前面ガラスが破損せず、3.0Jで破損した。
[透明シートの評価6]
透明シート5の作製と同様に作製したシートを前面ガラス用の1.3mm厚のフロートガラスに貼合し、さらに0.7mm厚のガラスに貼り合わせて、透明シート1における耐衝撃性試験と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、0.4Jでは前面ガラスが破損せず、0.5Jで破損した。
[実施例5]
対角32インチの液晶表示セルの表面に貼り付けられたAG処理された偏光板の4辺に厚さ0.5mm、幅5mmの短冊を貼り付け型枠とした。そこに透明シート5の作製において用いた光学用樹脂組成物と同じ光学用樹脂組成物を流し込み、対角32インチで厚さ2.8mmの、表面に反射防止層を製膜したソーダガラスで気泡が入らないように表面を覆った。次にメタルハライドランプを使用したコンベア型紫外線照射装置を使用して積算露光量2,000mJで露光し、樹脂を硬化させて光学用樹脂材料と透明保護基板を有する液晶表示セルを得た。この液晶表示セルをバックライトユニットや駆動回路を有する筐体にセットし、液晶ディスプレイ(画像表示用装置)とした。
この液晶ディスプレイは内部の樹脂材料の着色による色の変化はなく、また液晶ディスプレイ用衝撃吸収材や透明保護板の界面での剥離や浮きは見られなかった。また2重映りによる画像劣化がなく、表面に触ってもパネルのたわみによる画質の劣化も見られなかった。
[実施例6]
透明シート5の作製において得たのと同様の透明シートを得た。このシートは吸湿試験後も透明であった。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層側の上に貼合し、電磁波シールド性を有する光学フィルターを作製した。この光学フィルターについて耐衝撃性の試験を行ったところ、1.1Jの衝撃でガラスが破損せず、1.2Jの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
なお、耐衝撃性試験は以下のようにして行った。
−耐衝撃性試験−
耐衝撃性試験は、電磁波シールドフィルムに前記の樹脂シートを貼合したものをさらに厚さ2.8mmのソーダガラスに貼合し、鋼球を落下させて評価した。0.1J単位で衝撃を大きくし、ガラスあるいは樹脂シートが破損した1つ手前の値を耐衝撃性とした。
[実施例7]
透明シート5の作製に用いたコポリマー 19.75g、
2−エチルヘキシルアクリレート(AAモノマー) 55.50g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート(HAモノマー) 23.75g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(光重合開始剤) 0.50g
を用いて光学用樹脂組成物を調製すること以外は透明シート5の作製と同様にして透明シートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。この樹脂組成物の硬化収縮は9.6%、シートの全光線透過率は92%であった。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層側の上に貼合し、電磁波シールド性を有する光学フィルターを作製した。この光学フィルターについて、実施例6と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、1.1Jの衝撃でガラスが破損せず、1.2Jの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
[実施例8]
透明シート5の作製に用いたコポリマー 54.50g、
2−エチルヘキシルアクリレート(AAモノマー) 31.25g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート(HAモノマー) 13.25g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(光重合開始剤) 0.50g
を用いて光学用樹脂組成物を調製すること以外は透明シート5の作製と同様にして透明シートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。この樹脂組成物の硬化収縮は5.0%、シートの全光線透過率は92%であった。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層側の上に貼合し、電磁波シールド性を有する光学フィルターを作製した。この光学フィルターについて、実施例6と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、1.1Jの衝撃でガラスが破損せず、1.2Jの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
[実施例9]
(アクリル酸系誘導体ポリマーの合成)
初期モノマーとして、2−エチルヘキシルアクリレート(AAモノマー)102.0gと2−ヒドロキシエチルアクリレート(HAモノマー)18.0g、追加モノマーとして2−エチルヘキシルアクリレート25.5gと2−ヒドロキシエチルアクリレート4.5gを使用したこと以外は、実施例1と同様にして2−エチルヘキシルアクリレートと2−ヒドロキシエチルアクリレートのコポリマー(重量平均分子量200,000)を得た。
(光学用樹脂組成物の調製〜透明シートの作製)
次に、
このコポリマー 44.50g、
2−エチルヘキシルアクリレート(AAモノマー) 46.25g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート(HAモノマー) 8.25g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(光重合開始剤) 0.50g
を用いて光学用樹脂組成物を調製すること以外は透明シート5の作製と同様にして透明シートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。この樹脂組成物の硬化収縮は5.4%、シートの全光線透過率は92%であった。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層側の上に貼合し、電磁波シールド性を有する光学フィルターを作製した。この光学フィルターについて、実施例6と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、1.3Jの衝撃でガラスが破損せず、1.4Jの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
[実施例10]
(アクリル酸系誘導体ポリマーの合成)
初期モノマーとして、2−エチルヘキシルアクリレート(AAモノマー)60.0gと2−ヒドロキシエチルアクリレート(HAモノマー)60.0g、追加モノマーとして2−エチルヘキシルアクリレート15.0gと2−ヒドロキシエチルアクリレート15.0gを使用したこと以外は、透明シート1の作製と同様にして2−エチルヘキシルアクリレートと2−ヒドロキシエチルアクリレートのコポリマー(重量平均分子量350,000)を得た。
(光学用樹脂組成物の調製〜透明シートの作製)
次に、
このコポリマー 44.50g、
2−エチルヘキシルアクリレート(AAモノマー) 27.25g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート(HAモノマー) 27.25g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(光重合開始剤) 0.50g
を用いて光学用樹脂組成物を調製すること以外は透明シート5の作製と同様にして透明シートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層側の上に貼合し、電磁波シールド性を有する光学フィルターを作製した。この光学フィルターについて、実施例6と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、1.1Jの衝撃でガラスが破損せず、1.2Jの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
[実施例11]
