JP5584721B2 - ポリカーボネート樹脂およびこれを用いた電子写真感光体 - Google Patents

Description

本発明は、特定の構造を導入したポリカーボネート樹脂およびこのポリカーボネート樹脂を感光層に用いた電子写真感光体に関し、さらに詳しくは、化学的に安定で、かつ低表面エネルギー化を達成し得るポリカーボネート樹脂、およびこのポリカーボネート樹脂を用いた、クリーニング性、滑り性および耐摩耗性が良好で、種々の電子写真分野に好適に利用できる電子写真感光体に関する。

ポリカーボネート樹脂は、光学フィルム、光ディスク、レンズなどの光学材料や電気機器などのハウジングなど、様々な分野で素材として用いられているが、用途分野の拡大に伴ってさらに性能の優れたポリカーボネート樹脂の開発が望まれている。
一方、導電性基体上に感光層を設けた電子写真感光体としては、最近、感光層として少なくとも露光により電荷を発生する電荷発生層（ＣＧＬ）と電荷を輸送する電荷輸送層（ＣＴＬ）の二層を有する積層型の有機電子写真感光体（ＯＰＣ）や、感光層が、電荷発生物質および電荷輸送物質をバインダー樹脂に分散させた単一層からなる、あるいは電荷発生物質のみをバインダー樹脂に分散させた単一層からなる単層型の有機電子写真感光体が提案され、使用されている。さらに、電子写真感光体の耐久性向上や高画質化のために、感光層にポリテトラフルオロエチレン微粒子を分散させたり、あるいは感光層の最上層にオーバーコート層を設けたＯＰＣも実用化されている（例えば、非特許文献１参照）。
この有機電子写真感光体には、適用される電子写真プロセスに応じて、所定の感度や電気特性、光学特性を備えていることが要求される。この電子写真感光体は、その感光層の表面に、コロナ帯電あるいはロールやブラシを用いた接触帯電、トナー現像、紙への転写、クリーニング処理などの操作が繰り返し行われるため、これら操作を行う度に電気的、機械的外力が加えられる。したがって、長期間に亘って電子写真の画質を維持するためには、電子写真感光体の表面に設けた感光層に、これら外力に対する耐久性が要求される。具体的には、摩擦による表面の摩耗や傷の発生、コロナ帯電や接触帯電、転写でのオゾンなどの活性ガスや放電による表面の劣化に対する耐久性が要求される。
このような要求に応えるため、有機電子写真感光体のバインダー樹脂としては、感光層に用いる電荷輸送物質との相溶性が良く、光学特性も良好なポリカーボネート樹脂が使用されてきた。すなわち、このポリカーボネート樹脂として２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔ビスフェノールＡ〕や１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン〔ビスフェノールＺ〕などを原料とするものが使用されてきた。しかしながら、このビスフェノールＡやビスフェノールＺを原料とするポリカーボネート樹脂をもってしても上記要求を満足させるには不十分である。
上記問題を解決する手法として、シロキサンを共重合したポリカーボネート樹脂を含有する電子写真感光体が検討されている（例えば、特許文献１、２および３参照）。しかしながら、これらに開示された共重合体は、化学的に不安定なＳｉ−Ｏ−Ｃ結合を介して結合しているために、分子鎖切断による機械特性の劣化や、分子末端にシラノール基が残存することによる帯電特性の劣化が問題になるものであった。これを解決するため、化学的に安定なＳｉ−Ｃ結合で接合された共重合ポリカーボネート樹脂が提案されている（例えば、特許文献４および５参照）。しかしながら、これらポリカーボネート樹脂を用いた感光体は、低い表面エネルギーを有することから、クリーニング特性が向上するものの、耐摩耗性の改善効果は十分とは言えなかった。

「第５３回日本画像学会技術講習会予稿集」９１頁

特開昭６１−１３２９５４号公報 特開平２−２４０６５５号公報 特許第２９８９２５１号公報 特開平５−７２７５３号公報 特開平１０−２３２５０３号公報

本発明は、上記状況下でなされたもので、バインダー樹脂としてビスフェノールＡやビスフェノールＺを原料とするポリカーボネート樹脂を用いた電子写真感光体に認められる上記の問題点を解決し得るポリカーボネート樹脂、およびこのポリカーボネート樹脂を用いた、クリーニング性、滑り性および耐摩耗性が良好な電子写真感光体を提供することを目的とする。

本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、特定のシロキサン構造を導入したポリカーボネート樹脂が上記目的に適合することを見出した。本発明はかかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち、本発明の要旨は下記のとおりである。
［１］ 下記一般式（１）

（式中、Ｒは炭素数１〜３のアルキル基を示す。ｎ１は２〜４の整数であり、ｎ２は１〜２００の整数である。）

で表される繰り返し単位を有することを特徴とするポリカーボネート樹脂。
［２］ ポリカーボネート樹脂が、さらに下記一般式（２）

（式中、Ａｒは二価の芳香族基を示す。）

で表される繰り返し単位を含む上記［１］に記載のポリカーボネート樹脂。
［３］ 一般式（２）におけるＡｒが、下記一般式（３）で表される基の少なくとも一種を含む上記［２］に記載のポリカーボネート樹脂。

［式中、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に、トリフルオロメチル基，ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基および炭素数６〜１２のアリールオキシ基から選ばれる基を示す。Ｘは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−ＣＲ³Ｒ⁴−（ただし、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立に、水素原子、トリフルオロメチル基、置換または無置換の炭素数１〜１０のアルキル基、および置換または無置換の炭素数６〜１２のアリール基から選ばれる基を示す。）、置換または無置換の炭素数５〜１１のシクロアルキリデン基、置換または無置換の炭素数２〜１２のα, ω−アルキレン基、置換または無置換の９，９−フルオレニリデン基、置換または無置換の炭素数６〜１２のアリーレン基、下記一般式

（式中、Ｒ⁵〜Ｒ⁷は、Ｒ¹およびＲ²と同様の基を示す。）

で表される天然テルペン類から誘導される二価の基、ならびに下記一般式

（式中、Ｒ⁸〜Ｒ¹¹は、Ｒ¹およびＲ²と同様の基を示す。）

で表される炭素数８〜１６のアルキリデンアリーレンアルキリデン基から選ばれる基を示す。］
［４］ 一般式（３）におけるＸが−ＣＲ³Ｒ⁴−、単結合、置換または無置換の炭素数５〜１１シクロアルキリデン基および置換または無置換の９，９−フルオレニリデン基から選ばれる基である上記［３］に記載のポリカーボネート樹脂。
［５］ 一般式（３）におけるＸが−ＣＲ³Ｒ⁴−であり、かつポリカーボネート樹脂全体に占める一般式（１）で表される繰り返し単位の割合が０．０１〜３．９質量％である上記［３］に記載のポリカーボネート樹脂。
［６］ 一般式（３）で表される基が、（ａ）Ｘが単結合である基と、Ｘが単結合以外である基の組み合わせ、（ｂ）Ｘが置換または無置換の炭素数５〜１１のシクロアルキリデン基である基と、Ｘが置換または無置換の炭素数５〜１１のシクロアルキリデン基以外である基の組み合わせ、（ｃ）Ｘが置換または無置換の９，９−フルオレニリデン基である基と、Ｘが置換または無置換の９，９−フルオレニリデン基以外である基の組み合わせ、（ｄ）Ｘが炭素数８〜１６のアルキリデンアリーレンアルキリデン基である基と、Ｘが炭素数８〜１６のアルキリデンアリーレンアルキリデン基以外である基の組み合わせ、（ｅ）Ｘが−ＳＯ−である基と、Ｘが−ＳＯ−以外である基の組み合わせ、（ｆ）Ｘが−Ｏ−である基と、Ｘが−Ｏ−以外である基の組み合わせまたは（ｇ）Ｘが−ＣＯ−である基と、Ｘが−ＣＯ−以外である基の組み合わせである上記［３］に記載のポリカーボネート樹脂。
［７］ 導電性基体上に感光層を設けた電子写真感光体において、該感光層が、上記一般式（１）で表される繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂を含むことを特徴とする電子写真感光体。
［８］ 感光層に含まれるポリカーボネート樹脂が、さらに上記一般式（２）で表される繰り返し単位を含む上記［７］に記載の電子写真感光体。
［９］ 一般式（２）におけるＡｒが、上記一般式（３）で表される基の少なくとも一種を含む上記［８］に記載の電子写真感光体。
［１０］ 一般式（３）におけるＸが−ＣＲ³Ｒ⁴−、単結合、置換または無置換の炭素数５〜１１シクロアルキリデン基および置換または無置換の９，９−フルオレニリデン基から選ばれる基である上記［９］に記載の電子写真感光体。
［１１］ 一般式（３）におけるＸが−ＣＲ³Ｒ⁴−であり、かつポリカーボネート樹脂全体に占める一般式（１）で表される繰り返し単位の割合が０．０１〜３．９質量％である上記［９］に記載の電子写真感光体。
［１２］ 一般式（３）で表される基が、（ａ）Ｘが単結合である基と、Ｘが単結合以外である基の組み合わせ、（ｂ）Ｘが置換または無置換の炭素数５〜１１のシクロアルキリデン基である基と、Ｘが置換または無置換の炭素数５〜１１のシクロアルキリデン基以外である基の組み合わせ、（ｃ）Ｘが置換または無置換の９，９−フルオレニリデン基である基と、Ｘが置換または無置換の９，９−フルオレニリデン基以外である基の組み合わせ、（ｄ）Ｘが炭素数８〜１６のアルキリデンアリーレンアルキリデン基である基と、Ｘが炭素数８〜１６のアルキリデンアリーレンアルキリデン基以外である基の組み合わせ、（ｅ）Ｘが−ＳＯ−である基と、Ｘが−ＳＯ−以外である基の組み合わせ、（ｆ）Ｘが−Ｏ−である基と、Ｘが−Ｏ−以外である基の組み合わせまたは（ｇ）Ｘが−ＣＯ−である基と、Ｘが−ＣＯ−以外である基の組み合わせである上記［９］記載の電子写真感光体。

本発明によれば、化学的に安定で、かつ低表面エネルギー化を達成し得るポリカーボネート樹脂を電子写真感光体の感光層のバインダー樹脂として用いているので、クリーニング性、滑り性および耐摩耗性が良好な電子写真感光体を提供することができる。

本発明のポリカーボネート樹脂は、下記一般式（１）

（式中、Ｒは炭素数１〜３のアルキル基を示す。ｎ１は２〜４の整数、好ましくは３であり、ｎ２は１〜２００、好ましくは３〜１５０、より好ましくは１０〜１００の整数である。）

で表される繰り返し単位［以下、（ａ）繰り返し単位ともいう。］を有するものである。また、本発明の電子感光体は、導電性基体上に感光層を設けた構成を有するものであり、この感光層に、上記ポリカーボネート樹脂を含むものである。上記一般式（１）において、Ｒで示される炭素数１〜３のアルキル基は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基およびイソプロピル基であり、本発明のおいてはメチル基が好ましい。
本発明において、ポリカーボネート樹脂は、上記一般式（１）で表される繰り返し単位に加えて、さらに下記一般式（２）