光重合開始剤として、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンの代わりにビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイドを使用し、幅100mm、奥行き100mm、深さ3.0mmの枠を使用し、紫外線の露光量を4,500mJとしたこと以外は透明シート5の作製と同様にして透明シートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層側の上に貼合し、電磁波シールド性を有する光学フィルターを作製した。この光学フィルターについて、実施例6と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、2.0Jの衝撃でもガラスが破損しなかった。また樹脂シートの破損は見られなかった。
[実施例12]
光重合開始剤として、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンの代わりにオリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)を2.00g使用し、紫外線の露光量を2,500mJとしたこと以外は透明シート5の作製と同様にして透明シートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。またこのシートは特に低臭気であった。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層側の上に貼合し、電磁波シールド性を有する光学フィルターを作製した。この光学フィルターについて、実施例6と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、1.1Jの衝撃でガラスが破損せず、1.2Jの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
[実施例13]
幅100mm、奥行き100mm、深さ1.5mmの枠を使用し、紫外線の露光量を3,500mJとしたこと以外は透明シート5の作製と同様にして透明シートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層側の上に貼合し、電磁波シールド性を有する光学フィルターを作製した。この光学フィルターについて、実施例6と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、2.0Jの衝撃でもガラスが破損しなかった。また樹脂シートの破損は見られなかった。
[実施例14]
幅100mm、奥行き100mm、深さ2.0mmの枠を使用し、紫外線の露光量を4,000mJとしたこと以外は透明シート5の作製と同様にして透明シートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層側の上に貼合し、電磁波シールド性を有する光学フィルターを作製した。この光学フィルターについて、実施例6と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、2.0Jの衝撃でもガラスが破損しなかった。また樹脂シートの破損は見られなかった。
[実施例15]
透明シート5の作製に用いたコポリマー 40.20g、
2−エチルヘキシルアクリレート(AAモノマー) 44.10g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート(HAモノマー) 14.70g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(光重合開始剤) 0.50g
を用いて光学用樹脂組成物を調製すること以外は透明シート5の作製と同様にして透明シートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層側の上に貼合し、電磁波シールド性を有する光学フィルターを作製した。この光学フィルターについて、実施例6と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、1.1Jの衝撃でガラスが破損せず、1.2Jの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
実施例21
透明シート5の作製に用いたコポリマー 44.50g、
2−エチルヘキシルアクリレート 54.50g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート 13.25g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン 0.50g
を用いて、透明シート5の作製と同様にしてシートを作製した。得られたシートは白濁していた。また、実施例6と同様の耐衝撃性試験を行ったところ、0.6Jの衝撃でガラスは破損しなかった。
実施例22
透明シート5の作製に用いたコポリマー 44.50g、
2−エチルヘキシルアクリレート 54.50g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン 0.50g
を用いて、透明シート5の作製と同様にしてシートを作製した。得られたシートは白濁していた。また、実施例6と同様の耐衝撃性試験を行ったところ、0.6Jの衝撃でガラスは破損しなかった。
実施例23
初期モノマーとして、2−エチルヘキシルアクリレート108.0gと2−ヒドロキシエチルアクリレート12.0g、追加モノマーとして2−エチルヘキシルアクリレート27.0gと2−ヒドロキシエチルアクリレート3.0gを使用したこと以外は透明シート5の作製と同様にしてコポリマー(重量平均分子量220,000)を得た。
上記で得られたコポリマー 49.50g、
2−エチルヘキシルアクリレート 44.50g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート 5.00g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン 0.50g
を用いて、透明シート5の作製と同様にして透明なシートを作製した。ただし、吸湿試験後に白濁したため、外気から遮断された、吸湿しにくい部分の光学フィルターに適している。また、実施例6と同様の耐衝撃性試験を行ったところ、0.6Jの衝撃でガラスは破損しなかった。
実施例24
(アクリル酸系誘導体ポリマーの合成)
初期モノマーとして、2−エチルヘキシルアクリレート(AAモノマー)12.0gと
2−ヒドロキシエチルアクリレート(HAモノマー)108.0g、追加モノマーとして
2−エチルヘキシルアクリレート3.0gと2−ヒドロキシエチルアクリレート27.0
gを使用したこと以外は透明シート5の作製と同様にしてコポリマーを得た。
上記で得られたコポリマー 49.50g、
2−エチルヘキシルアクリレート 5.00g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート 44.50g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン 0.50g
を用いて、透明シート5の作製と同様にしてシートを作製した。得られたシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。ただし、吸湿試験後に外形寸法が5%以上拡大し、外周部にうねりが発生したため、外気から遮断された、吸湿しにくい部分の光学フィルターに適している。また、実施例6と同様の耐衝撃性試験を行ったところ、0.6Jの衝撃でガラスは破損しなかった。
[比較例2]
2−エチルヘキシルアクリレート 84.15g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート 14.85g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン 0.50g
を用いて、透明シート5の作製と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層側の上に貼合し、実施例6と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、0.5Jの衝撃で樹脂シートが破損した。
[比較例3]
電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aをその電磁波遮蔽層側が接するように直接ガラスに貼合し、実施例6と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、0.5Jの衝撃でガラスが破損した。
[透明シート8の作製]
透明シート5の作製で得られたコポリマー 10.00g、
2−エチルヘキシルアクリレート(AAモノマー) 62.30g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート(HAモノマー) 26.70g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(光重合開始剤) 0.50g
を用いて、透明シート5の作製と同様にして透明シート8を作製した。得られた透明シート8は透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層側の上に貼合し、実施例6と同様にして耐衝撃性の試験を行ったところ、0.7Jの衝撃でガラスが破損せず、0.8Jの衝撃でガラスが破損した。
上記実施例、比較例での試験方法を次に示す。また、これらの試験結果を表
1〜3に示す。
(重量平均分子量測定)
重量平均分子量の測定はTHFを溶媒としたゲルパーミエーションクロマトグラフィーを使用して行い、標準ポリスチレンの検量線を使用して重量平均分子量を決定した。
(ゴム硬度測定)
幅40mm、奥行き40mm、深さ10mmのサンプルを使用し、西東京精密株式会社製スプリング式硬度計(型式:WR−104A)でゴム硬度を測定した。測定は5点行い、5点の平均値をゴム硬度とした。
(硬化収縮)
ピクノメータにより測定した紫外線硬化性液状物の密度と、電子比重計SD−200L(アルファーミラージュ(株)製)により測定した紫外線硬化物の密度から下記の式により計算した。
硬化収縮=(紫外線硬化物の密度−紫外線硬化性液状物の密度)/紫外線硬化物の密度×100
(複屈折)
紫外線硬化物を40×40mmに切断し、エリプソメーターAEP−100((株)島津製作所製)により位相差を測定し、測定された位相差を複屈折とした。
(吸湿試験)
吸湿試験は、樹脂シートを60℃、90%RHの高温高湿試験槽に50時間入れることで行い、評価方法は目視観察を行った。また試験後の全光線透過率を測定した。
(弾性率)
紫外線硬化物を幅3mm長さ20mmに切断し、TA Instruments社製RSA−IIIにて測定周波数1Hzの引っ張り法で測定した。
(全光線透過率)
全光線透過率の測定は色差・濁度測定器COH−300A(日本電色工業(株)製)を使用して行った。
Figure 0005680813
Figure 0005680813
Figure 0005680813
[透明シート9の作製]
透明シート1の作製における1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン 0.50gの代わりにラウロイルパーオキシド 0.40gとし、紫外線を照射する代わりに、70℃の送風オーブンで3時間加熱したこと以外は透明シート1の作製に準じて行い(なお、光学用樹脂組成物を枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で加熱した)、透明シート9を得た。この透明シート9は透明シート1と同様に高い耐衝撃性を示し、また、吸湿時の白濁も見られなかった。
[透明シート10の作製]
透明シート3の作製で用いた樹脂組成物にさらに、t−ヘキシルパーオキシピバレート0.10gを加え、紫外線を照射した後、さらにシートを窒素オーブンにて、70℃で1時間加熱したこと以外、透明シート3の作製に準じて(なお、光学用樹脂組成物を枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で加熱した)、透明シート10を得た。この透明シート10は熱重合開始剤の追加や加熱による特性劣化は見られず、透明シート3の透明なシートと同様に良好な耐衝撃性と吸湿時の透明性を示した。
[透明シート11の作製]
透明シート4の作製における1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン 0.50gの代わりに2,2’−アゾビスイソブチロニトリル 0.20gとし、紫外線を照射する代わりに、70℃の送風オーブンで3時間加熱したこと以外は透明シート4の作製に準じて行い(なお、光学用樹脂組成物を枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で加熱した)、透明なシート11を得た。この透明シート11は透明シート1と同様に高い耐衝撃性を示し、また、吸湿時の白濁も見られなかった。
[透明シート12の作製]
透明シート4の作製で用いたの樹脂組成物に、さらに、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.05gを加え、紫外線を300mJ照射後、シートを窒素オーブンにて、70℃で1時間加熱したこと以外は透明シート4の作製に準じて行い(なお、光学用樹脂組成物を枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で加熱した)、透明シート12を得た。この透明シート12は熱重合開始剤の追加や加熱による特性劣化は見られず、透明シート4と同様に良好な耐衝撃性と吸湿時の透明性を示した。
[実施例16]
実施例1と同様に型枠を作製し、透明シート10の作製で用いたのと同じ樹脂組成物を流し込み、実施例1と同様のガラスで覆った。次に、送風オーブンを使用して70℃で1時間加熱することにより樹脂を硬化させて光学用樹脂材料と透明保護板を有する液晶表示セルを得た。この液晶表示セルをバックライトユニットや駆動回路を有する筐体にセットし、液晶表示装置(画像表示用装置)とした。この液晶表示装置は実施例1と同様に内部の樹脂材料の着色による色の変化はなく、また光学用樹脂材料や透明保護板の界面での剥離や浮きは見られなかった。また2重映りによる画像劣化がなく、表面に触ってもパネルのたわみによる画質の劣化も見られなかった。
[実施例17]
実施例1と同様に型枠を作製し、透明シート9の作製で用いたのと同じ樹脂組成物を流し込み、厚さ3mmのアクリル板で表面を気泡無く覆った。次に、送風オーブンを使用して70℃で1時間加熱することにより樹脂を硬化させて光学用樹脂材料と透明保護板を有する液晶表示セルを得た。この液晶表示セルをバックライトユニットや駆動回路を有する筐体にセットし、液晶表示装置(画像表示用装置)とした。この液晶表示装置は実施例1や実施例7と同様に内部の樹脂材料の着色による色の変化はなく、また光学用樹脂材料や透明保護板の界面での剥離や浮きは見られなかった。また2重映りによる画像劣化がなく、表面に触ってもパネルのたわみによる画質の劣化も見られなかった。
[実施例18]
透明シート9の作製と同様に作製したシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの基材フィルムより電磁波遮蔽層側の上に貼合し、電磁波シールド性を有する光学フィルターを作製した。このフィルターについて、耐衝撃性の試験を行ったところ、実施例2と同様に0.8Jの衝撃でガラスが破損せず、0.9Jの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
[実施例19]
透明シート12の作製に用いた樹脂組成物をポリエステルフィルムの上に塗工しカバーフィルムをかけて300mJのUVを照射することにより樹脂の流動性を無くした後、70℃の硬化炉で1時間硬化させることにより42インチサイズのシートを得た。このシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの透明化樹脂層にロールラミネータで貼合し、衝撃吸収層付電磁波シールドフィルムを得た。さらに電磁波シールドフィルムの基材ポリエステルフィルム側に、赤外線遮蔽機能や可視光線波長選択吸収機能を有する反射防止フィルム(クリアラスNIR−SA:住友大阪セメント製)をロールラミネータで貼合し、プラズマディスプレイ用直貼フィルター(光学フィルター)を作製した。この直貼用フィルターを、衝撃吸収層の粘着力を使用してラミネータによりプラズマディスプレイパネルに貼合し、画像を表示させたところ、実施例4と同様に2重映りが無くコントラストに優れた表示が得られた。
本発明の画像表示用装置に係る液晶表示装置を示す模式断面図である。 本発明の画像表示用装置に係る液晶表示装置の他の例を示す模式断面図である。 本発明の画像表示用装置に係る液晶表示装置の他の例を示す模式断面図である。 本発明の画像表示用装置に係る液晶表示装置の他の例を示す模式断面図である。 従来の液晶表示装置を示す模式断面図である。 従来の液晶表示装置の他の例を示す模式断面図である。
符号の説明
1 液晶表示セル
2 偏光板
3 空隙(空気層)
3’ 光学用樹脂材料
4 バックライトシステム
5 透明保護基板