（式中、Ａｒは二価の芳香族基を示す。）

で表される繰り返し単位［以下、（ｂ）繰り返し単位ともいう。］を有するものであってもよい。上記一般式（２）におけるＡｒとしては、下記一般式（３）

で表される基の少なくとも一種を含む基が挙げられる。上記一般式（３）において、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に、トリフルオロメチル基，ハロゲン原子、炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１２、好ましくは炭素数６〜１０のアリール基、炭素数３〜１２、好ましくは炭素数５〜９のシクロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基および炭素数６〜１２、好ましくは炭素数６〜１０のアリールオキシ基から選ばれる基を示す。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられる。炭素数１〜１０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基、各種ヘプチル基、各種オクチル基、２−メトキシエチル基などが挙げられる。炭素数６〜１２のアリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基などが挙げられる。炭素数３〜１２のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。炭素数１〜６のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、各種ペントキシ基などが挙げられる。炭素数６〜１２のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、ナフチルオキシ基などが挙げられる。
上記一般式（３）において、Ｘは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−ＣＲ³Ｒ⁴−（ただし、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立に、水素原子、トリフルオロメチル基、置換または無置換の炭素数１〜１０のアルキル基、および置換または無置換の炭素数６〜１２、好ましくは炭素数６〜１０のアリール基から選ばれる基を示す。）、置換または無置換の炭素数５〜１１、好ましくは炭素数５〜９のシクロアルキリデン基、置換または無置換の炭素数２〜１２、好ましくは炭素数２〜６のα,ω−アルキレン基、置換または無置換の９，９−フルオレニリデン基、置換または無置換の炭素数６〜１２、好ましくは炭素数６〜１０のアリーレン基、下記一般式

（式中、Ｒ⁵〜Ｒ⁷は、Ｒ¹およびＲ²と同様の基を示す。）

で表される天然テルペン類から誘導される二価の基、ならびに下記一般式

（式中、Ｒ⁸〜Ｒ¹¹は、Ｒ¹およびＲ²と同様の基を示す。）

で表される炭素数８〜１６、好ましくは炭素数１２〜１６のアルキリデンアリーレンアルキリデン基から選ばれる基を示す。
上記Ｘのうちの−ＣＲ³Ｒ⁴−におけるＲ³およびＲ⁴の置換または無置換の炭素数１〜１０のアルキル基、置換または無置換の炭素数６〜１２アリール基としては、上記一般式（３）におけるＲ¹およびＲ²と同様のものが挙げられる。
Ｘのうちの置換または無置換の炭素数５〜１１のシクロアルキリデン基としては、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基、シクロヘプチリデン基などが挙げられる。置換または無置換の炭素数２〜１２のα,ω−アルキレン基としては、α,ω−エチレン基、α,ω−プロピレン基、α,ω−ブチレン基などが挙げられる。置換または無置換の炭素数６〜１２のアリーレン基としては、フェニレン基、アルキル置換フェニレン基、ナフチレン基、アルキル置換ナフチレン基などが挙げられる。

上記一般式（２）で表される繰り返し単位の組み合わせとしては、上記一般式（３）で表される基が、（ａ）Ｘが単結合である基と、Ｘが単結合以外である基の組み合わせ、（ｂ）Ｘが置換または無置換の炭素数５〜１１のシクロアルキリデン基である基と、Ｘが置換または無置換の炭素数５〜１１のシクロアルキリデン基以外である基の組み合わせ、（ｃ）Ｘが置換または無置換の９，９−フルオレニリデン基である基と、Ｘが置換または無置換の９，９−フルオレニリデン基以外である基の組み合わせ、（ｄ）Ｘが炭素数８〜１６のアルキリデンアリーレンアルキリデン基である基と、Ｘが炭素数８〜１６のアルキリデンアリーレンアルキリデン基以外である基の組み合わせ、（ｅ）Ｘが−ＳＯ−である基と、Ｘが−ＳＯ−以外である基の組み合わせ、（ｆ）Ｘが−Ｏ−である基と、Ｘが−Ｏ−以外である基の組み合わせまたは（ｇ）Ｘが−ＣＯ−である基と、Ｘが−ＣＯ−以外である基の組み合わせであるものが挙げられる。

上記繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌ溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／Ｃ］が０．１〜５．０ｄｌ／ｇであることが好ましく、より好ましくは０．２〜３．０ｄｌ／ｇ、特に好ましくは０．３〜２．５ｄｌ／ｇである。還元粘度［η_sp／Ｃ］が０．１ｄｌ／ｇ未満であると、電子写真感光体の耐刷性が不十分となるおそれがある。また、還元粘度［η_sp／Ｃ］が５．０ｄｌ／ｇを超えると、感光体製造時に、塗工粘度が高くなりすぎることにより、電子写真感光体の生産性が低下するおそれがあり、好ましくない。
（ａ）繰り返し単位と（ｂ）繰り返し単位を有する共重合ポリカーボネート樹脂において、（ａ）繰り返し単位と（ｂ）繰り返し単位の含有割合については特に制限はないが、バインダー樹脂としての物性、およびクリーニング性、滑り性、耐摩耗性のバランスなどの面から、（ａ）／［（ａ）＋（ｂ）］（質量比）は、好ましくは０．０００１〜０．３０、より好ましくは０．００１〜０．１０、さらに好ましくは０．００５〜０．０３９である。
なお、本発明の電子写真感光体のバインダー樹脂に用いられるポリカーボネート樹脂は、本発明の目的に支障のない範囲で、（ａ）繰り返し単位、（ｂ）繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を有していてもよい。また、本発明の電子写真感光体は、感光層に、本発明に係るポリカーボネート樹脂の他に他のポリマーや添加剤が適宜配合されていてもよい。

本発明の電子写真感光体に使用する、（ａ）繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂、あるいは（ａ）繰り返し単位と（ｂ）繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂の製造方法としては特に制限はなく、適当なモノマーを使用して公知の方法に準じて各種の方法によって製造することができる。（ａ）繰り返し単位を含有するポリカーボネート樹脂は、例えば下記一般式（４）

（式中、Ｒ、ｎ１およびｎ２は上記と同じである。）

で表されるビスフェノール化合物（以下［Ａ］成分ともいう。）と、炭酸エステル形成性化合物とを反応させることによって製造することができる。（ａ）繰り返し単位と（ｂ）繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂は、例えば、上記［Ａ］成分と下記一般式（５）