Claims (18)

  1. (A)第1のアクリル酸系誘導体(ただし、重合性不飽和結合を分子内に1個有する化合物)、(B)第2のアクリル酸系誘導体(ただし、重合性不飽和結合を分子内に2個以上有する化合物)、及び(C)アクリル酸系誘導体ポリマーを含有してなる光学用樹脂組成物を硬化させた光学用樹脂材料からなる膜厚が0.1mm〜3mmの層を有し、
    前記(A)第1のアクリル酸系誘導体がアルキル基の炭素数が4〜18であるアルキルアクリレート(以下、AAモノマーという。)及び下記一般式(I)で表されるヒドロキシル基含有アクリレート(以下、HAモノマーという。)を含み、AAモノマーを50〜87重量%、及びHAモノマーを13〜50重量%の割合で混合した混合物であることを特徴とする画像表示用装置のための光学フィルター。
    CH=CHCOO(C2mO)H 一般式(I)
    (ただし、一般式(I)中、mは2、3、又は4、nは1〜10の整数を示す。)
  2. 前記(C)アクリル酸系誘導体ポリマーが、AAモノマーとHAモノマーとを重合させて得られるコポリマーであることを特徴とする請求項1に記載の画像表示用装置のための光学フィルター。
  3. 前記光学用樹脂組成物における、(A)第1のアクリル酸系誘導体、(B)第2のアクリル酸系誘導体、及び(C)アクリル酸系誘導体ポリマーの合計100重量部に対して各成分の配合量が(A)14〜89.49重量部、(B)0.1〜50重量部、(C)10〜80重量部であることを特徴とする請求項1又は2に記載の画像表示用装置のための光学フィルター。
  4. 前記(C)アクリル酸系誘導体ポリマーが、AAモノマーを50〜87重量%、及びHAモノマーを13〜50重量%の割合で重合させたコポリマーであることを特徴とする請求項2又は3に記載の画像表示用装置のための光学フィルター。
  5. 前記光学用樹脂組成物における、(A)第1のアクリル酸系誘導体、(B)第2のアクリル酸系誘導体、及び(C)アクリル酸系誘導体ポリマーの合計100重量部に対して各成分の配合量が、(A)36〜84.49重量部、(B)0.1〜50重量部、(C)15〜60重量部であることを特徴とする請求項1またはに記載の画像表示用装置のための光学フィルター。
  6. 前記光学用樹脂組成物が、さらに、(D)重合開始剤を含有することを特徴とする請求項1からのいずれか1項に記載の画像表示用装置のための光学フィルター。
  7. 前記光学用樹脂組成物における、(A)第1のアクリル酸系誘導体、(B)第2のアクリル酸系誘導体、(C)アクリル酸系誘導体ポリマー、及び(D)重合開始剤の合計100重量部に対して(D)の配合量が0.01〜5重量部であることを特徴とする請求項に記載の画像表示用装置のための光学フィルター。
  8. 前記光学用樹脂組成物が、(D)重合開始剤として、(D1)光重合開始剤を含有することを特徴とする請求項またはに記載の画像表示用装置のための光学フィルター。
  9. 前記光学用樹脂組成物における、(A)第1のアクリル酸系誘導体、(B)第2のアクリル酸系誘導体、(C)アクリル酸系誘導体ポリマー、及び(D1)光重合開始剤の合計100重量部に対して(D1)の配合量が0.1〜5重量部であることを特徴とする請求項に記載の画像表示用装置のための光学フィルター。
  10. (A)第1のアクリル酸系誘導体(ただし、重合性不飽和結合を分子内に1個有する化合物)、(B)第2のアクリル酸系誘導体(ただし、重合性不飽和結合を分子内に2個以上有する化合物)、及び(C)アクリル酸系誘導体ポリマーを含有してなる光学用樹脂組成物を硬化させた光学用樹脂材料からなる層を視認側に有し、
    前記(A)第1のアクリル酸系誘導体が、アルキル基の炭素数が4〜18であるアルキルアクリレート(以下、AAモノマーという。)及び下記一般式(I)で表されるヒドロキシル基含有アクリレート(以下、HAモノマーという。)を含み、AAモノマーを50〜87重量%、及びHAモノマーを13〜50重量%の割合で混合した混合物からなり、
    前記(C)アクリル酸系誘導体ポリマーが、AAモノマーとHAモノマーとを重合させて得られるコポリマーであり、
    前記光学用樹脂組成物が、前記(A)第1のアクリル酸系誘導体におけるHAモノマーの割合(M重量%)と、前記(C)アクリル酸系誘導体ポリマー中のHAモノマーの割合(P重量%)との間に、
    0.1≦(P−M)≦5.0 数式(I)
    の関係があるように配合されてなることを特徴とする画像表示用装置。
  11. 前記光学用樹脂組成物における、(A)第1のアクリル酸系誘導体、(B)第2のアクリル酸系誘導体、及び(C)アクリル酸系誘導体ポリマーの合計100重量部に対して各成分の配合量が(A)14〜89.49重量部、(B)0.1〜50重量部、(C)10〜80重量部であることを特徴とする請求項10に記載の画像表示用装置。
  12. 前記(C)アクリル酸系誘導体ポリマーが、AAモノマーを50〜87重量%、及びHAモノマーを13〜50重量%の割合で重合させたコポリマーであることを特徴とする請求項10に記載の画像表示用装置
  13. 前記光学用樹脂組成物における、(A)第1のアクリル酸系誘導体、(B)第2のアクリル酸系誘導体、及び(C)アクリル酸系誘導体ポリマーの合計100重量部に対して各成分の配合量が(A)36〜84.49重量部、(B)0.1〜50重量部、(C)15〜60重量部であることを特徴とする請求項10に記載の画像表示用装置。
  14. 前記光学用樹脂組成物が、さらに、(D)重合開始剤を含有することを特徴とする請求項10から13のいずれか1項に記載の画像表示用装置。
  15. 前記光学用樹脂組成物における、(A)第1のアクリル酸系誘導体、(B)第2のアクリル酸系誘導体、(C)アクリル酸系誘導体ポリマー、及び(D)重合開始剤の合計100重量部に対して(D)の配合量が0.01〜5重量部であることを特徴とする請求項14に記載の画像表示用装置。
  16. 前記光学用樹脂組成物が、(D)重合開始剤として、(D1)光重合開始剤を含有することを特徴とする請求項14または15に記載の画像表示用装置。
  17. 前記光学用樹脂組成物における、(A)第1のアクリル酸系誘導体、(B)第2のアクリル酸系誘導体、(C)アクリル酸系誘導体ポリマー、及び(D1)光重合開始剤の合計100重量部に対して(D1)の配合量が0.1〜5重量部であることを特徴とする請求項16に記載の画像表示用装置。
  18. 光学用樹脂組成物を硬化させた光学用樹脂材料からなる層を画像表示用パネルと前面板又は透明保護基板の間に有することを特徴とする請求項10から17のいずれか1項に記載の画像表示用装置。
JP2007284292A 2006-10-31 2007-10-31 画像表示用装置のための光学フィルター及び画像表示用装置 Active JP5680813B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007284292A JP5680813B2 (ja) 2006-10-31 2007-10-31 画像表示用装置のための光学フィルター及び画像表示用装置

Applications Claiming Priority (15)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006296569 2006-10-31
JP2006296569 2006-10-31
JP2006296568 2006-10-31
JP2006296568 2006-10-31
JP2006311515 2006-11-17
JP2006311515 2006-11-17
JP2007049184 2007-02-28
JP2007049184 2007-02-28
JP2007049183 2007-02-28
JP2007049183 2007-02-28
JP2007052690 2007-03-02
JP2007052690 2007-03-02
JP2007052691 2007-03-02
JP2007052691 2007-03-02
JP2007284292A JP5680813B2 (ja) 2006-10-31 2007-10-31 画像表示用装置のための光学フィルター及び画像表示用装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013250012A Division JP2014112224A (ja) 2006-10-31 2013-12-03 画像表示用装置のための光学フィルター及び画像表示用装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008250288A JP2008250288A (ja) 2008-10-16
JP5680813B2 true JP5680813B2 (ja) 2015-03-04

Family

ID=39344272

Family Applications (5)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007284291A Pending JP2008248221A (ja) 2006-10-31 2007-10-31 光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂材料
JP2007284292A Active JP5680813B2 (ja) 2006-10-31 2007-10-31 画像表示用装置のための光学フィルター及び画像表示用装置
JP2008542162A Expired - Fee Related JP5176149B2 (ja) 2006-10-31 2007-10-31 光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂材料、画像表示用装置のための光学フィルター、並びに画像表示用装置
JP2013250012A Pending JP2014112224A (ja) 2006-10-31 2013-12-03 画像表示用装置のための光学フィルター及び画像表示用装置
JP2014220287A Expired - Fee Related JP6178775B2 (ja) 2006-10-31 2014-10-29 光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂材料

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007284291A Pending JP2008248221A (ja) 2006-10-31 2007-10-31 光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂材料

Family Applications After (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008542162A Expired - Fee Related JP5176149B2 (ja) 2006-10-31 2007-10-31 光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂材料、画像表示用装置のための光学フィルター、並びに画像表示用装置
JP2013250012A Pending JP2014112224A (ja) 2006-10-31 2013-12-03 画像表示用装置のための光学フィルター及び画像表示用装置
JP2014220287A Expired - Fee Related JP6178775B2 (ja) 2006-10-31 2014-10-29 光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂材料

Country Status (7)

Country Link
US (3) US8653200B2 (ja)
EP (2) EP2053087A4 (ja)
JP (5) JP2008248221A (ja)
KR (4) KR101189925B1 (ja)
CN (3) CN101506298B (ja)
TW (2) TW200831547A (ja)
WO (1) WO2008053931A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015017278A (ja) * 2006-10-31 2015-01-29 日立化成株式会社 光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂材料