（式中、Ａｒは上記と同じである。）

で表されるビスフェノール化合物（以下［Ｂ］成分ともいう。）との混合物と、炭酸エステル形成性化合物とを反応させることによって製造することができる。この際、末端停止剤を用いることにより、分子量を調節することができる。
上記［Ａ］成分のビスフェノール化合物の具体例としては、４−［４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル］エチル（ポリジメチルシロキシ）ジメチルシリルエチル］−２−メトキシフェノール、４−［４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル］プロピル（ポリジメチルシロキシ）ジメチルシリルプロピル］−２−メトキシフェノール、４−［４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル］ブチル（ポリジメチルシロキシ）ジメチルシリルブチル］−２−メトキシフェノールを挙げることができる。

上記［Ｂ］成分のビスフェノール化合物の具体例としては、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４−ビフェノール、３，３’−ジメチル−４，４’−ビフェノール、３，３’−ジフェニル−４，４’−ビフェノール、３，３’−ジクロロ−４，４’−ビフェノール、３，３’−ジフルオロ−４，４’−ビフェノール、３，３’，５，５’−テトラメチル−４，４’−ビフェノール、２，７−ナフタレンジオール、２，６−ナフタレンジオール、１，４−ナフタレンジオール、１，５−ナフタレンジオール、２，２−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）イソブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−１−フェニルメタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−アミル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１−フェニル−１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、３，３’−ジフルオロ−４，４’−ジヒドロキシビフェニル、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、４，４’−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデン）ジフェノール、４，４’−［１，４−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスフェノール、４，４’−［１，３−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスフェノール、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、末端フェノールポリジメチルシロキサンおよびα−トリメチルシロキシ−ω−ビス｛３−（２−ヒドロキシフェニル）プロピルジメチルシロキシ｝−メチルシロキシ−２−ジメチルシリルエチル−ポリジメチルシロキサンなどが挙げられる。これらのビスフェノール化合物は一種を単独で用いても、二種以上を混合して用いてもよい。

これらのビスフェノール化合物の中で、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、４，４’−ビフェノール、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、４，４’−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデン）ジフェノール、４，４’−［１，４−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスフェノール、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレンが好ましい。
さらに好ましくは、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、４，４’−ビフェノール、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、４，４’−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデン）ジフェノール、９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレンである。

また、炭酸エステル形成性化合物（以下、カーボネート前駆体ともいう。）として、ホスゲン、ホスゲンダイマー、ホスゲントリマー等のジハロゲン化カルボニルまたはクロロホーメート等のハロホーメート類が挙げられる。
さらに、末端停止剤としては例えば、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−フェニルフェノール、ｐ−クミルフェノール，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンタノール、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロヘプタノールなどのハイドロフルオロアルコールやパーフルオロオクチルフェノールなどが挙げられる。
例えば、カーボネート前駆体として、ホスゲン等のジハロゲン化カルボニルまたはクロロホーメート等のハロホーメート類を用いる場合、この反応は、適当な溶媒中で、酸受容体（例えば、アルカリ金属水酸化物やアルカリ金属炭酸塩等の塩基性アルカリ金属化合物、あるいはピリジン等の有機塩基等）の存在下で行うことができる。
アルカリ金属水酸化物およびアルカリ金属炭酸塩としては、各種のものが使用可能であるが、経済的な面から、通常、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が好適に利用される。これらは、通常は水溶液として好適に使用される。

上記カーボネート前駆体の使用割合は、反応の化学量論比（当量）を考慮して適宜調整すればよい。また、ホスゲン等のガス状のカーボネート前駆体を使用する場合、これを反応系に吹き込む方法が好適に採用できる。
上記酸受容体の使用割合も、同様に反応の化学量論比（当量）を考慮して適宜定めればよい。具体的には、使用するビスフェノール化合物の合計モル数（通常、１モルは当量に相当）に対して２当量もしくはこれより若干過剰量の酸受容体を用いることが好ましい。
上記溶媒としては、公知のポリカーボネート製造の際に使用されるものなど各種の溶媒の一種を単独であるいは二種以上の混合溶媒として使用すればよい。代表的な例としては、例えばトルエン、キシレン等の炭化水素溶媒、塩化メチレン、クロロベンゼンをはじめとするハロゲン化炭化水素溶媒などが好適に使用することができる。
また、重縮合反応を促進するために、トリエチルアミンのような第三級アミンまたは第四級アンモニウム塩などの触媒を、さらにはフロログリシン、ピロガロール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−２−ヘプテン、１，３，５−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス［４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］プロパン、２，４−ビス［２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］フェノール、２，６−ビス（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパン、テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、テトラキス［４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェノキシ］メタン、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸、シアヌル酸などの分岐剤を添加して反応を行うことができる。
また、所望に応じ、亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイト等の酸化防止剤を少量添加してもよい。

反応は、通常０〜１５０℃程度、好ましくは５〜４０℃の範囲の温度で行われる。反応圧力は、減圧、常圧、加圧のいずれでも可能であるが、通常は、常圧若しくは反応系の自圧程度で好適に行うことができる。反応時間は、通常０．５分間〜１０時間程度であり、好ましくは１分間〜２時間である。反応方式としては、連続法、半連続法、回分法等のいずれであってもよい。なお、得られるポリカーボネート樹脂の還元粘度［η_sp／Ｃ］を、上記範囲にするには、例えば、上記反応条件、上記末端停止剤（分子量調節剤）の使用量などを適切に選択すればよい。また、場合により、得られたポリカーボネート樹脂に適宜物理的処理（混合、分画など）および／または化学的処理（ポリマー反応、架橋処理、部分分解処理など）を施すことにより、所定の還元粘度［η_sp／Ｃ］のポリカーボネート樹脂として得ることもできる。
得られた反応生成物（粗生成物）は公知の分離・精製法などの各種の後処理を施して、所望の純度（精製度）のポリカーボネート樹脂として回収することができる。