Families Citing this family (72)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008156136A1 (ja) * 2007-06-19 2008-12-24 Hitachi Chemical Co., Ltd. 光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂材料
JP5382403B2 (ja) * 2008-06-04 2014-01-08 日立化成株式会社 光学用樹脂組成物及びこの組成物を用いた光学用樹脂材料並びに画像表示用装置
KR101638207B1 (ko) 2008-09-01 2016-07-08 닛뽕 카바이도 고교 가부시키가이샤 점착제 조성물, 점착제, 및 광학필름
JP4975710B2 (ja) 2008-09-29 2012-07-11 東京エレクトロン株式会社 加熱ユニット、基板処理装置および流体の加熱方法
US8361633B2 (en) 2008-10-03 2013-01-29 3M Innovative Properties Company Cloud point-resistant adhesives and laminates
US8361632B2 (en) * 2008-10-03 2013-01-29 3M Innovative Properties Company Cloud point-resistant adhesives and laminates
KR101470912B1 (ko) * 2009-07-22 2014-12-09 히타치가세이가부시끼가이샤 광경화성 수지 조성물과 그 경화물, 수지 시트와 그 제조법, 및 표시 장치
JP5399805B2 (ja) * 2009-08-04 2014-01-29 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
CN102753997B (zh) * 2009-12-17 2014-08-27 3M创新有限公司 显示面板组件及其制造方法
CN105504187A (zh) * 2010-06-16 2016-04-20 旭硝子株式会社 固化性树脂组合物以及使用该组合物的层叠体及其制造方法
WO2012024217A1 (en) * 2010-08-18 2012-02-23 3M Innovative Properties Company Optical assemblies including stress-relieving optical adhesives and methods of making same
US9840573B2 (en) 2010-08-31 2017-12-12 Mitsubishi Chemical Corporation Acrylic composition, formed body, key sheet of mobile telephone, and light guide
KR101881618B1 (ko) * 2010-12-06 2018-07-24 닛폰고세이가가쿠고교 가부시키가이샤 점착체 조성물, 점착제, 및 이를 사용하여 이루어진 점착 시트
JP2012145751A (ja) * 2011-01-12 2012-08-02 Nippon Shokubai Co Ltd 光学用紫外線硬化型樹脂組成物、硬化物及び表示装置
JP2012155264A (ja) * 2011-01-28 2012-08-16 Hitachi Chem Co Ltd 光学用樹脂組成物及びこの組成物を用いた画像表示用装置の製造方法並びに画像表示用装置
JP5747572B2 (ja) * 2011-03-08 2015-07-15 セイコーエプソン株式会社 時計用文字板および時計
CN104558441A (zh) * 2011-03-11 2015-04-29 日立化成株式会社 液态固化性树脂组合物、使用了该组合物的图像显示用装置的制造方法及图像显示用装置
JP6020895B2 (ja) * 2011-08-22 2016-11-02 三菱レイヨン株式会社 硬化性樹脂組成物、硬化物及び光学部材
CN104629573B (zh) * 2011-10-21 2016-09-14 日本化药株式会社 光学构件的制造方法及用于该制造方法的紫外线固化型树脂组合物的应用
US9195083B2 (en) 2011-10-31 2015-11-24 Microsoft Technology Licensing, Llc Impact resistant construction of an interactive device
KR20140099294A (ko) * 2011-12-01 2014-08-11 도아고세이가부시키가이샤 광학 필름 형성용 활성 에너지선 경화형 조성물, 광학 필름, 편광자 보호 필름 및 편광판
JP6003200B2 (ja) * 2012-05-08 2016-10-05 日立化成株式会社 画像表示装置用粘着シート、画像表示装置の製造方法及び画像表示装置
CN104812834B (zh) * 2012-11-13 2017-04-26 可奥熙搜路司有限公司 环氧丙烯酸类的高折射光学材料用聚合性组合物及环氧丙烯酸类高折射光学材料的制备方法
KR101549726B1 (ko) * 2012-12-20 2015-09-02 제일모직주식회사 봉지용 조성물, 이를 포함하는 장벽층 및 이를 포함하는 봉지화된 장치
TWI479000B (zh) * 2013-02-07 2015-04-01 Sumika Technology Co Ltd 接著性高分子組成物及其應用
KR102129543B1 (ko) 2013-07-03 2020-07-03 삼성디스플레이 주식회사 점착 필름 및 그 제조 방법과 상기 점착 필름을 포함하는 표시 장치
KR20150015290A (ko) * 2013-07-31 2015-02-10 삼성전자주식회사 표시 장치용 필름 및 이를 포함하는 표시 장치
KR102213491B1 (ko) * 2013-09-09 2021-02-08 닛뽄 가야쿠 가부시키가이샤 광학 부재의 제조 방법 및 그것에 이용하는 자외선 경화형 수지 조성물
WO2015047019A1 (ko) * 2013-09-30 2015-04-02 코오롱인더스트리 주식회사 집광형 광학시트 및 그 제조방법
KR20150037620A (ko) * 2013-09-30 2015-04-08 코오롱인더스트리 주식회사 집광형 광학시트 및 그 제조방법
JP2015163684A (ja) * 2014-01-29 2015-09-10 日本合成化学工業株式会社 樹脂成形体、及びその用途
JP6427955B2 (ja) * 2014-05-26 2018-11-28 日立化成株式会社 フレキシブル透明基板
JP6427956B2 (ja) * 2014-05-26 2018-11-28 日立化成株式会社 フレキシブル透明基板
JP6427954B2 (ja) * 2014-05-26 2018-11-28 日立化成株式会社 フレキシブル透明基板
JP6427953B2 (ja) * 2014-05-26 2018-11-28 日立化成株式会社 フレキシブル透明基板
JP6519320B2 (ja) * 2014-06-06 2019-05-29 株式会社リコー 光重合性組成物、光重合性インク、組成物収容容器、画像乃至硬化物の形成方法、画像乃至硬化物形成装置、及び画像乃至硬化物
KR101703431B1 (ko) * 2014-06-30 2017-02-06 주식회사 엘지화학 경화성 조성물
WO2016003156A1 (ko) * 2014-06-30 2016-01-07 주식회사 엘지화학 경화성 조성물
CN104309846B (zh) * 2014-08-26 2017-02-15 深圳市华星光电技术有限公司 液晶玻璃的装箱方法
US9465472B1 (en) * 2014-08-29 2016-10-11 Amazon Technologies, Inc. Metal mesh touch sensor with low birefringence substrate and ultraviolet cut
US10982122B2 (en) 2014-09-05 2021-04-20 3M Innovative Properties Company Heat conformable curable adhesive films
KR101871549B1 (ko) 2014-10-29 2018-07-03 삼성에스디아이 주식회사 디스플레이 밀봉재용 조성물, 이를 포함하는 유기보호층, 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
JP2016126130A (ja) * 2014-12-26 2016-07-11 日東電工株式会社 有機el表示装置用積層体及び有機el表示装置
TWI535772B (zh) * 2015-03-31 2016-06-01 長興材料工業股份有限公司 光學材料組合物及其用途
JP6256664B6 (ja) * 2015-06-02 2018-06-27 三菱ケミカル株式会社 画像表示装置用積層体の製造方法
WO2016208785A1 (ko) * 2015-06-24 2016-12-29 삼성전자 주식회사 표시 장치용 하드코팅 필름 및 이를 포함하는 표시 장치
CN105161513B (zh) * 2015-08-03 2017-03-08 京东方科技集团股份有限公司 Oled显示装置及其制造方法、彩膜基板及其制造方法
JP2017040767A (ja) * 2015-08-19 2017-02-23 日本精機株式会社 表示装置
CN105254816A (zh) * 2015-10-22 2016-01-20 瑞洲树脂(东莞)有限公司 一种辐射固化灌注胶及一种辐射固化镜片和一种辐射固化镜头与一种辐射固化光学板材
JP6903470B2 (ja) * 2016-05-12 2021-07-14 Eneos株式会社 光学位相差部材及びプロジェクタ
JP6751611B2 (ja) * 2016-07-11 2020-09-09 株式会社日本触媒 硬化性樹脂組成物及びその用途
US11505692B2 (en) 2016-09-02 2022-11-22 Threebond Co., Ltd. (Meth) acrylic resin composition and electroconductive adhesive using the same
JP6580540B2 (ja) 2016-09-28 2019-09-25 藤森工業株式会社 粘着剤組成物及び粘着フィルム
US11208576B2 (en) 2017-03-03 2021-12-28 3M Innovative Properties Company High performance photocurable optically clear adhesive
WO2018160614A1 (en) 2017-03-03 2018-09-07 3M Innovative Properties Company High performance photocurable optically clear adhesive
CN109085726B (zh) 2017-06-13 2021-10-22 元太科技工业股份有限公司 可挠性叠层结构及显示器
CN110730982B (zh) * 2017-06-14 2021-10-08 松下知识产权经营株式会社 显示装置以及显示装置的制造方法
US10868229B2 (en) 2017-09-19 2020-12-15 Lg Chem, Ltd. Electrode substrate for transparent light-emitting device display, and manufacturing method therefor
WO2019092819A1 (ja) 2017-11-08 2019-05-16 堺ディスプレイプロダクト株式会社 表示装置および表示装置の製造方法
KR101953367B1 (ko) * 2017-12-07 2019-05-24 삼성디스플레이 주식회사 광경화성 수지 조성물 및 이를 이용한 윈도우 부재의 제조 방법
WO2019225631A1 (ja) * 2018-05-22 2019-11-28 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板、液晶パネル、タッチパネル及び画像表示装置
JP6671420B2 (ja) * 2018-06-18 2020-03-25 堺ディスプレイプロダクト株式会社 表示装置および表示装置の製造方法
JP2019210480A (ja) * 2019-07-23 2019-12-12 デクセリアルズ株式会社 光硬化性樹脂組成物、及び画像表示装置の製造方法
KR102297125B1 (ko) * 2019-09-16 2021-09-02 한국과학기술원 개시제를 사용하는 화학 기상 증착 방법을 이용하여 조성에 따라 물성 조절이 가능한 자가 치유 고분자 형성 방법
CN110642985A (zh) * 2019-11-07 2020-01-03 同光(江苏)新材料科技有限公司 一种uv固化光学透明膜及其制备方法
JP2020109196A (ja) * 2020-04-16 2020-07-16 日立化成株式会社 光硬化性樹脂組成物及び硬化物
JP2020149065A (ja) * 2020-05-26 2020-09-17 日東電工株式会社 有機el表示装置用積層体及び有機el表示装置
US11739172B2 (en) 2020-12-17 2023-08-29 3M Innovative Properties Company Composition including monomer with a carboxylic acid group, monomer with a hydroxyl group, and crosslinker and related articles and methods
WO2022210725A1 (ja) * 2021-03-31 2022-10-06 大日本印刷株式会社 表示装置用積層体および表示装置
CN113698533A (zh) * 2021-08-31 2021-11-26 武汉羿阳科技有限公司 紫外固化树脂组合物、其制备的彩膜及彩膜在柔性oled封装结构中的应用
CN113917757B (zh) * 2021-11-26 2023-10-13 浙江精一新材料科技有限公司 含有非线性结构液体聚合物的光阀装置、非线性结构液体聚合物及其制备方法
CN114874383B (zh) * 2022-06-16 2023-10-13 深圳市撒比斯科技有限公司 一种无介质空中成像高分子材料及光学晶格器件成型工艺