本発明の電子写真感光体は、導電性基体上に感光層を設けた電子写真感光体であって、その感光層が上記ポリカーボネート樹脂を含有する表面層を有するものである。本発明の電子写真感光体は、このような感光層が導電性基体上に形成されたものである限り、その構造に特に制限はなく、単層型や積層型など公知の種々の形式の電子写真感光体はもとより、いかなる構造であってもよい。通常は、感光層が、少なくとも一層の電荷発生層と、表面層を形成する少なくとも一層の電荷輸送層を有する積層型電子写真感光体が好ましく、少なくとも一層の電荷輸送層中に、上記ポリカーボネート樹脂がバインダー樹脂としておよび／または上記表面層として用いられていることが好ましい。
本発明の電子写真感光体において、上記ポリカーボネート樹脂をバインダー樹脂として用いる場合、このポリカーボネート樹脂を一種のみまたは二種以上を組み合わせて用いてもよいし、また、所望に応じて本発明の目的達成を阻害しない範囲で、他のポリカーボネート樹脂などの樹脂成分と併用してもよい。

本発明の電子写真感光体に用いられる導電性基板としては、公知のものなど各種のものを使用することができ、具体的には、アルミニウムやニッケル、クロム、パラジウム、チタン、モリブデン、インジウム、金、白金、銀、銅、亜鉛、真鍮、ステンレス鋼、酸化鉛、酸化錫、酸化インジウム、ＩＴＯ（インジウムチンオキサイド：錫ドープ酸化インジウム）もしくはグラファイトからなる板やドラム、シート、ならびに蒸着、スパッタリング、塗布などによりコーティングするなどして導電処理したガラス、布、紙もしくはプラスチックのフィルム、シートおよびシームレスシーベルト、ならびに電極酸化等により金属酸化処理した金属ドラムなどを使用することができる。
積層型電子写真感光体の電荷発生層は、少なくとも電荷発生物質を含むものであり、この電荷発生層はその下地となる基体上に、真空蒸着法や化学蒸着法、スパッタリング法などによって、電荷発生物質の層を形成するか、またはその下地となる層上に電荷発生物質をバインダー樹脂を用いて結着してなる層を形成せしめることによって得ることができる。バインダー樹脂を用いる電荷発生層の形成方法としては公知の方法等各種の方法を使用することができるが、通常、例えば、電荷発生物質をバインダー樹脂と共に適当な溶媒に分散または溶解した塗工液を、所定の下地となる層上に塗布し、乾燥せしめる方法などが好適に用いられる。このようにして得られる電荷発生層の厚さは、通常、０．０１〜２．０μｍ、好ましくは０．１〜０．８μｍである。電荷発生層の厚さが０．０１μｍ未満であると均一な厚さに層を形成することが困難となるおそれがある。また、２．０μｍを超えると電子写真特性の低下を招くおそれがある。

上記電荷発生層における電荷発生材料としては、公知の各種のものを使用することができる。具体的な化合物としては、非晶質セレンや、三方晶セレン等のセレン単体、セレン−テルル等のセレン合金、Ａｓ₂Ｓｅ₃等のセレン化合物もしくはセレン含有組成物、酸化亜鉛、ＣｄＳ−Ｓｅ等の周期律表第１２族および第１６族元素からなる無機材料、酸化チタン等の酸化物系半導体、アモルファスシリコン等のシリコン系材料、τ型無金属フタロシアニン、χ型無金属フタロシアニン等の無金属フタロシアニン顔料、α型銅フタロシアニン、β型銅フタロシアニン、γ型銅フタロシアニン、ε型銅フタロシアニン、Ｘ型銅フタロシアニン、Ａ型チタニルフタロシアニン、Ｂ型チタニルフタロシアニン、Ｃ型チタニルフタロシアニン、Ｄ型チタニルフタロシアニン、Ｅ型チタニルフタロシアニン、Ｆ型チタニルフタロシアニン、Ｇ型チタニルフタロシアニン、Ｈ型チタニルフタロシアニン、Ｋ型チタニルフタロシアニン、Ｌ型チタニルフタロシアニン、Ｍ型チタニルフタロシアニン、Ｎ型チタニルフタロシアニン、Ｙ型チタニルフタロシアニン、オキソチタニルフタロシアニン、Ｘ線回折図におけるブラッグ角２θが２７．３±０．２度に強い回折ピークを示すチタニルフタロシアニン等の金属フタロシアニン顔料、シアニン染料、アントラセン顔料、ビスアゾ顔料、ピレン顔料、多環キノン顔料、キナクリドン顔料、インジゴ顔料、ペリレン顔料、ピリリウム染料、スクェアリウム顔料、アントアントロン顔料、ベンズイミダゾール顔料、アゾ顔料、チオインジゴ顔料、キノリン顔料、レーキ顔料、オキサジン顔料、ジオキサジン顔料、トリフェニルメタン顔料、アズレニウム染料、トリアリールメタン染料、キサンチン染料、チアジン染料、チアピリリウム染料、ポリビニルカルバゾール、ビスベンゾイミダゾール顔料などが挙げられる。これら化合物は、一種を単独であるいは二種以上のものを混合して、電荷発生物質として用いることができる。
これら電荷発生物質の中でも、好適なものとしては、特開平１１−１７２００３号公報に具体的に記載のものが挙げられる。

上記電荷発生層におけるバインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知の各種のものを使用できる。具体的には、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアセタール、アルキッド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネート、ポリアミド、ブチラール樹脂、ポリエステル、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、メタクリル樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、メラミン樹脂、ポリエーテル樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、エポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロース、ニトロセルロース、カルボキシメチルセルロース、塩化ビニリデン系ポリマーラテックス、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ビニルトルエン−スチレン共重合体、大豆油変性アルキッド樹脂、ニトロ化ポリスチレン、ポリメチルスチレン、ポイソプレン、ポリチオカーボネート、ポリアリレート、ポリハロアリレート、ポリアリルエーテル、ポリビニルアクリレート、ポリエステルアクリレートなどが挙げられる。上記電荷発生層におけるバインダー樹脂として、本発明のポリカーボネート樹脂を使用することもできる。