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03204616A (ja) 1990-01-08 1991-09-06 Hitachi Ltd 液晶ディスプレイ
JPH0511239A (ja) 1991-07-02 1993-01-19 Sharp Corp 液晶デイスプレイ
JPH0659253A (ja) 1992-08-06 1994-03-04 Sharp Corp 液晶表示装置およびその製造方法
JPH06333515A (ja) 1993-05-19 1994-12-02 Asahi Glass Co Ltd ガラス製ブラウン管
JPH06333517A (ja) 1993-05-19 1994-12-02 Asahi Glass Co Ltd ガラス製のブラウン管
US5908873A (en) * 1995-12-20 1999-06-01 Borden Chemicals, Inc. Peelable bonded ribbon matrix material; optical fiber bonded ribbon arrays containing same; and process for preparing said optical fiber bonded ribbon arrays
JP2000265133A (ja) * 1999-03-11 2000-09-26 Tomoegawa Paper Co Ltd 電子ディスプレイ用貼着フィルム
JP3549015B2 (ja) * 1999-02-12 2004-08-04 旭化成エレクトロニクス株式会社 光重合性組成物
DE19918134A1 (de) * 1999-04-21 2000-10-26 Ppg Ind Lacke Gmbh Polymer
JP4382963B2 (ja) 2000-05-16 2009-12-16 三菱レイヨン株式会社 光硬化性樹脂組成物、積層体およびディスプレー前面板
JP4352592B2 (ja) * 2000-07-11 2009-10-28 コニカミノルタホールディングス株式会社 セルロースエステルドープ組成物、セルロースエステルフィルムの製造方法、セルロースエステルフィルム及びそれを用いた偏光板
DE10061544A1 (de) * 2000-12-11 2002-06-13 Bayer Ag Weiche, momodisperse, kugelförmige Perlpolymerisate
JP4782294B2 (ja) * 2001-03-02 2011-09-28 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. 多層被覆
JP2003003132A (ja) 2001-06-19 2003-01-08 Lintec Corp 粘着シートおよび貼着体
JP4437632B2 (ja) 2001-07-31 2010-03-24 日本カーバイド工業株式会社 光学部材表面保護フィルム用感圧接着剤組成物
JP2004058376A (ja) 2002-07-26 2004-02-26 Nitto Denko Corp ガラス割れ防止用透明積層体
JP2004109748A (ja) * 2002-09-20 2004-04-08 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 平面画像表示装置用隔壁
JP4599792B2 (ja) 2002-09-30 2010-12-15 日立化成工業株式会社 液晶表示装置用シート及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法
JP3982377B2 (ja) * 2002-10-08 2007-09-26 Jsr株式会社 光硬化性樹脂組成物及び光学部材
JP4002236B2 (ja) 2003-02-05 2007-10-31 古河電気工業株式会社 ウエハ貼着用粘着テープ
JP2004263084A (ja) 2003-03-03 2004-09-24 Nitto Denko Corp プラズマディスプレイ用フィルタの直貼り用粘着剤
JP2005107199A (ja) 2003-09-30 2005-04-21 Dainippon Printing Co Ltd 光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネル
JP2005240014A (ja) 2004-01-30 2005-09-08 Mitsubishi Chemicals Corp 放射線硬化性樹脂組成物、放射線硬化性樹脂組成物の製造方法、硬化物、積層体及び光記録媒体
JP5069398B2 (ja) 2004-09-27 2012-11-07 日立化成工業株式会社 保護部材、それを用いた保護部材積層体及びディスプレイ装置
JP2006140347A (ja) * 2004-11-12 2006-06-01 Hitachi Chem Co Ltd ディスプレイ及びその製造方法
JP5271474B2 (ja) 2004-12-15 2013-08-21 日立化成株式会社 ディスプレー用フィルター
JP4690053B2 (ja) * 2005-01-13 2011-06-01 日本合成化学工業株式会社 樹脂成形体、その製造方法、及びその用途
JP2006349736A (ja) 2005-06-13 2006-12-28 Dainippon Printing Co Ltd 光学フィルターおよびその製造方法
JP4743494B2 (ja) * 2005-07-01 2011-08-10 日立化成工業株式会社 光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂シート並びにこれらを用いたプラズマディスプレイ用光学フィルタ及びプラズマディスプレイ
JP4743493B2 (ja) * 2005-07-01 2011-08-10 日立化成工業株式会社 液晶ディスプレイ向け衝撃吸収用樹脂組成物及びそれを用いた液晶ディスプレイ用衝撃吸収材並びにこれらを用いた液晶ディスプレイ用光学フィルタ及び液晶ディスプレイ
JP2007094191A (ja) 2005-09-29 2007-04-12 Dainippon Printing Co Ltd フラットディスプレイ用耐衝撃吸収材、プラズマディスプレイ用光学フィルタ、プラズマディスプレイパネル、及びフラットディスプレイ用耐衝撃吸収材の製造方法
US9423638B2 (en) * 2006-07-14 2016-08-23 Dexerials Corporation Resin composition and display unit
KR101189925B1 (ko) * 2006-10-31 2012-10-10 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 광학용 수지 조성물 및 그것을 이용한 광학용 수지 재료, 화상표시용 장치를 위한 광학 필터, 및 화상표시용 장치
WO2008156136A1 (ja) * 2007-06-19 2008-12-24 Hitachi Chemical Co., Ltd. 光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂材料