電荷輸送層は、下地となる層（例えば電荷発生層）上に、上記の本発明に係るポリカーボネート樹脂と電荷輸送物質を含む層を形成することによって得ることができる。
この電荷輸送層の形成方法としては、公知の方法等の各種の方式を使用することができるが、通常、電荷輸送物質と本発明に係るポリカーボネート樹脂、または本発明の目的を阻害しない範囲で、他のバインダー樹脂とともに適当な溶媒に分散もしくは溶解した塗工液を、所定の下地となる基板上に塗布し、乾燥する方式などが使用される。本発明における電荷輸送層形成に用いられる電荷輸送物質とポリカーボネート樹脂との配合割合は、好ましくは質量比で２０：８０〜８０：２０、さらに好ましくは３０：７０〜７０：３０である。
この電荷輸送層において、上記ポリカーボネート樹脂は、一種を単独で用いることもできるし、また、二種以上を混合して用いることもできる。また、本発明の目的達成を阻害しない範囲で上記電荷発生層に用いられるバインダー樹脂として挙げたような樹脂を、上記ポリカーボネート樹脂と併用することもできる。

このようにして形成される電荷輸送層の厚さは、通常５〜１００μｍ程度、好ましくは１０〜３０μｍである。この厚さが５μｍ未満であると初期電位が低くなるおそれがあり、１００μｍを超えると電子写真特性の低下を招くおそれがある。
上記本発明に係るポリカーボネート樹脂と共に使用できる電荷輸送物質としては、公知の各種の化合物を使用することができる。このような化合物としては、カルバゾール化合物、インドール化合物、イミダゾール化合物、オキサゾール化合物、ピラゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ピラゾリン化合物、チアジアゾール化合物、アニリン化合物、ヒドラゾン化合物、芳香族アミン化合物、脂肪族アミン化合物、スチルベン化合物、フルオレノン化合物、ブタジエン化合物、キノン化合物、キノジメタン化合物、チアゾール化合物、トリアゾール化合物、イミダゾロン化合物、イミダゾリジン化合物、ビスイミダゾリジン化合物、オキサゾロン化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンズイミダゾール化合物、キナゾリン化合物、ベンゾフラン化合物、アクリジン化合物、フェナジン化合物、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポリ−９−ビニルフェニルアントラセン、ピレン−ホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾール樹脂、あるいはこれらの構造を主鎖や側鎖に有する重合体などが好適に用いられる。これら化合物は、一種を単独で使用してもよいし、二種以上を組み合わせて使用してもよい。
これら電荷輸送物質の中でも、特開平１１−１７２００３公報において具体的に例示されている化合物が特に好適に用いられる。

本発明の電子写真感光体においては、上記導電性基体と感光層との間に、通常使用されるような下引き層を設けることができる。この下引き層としては、酸化チタンや酸化アルミニウム、ジルコニア、チタン酸、ジルコン酸、ランタン酸、チタンブラック、シリカ、チタン酸鉛、チタン酸バリウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化珪素などの微粒子、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、カゼイン、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、セルロース、ニトロセルロース、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール樹脂等の成分を使用することができる。また、この下引き層に用いる樹脂として、上記バインダー樹脂を用いてもよいし、本発明に係るポリカーボネート樹脂を用いてもよい。これら微粒子や樹脂は単独または種々混合して用いることができる。これらの混合物として用いる場合には、無機質微粒子と樹脂を併用すると、平滑性の良い皮膜が形成されることから好適である。
この下引き層の厚さは、通常、０．０１〜１０μｍ程度、好ましくは０．０１〜１μｍである。この厚さが０．０１μｍ未満であると、下引き層を均一に形成することが困難となるおそれがある。また１０μｍを超えると電子写真特性の低下を招くおそれがある。

また、上記導電性基体と感光層との間には、通常使用されるような公知のブロッキング層を設けることができる。このブロッキング層としては、上記のバインダー樹脂と同様のものを用いることができる。このブロッキング層の厚さは、通常、０．０１〜２０μｍ程度、好ましくは０．０１〜１０μｍである。この厚さが０．０１μｍ以上であると、ブロッキング層を均一に形成することが容易であり、また２０μｍ以下であると電子写真特性の低下を招くおそれがない。
さらに、本発明の電子写真感光体には、感光層の上に、保護層を積層してもよい。この保護層には、上記のバインダー樹脂と同種の樹脂を用いることができる。また、本発明に係るポリカーボネート樹脂を用いることもできる。この保護層の厚さは、通常０．０１〜２０μｍ程度、好ましくは０．０１〜１０μｍである。そして、この保護層には、上記電荷発生物質、電荷輸送物質、添加剤、金属やその酸化物、窒化物、塩、合金、カーボンブラック、有機導電性化合物などの導電性材料を含有していてもよい。

さらに、この電子写真感光体の性能向上のために、上記電荷発生層および電荷輸送層には、結合剤、可塑剤、硬化触媒、流動性付与剤、ピンホール制御剤、分光感度増感剤（増感染料）を添加してもよい。また、繰り返し使用に対しての残留電位の増加、帯電電位の低下、感度の低下を防止する目的で種々の化学物質、酸化防止剤、界面活性剤、カール防止剤、レベリング剤などの添加剤を添加することができる。
上記結合剤としては、シリコーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリメタクリレート樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリイソプレン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリクロロプレン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、エチルセルロース樹脂、ニトロセルロース樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ホルマール樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂などが挙げられる。また、熱および／または光硬化性樹脂も使用できる。いずれにしても、電気絶縁性で通常の状態で皮膜を形成し得る樹脂であれば特に制限はない。
この結合剤は本発明に係るポリカーボネート樹脂に対して、１〜２００質量％の配合割合で添加することが好ましく、５〜１００質量％がより好ましい。この結合剤の配合割合が１質量％未満であると感光層の皮膜が不均一となるおそれがあり、２００質量％を超えると感度が低下するおそれがある。

上記可塑剤の具体例としては、ビフェニル、塩化ビフェニル、ｏ−ターフェニル、ハロゲン化パラフィン、ジメチルナフタレン、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジエチレングリコールフタレート、トリフェニルホスフェート、ジイソブチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ラウリル酸ブチル、メチルフタリールエチルグリコレート、ジメチルグリコールフタレート、メチルナフタレン、ベンゾフェノン、ポリプロピレン、ポリスチレン、フルオロ炭化水素などが挙げられる。
上記硬化触媒の具体例としては、メタンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ジノニルナフタレンジスルホン酸などが挙げられ、流動性付与剤としては、モダフロー、アクロナール４Ｆなどが挙げられ、ピンホール制御剤としては、ベンゾイン、ジメチルフタレートが挙げられる。
これら可塑剤や硬化触媒、流動性付与剤、ピンホール制御剤は、上記電荷輸送物質に対して、５質量％以下で用いることが好ましい。
また、分光感度増感剤としては、増感染料を用いる場合には、例えばメチルバイオレット、クリスタルバイオレット、ナイトブルー、ビクトリアブルーなどのトリフェニルメタン系染料、エリスロシン、ローダミンＢ、ローダミン３Ｒ、アクリジンオレンジ、フラペオシンなどのアクリジン染料、メチレンブルー、メチレングリーンなどのチアジン染料、カプリブルー、メルドラブルーなどのオキサジン染料、シアニン染料、メロシアニン染料、スチリル染料、ピリリウム塩染料、チオピリリウム塩染料などが適している。

感光層には、感度の向上、残留電位の減少、反復使用時の疲労低減などの目的で、電子受容物質を添加することができる。その具体例としては、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロモ無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、テトラブロモ無水フタル酸、３−ニトロ無水フタル酸、４−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、１，３，５−トリニトロベンゼン、ｐ−ニトロベンゾニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロラニル、ブロマニル、ベンゾキノン、２，３−ジクロロベンゾキノン、ジクロロジシアノパラベンゾキノン、ナフトキノン、ジフェノキノン、トロポキノン、アントラキノン、１−クロロアントラキノン、ジニトロアントラキノン、４−ニトロベンゾフェノン、４，４’−ジニトロベンゾフェノン、４−ニトロベンザルマロンジニトリル、α−シアノ−β−（ｐ−シアノフェニル）アクリル酸エチル、９−アントラセニルメチルマロンジニトリル、１−シアノ−（ｐ−ニトロフェニル）−２−（ｐ−クロロフェニル）エチレン、２，７−ジニトロフルオレノン、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロフルオレノン、９−フルオレニリデン−（ジシアノメチレンマロノニトリル）、ポリニトロ−９−フルオレニリデン−（ジシアノメチレンマロノジニトリル）、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、３，５−ジニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、５−ニトロサリチル酸、３，５−ジニトロサリチル酸、フタル酸、メリット酸などの電子親和力の大きい化合物が好ましい。これらの化合物は、電荷発生層、電荷輸送層のいずれかに加えてもよく、その配合割合は電荷発生物質または電荷輸送物質に対して、通常０．０１〜２００質量％程度、好ましくは０．１〜５０質量％である。

また、表面性改良のため、四フッ化エチレン樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、四フッ化エチレン六フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、二フッ化二塩化エチレン樹脂およびそれらの共重合体、フッ素系グラフトポリマーを用いてもよい。これらの表面改質剤の配合割合は、上記バインダー樹脂に対して、通常０．１〜６０質量％程度、好ましくは２〜４０質量％である。この配合割合が０．１質量％未満であると、表面耐久性、表面エネルギー低下などの表面改質が不充分となるおそれがあり、６０質量％を超えると、電子写真特性の低下を招くおそれがある。
上記酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、芳香族アミン系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、スルフィド系酸化防止剤、有機りん系酸化防止剤などが好ましい。これら酸化防止剤の配合割合は、上記電荷輸送物質に対して、通常０．０１〜１０質量％程度、好ましくは、０．１〜５質量％である。
ヒンダードフェノール系の酸化防止剤、芳香族アミン系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、スルフィド系酸化防止剤、有機りん系酸化防止剤の具体的な例としては、特開平１１−１７２００３号公報に記載されているものがある。

これら酸化防止剤は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。そして、これらは上記感光層の他、表面保護層や下引き層、ブロッキング層に添加してもよい。
上記電荷発生層、電荷輸送層の形成に使用する溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、アニソール等の芳香族系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、酢酸エチル、エチルセルソルブ等のエステル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン等のハロゲン系炭化水素、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等を挙げることができる。これらの溶媒は、一種を単独で使用しても、二種以上を混合溶媒として用いてもよい。
上記電荷輸送層を形成する方法としては、上記電荷輸送物質、添加剤、バインダー樹脂として用いるポリカーボネート樹脂を溶媒に分散または溶解させてなる塗工液を調製し、これを所定の下地となる例えば上記電荷発生層の上に塗工し、上記ポリカーボネート樹脂がバインダー樹脂として電荷輸送物質と共存する形態の電荷輸送層を形成する。

上記塗工液を調製する方法としては、上記の調合原料をボールミル、超音波、ペイントシェーカー、レッドデビル、サンドミル、ミキサー、アトライターなどを用いて、分散あるいは溶解させることができる。このようにして得られた塗工液を塗工する方法については、浸漬塗工法、静電塗工法、粉体塗工法、スプレー塗工法、ロール塗工法、アプリケーター塗工法、スプレーコーター塗工法、バーコーター塗工法、ロールコーター塗工法、ディップコーター塗工法、ドクターブレード塗工法、ワイヤーバー塗工法、ナイフコーター塗工法、アトライター塗工法、スピナー塗工法、ビード塗工法、ブレード塗工法、カーテン塗工法などが採用できる。
また、単層型電子写真感光体の感光層は、上記のポリカーボネート樹脂、電荷発生物質、添加剤、所望により電荷輸送物質や他のバインダー樹脂などを用いて形成される。この場合の塗工液の調製やその塗工法、添加剤の処方などに関しては、積層型電子写真感光体の感光層の形成の場合と同様である。さらに、この単層型電子写真感光体においても、上記と同様に下引き層、ブロッキング層、表面保護層を設けてもよい。これら層を形成する場合にも、本発明に係るポリカーボネート樹脂を用いることが好ましい。