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015017278A (ja) * 2006-10-31 2015-01-29 日立化成株式会社 光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂材料

Also Published As

Publication number Publication date
CN101506298A (zh) 2009-08-12
CN101506298B (zh) 2011-10-05
JP2014112224A (ja) 2014-06-19
CN102268122B (zh) 2013-08-28
TWI455982B (zh) 2014-10-11
CN102250297A (zh) 2011-11-23
JP5176149B2 (ja) 2013-04-03
KR101284916B1 (ko) 2013-07-10
KR20110087347A (ko) 2011-08-02
US8653200B2 (en) 2014-02-18
US20100247940A1 (en) 2010-09-30
US20120120347A1 (en) 2012-05-17
WO2008053931A1 (en) 2008-05-08
JP6178775B2 (ja) 2017-08-09
JP2008250288A (ja) 2008-10-16
EP2053087A1 (en) 2009-04-29
KR101284982B1 (ko) 2013-07-17
TWI371456B (ja) 2012-09-01
EP2053087A4 (en) 2010-12-01
CN102268122A (zh) 2011-12-07
EP2796504A2 (en) 2014-10-29
EP2796504A3 (en) 2015-02-18
JP2008248221A (ja) 2008-10-16
US8859683B2 (en) 2014-10-14
KR20110087349A (ko) 2011-08-02
TW200831547A (en) 2008-08-01
JPWO2008053931A1 (ja) 2010-02-25
JP2015017278A (ja) 2015-01-29
KR101189925B1 (ko) 2012-10-10
CN102250297B (zh) 2013-08-21
KR101284998B1 (ko) 2013-07-10
US20140023799A1 (en) 2014-01-23
KR20090045253A (ko) 2009-05-07
KR20110087348A (ko) 2011-08-02
US9012028B2 (en) 2015-04-21
TW201219481A (en) 2012-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5680813B2 (ja) 画像表示用装置のための光学フィルター及び画像表示用装置
JP5765398B2 (ja) 光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂材料
JP4743493B2 (ja) 液晶ディスプレイ向け衝撃吸収用樹脂組成物及びそれを用いた液晶ディスプレイ用衝撃吸収材並びにこれらを用いた液晶ディスプレイ用光学フィルタ及び液晶ディスプレイ
JP5417776B2 (ja) 光学用樹脂組成物及びこれを用いた光学用樹脂材料
JP5870933B2 (ja) 画像表示装置用粘着シート、画像表示装置及び粘着性樹脂組成物
JP5057137B2 (ja) 保護板付き画像表示装置の製造方法
JP5382403B2 (ja) 光学用樹脂組成物及びこの組成物を用いた光学用樹脂材料並びに画像表示用装置
JP2012155264A (ja) 光学用樹脂組成物及びこの組成物を用いた画像表示用装置の製造方法並びに画像表示用装置
JP2008233774A (ja) 電気泳動表示装置及び電子機器
JP5790148B2 (ja) 画像表示装置及び画像表示装置の製造方法
JP4743494B2 (ja) 光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂シート並びにこれらを用いたプラズマディスプレイ用光学フィルタ及びプラズマディスプレイ
JP6540662B2 (ja) 液状硬化性樹脂組成物、これを用いた画像表示用装置の製造方法、及び画像表示用装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100927

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110812

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132

Effective date: 20110906

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111104

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120904

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121105

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130903

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20141125

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150108

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5680813

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250