単層型電子写真感光体における感光層の厚さは、通常５〜１００μｍ程度、好ましくは８〜５０μｍである。この厚さが５μｍ未満であると初期電位が低くなるおそれがあり、１００μｍを超えると電子写真特性の低下を招くおそれがある。
この単層型電子写真感光体の製造に用いられる電荷発生物質：ポリカーボネート樹脂（バインダー）の比率は、質量比で、通常１：９９〜３０：７０程度、好ましくは３：９７〜１５：８５である。また、電荷輸送物質を添加する場合は、電荷輸送物質：ポリカーボネート樹脂の比率は、質量比で、通常５：９５〜８０：２０程度、好ましくは、１０：９０〜６０：４０である。

このようにして得られる本発明の電子写真感光体は、優れた耐摩耗性を有し、長期間に亘って優れた耐刷性および電子写真特性を維持する感光体であり、複写機（モノクロ、マルチカラー、フルカラー；アナログ、デジタル）、プリンター（レーザー、ＬＥＤ、液晶シャッター）、ファクシミリ、製版機などの各種の電子写真分野に好適に用いられる。
また、本発明の電子写真感光体を使用するにあたっては、帯電には、コロナ放電（コロトロン、スコロトロン）、接触帯電（帯電ロール、帯電ブラシ）、注入帯電などが用いられる。また、露光には、ハロゲンランプや蛍光ランプ、レーザー（半導体、Ｈｅ−Ｎｅ）、ＬＥＤ、感光体内部露光方式のいずれを採用してもよい。現像には、カスケード現像、二成分磁気ブラシ現像、一成分絶縁トナー現像、一成分導電トナー現像などの乾式現像方式や液体トナーなどを用いた湿式現像方式が用いられる。転写には、コロナ転写、ローラ転写、ベルト転写などの静電転写法や、圧力転写法、粘着転写法が用いられる。定着には、熱ローラ定着、ラジアントフラッシュ定着、オープン定着、圧力定着などが用いられる。さらに、クリーニング・除電にはブラシクリーナー、磁気ブラシクリーナー、磁気ローラクリーナー、ブレードクリーナー等が用いられる。

次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。
［実施例１］
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ；ビスＡ）７４質量部を６質量％濃度の水酸化ナトリウム水溶液５８５質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン３３４質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを４．２質量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンポリカーボネートオリゴマー（以下、ビスＡオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
上記ビスＡオリゴマーの塩化メチレン溶液２００ｍｌに下記式

で表されるビスフェノール化合物［一般式（４）において、Ｒがメチル基、ｎ１＝３、ｎ２＝３９の化合物；シロキサンモノマー（１）］０．９ｇと塩化メチレンを加えて全量を４５０ｍｌとした後、４，４’−ビフェノール１２．５ｇと、１２．２質量％濃度の水酸化カリウム水溶液１５０ｍｌを混合し、分子量調節剤であるｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．７ｇを加えた。次いで、この混合液を激しく攪拌しながら、触媒として７質量％濃度のトリエチルアミン水溶液を２ｍｌ加え、２８℃において攪拌下で１．５時間反応を行った。反応終了後、反応生成物を塩化メチレン１Ｌで希釈し、次いで水１．５Ｌで２回、０．０１規定塩酸１Ｌで１回、水１Ｌで２回の順で洗浄し、有機層をメタノール中に投入し、析出したポリマーをろ過し、乾燥させて、共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１）を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／Ｃ］が０．８５ｄｌ／ｇであった。還元粘度の測定は、離合社製、自動粘度測定装置ＶＭＲ−０４２を用い、自動粘度用ウッベローデ改良型粘度計（ＲＭ型）で測定した。得られた共重合ポリカーボネート（ＰＣ−１）の構造および共重合組成は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。
ビスＡ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位と、４，４’−ビフェノール由来の繰り返し単位のモル比は、８５：０．１：１５であった。また、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位の含有量は０．９８質量％であった。

さらに、下記に示す方法で電子写真感光体を作製し、その性能を評価した。
導電性基体としてアルミニウム金属を蒸着したポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用い、その表面に、電荷発生層と電荷輸送層を順次積層して積層型感光層を形成した電子写真感光体を製造した。
電荷発生物質としてオキソチタニウムフタロシアニン０．５質量部を用い、バインダー樹脂としてブチラール樹脂０．５質量部を用いた。これらを溶媒の塩化メチレン１９質量部に加え、ボールミルにて分散し、この分散液をバーコーターにより、上記導電性基体フィルム表面に塗工し、乾燥させることにより、膜厚約０．５μｍの電荷発生層を形成した。
次に、電荷輸送物質として、下記化合物（ＣＴＭ−１）

０．５ｇと上記共重合ポリカーボネート樹脂０．５ｇを１０ミリリットルのテトラヒドロフランに溶解し、塗工液を調製した。この塗工液をアプリケーターにより、上記電荷発生層の上に塗布し、乾燥させ、膜厚約２０μｍの電荷輸送層を形成した。
次いで、電子写真特性は静電気帯電試験装置ＥＰＡ−８１００（川口電機製作所社製）を用いて測定した。−６ｋＶのコロナ放電を行い、初期表面電位（Ｖ０），光照射（１０Ｌｕｘ) ５秒後の残留電位（ＶＲ），半減露光量（Ｅ１／２)を測定した。さらに、この電荷輸送層の耐摩耗性をスガ摩耗試験機ＮＵＳ−ＩＳＯ−３型（スガ試験機社製）を用いて評価した。試験条件は４．９Ｎの荷重をかけた摩耗紙（粒径３μｍのアルミナ粒子を含有）を感光層表面と接触させて２，０００回往復運動を行い、質量減少量を測定した。さらに、耐摩耗性を評価したのと同様の試料を用いて動摩擦係数を測定した。測定には、表面性試験機（ヘイドン社製）を用い、荷重は４．９Ｎ、摩擦体としては、ステンレス鋼製の球を用いた。これらの測定結果を第１表に示す。

［実施例２］
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスフェノールＺ；ビスＺ）８７質量部を９．４質量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン３３４質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを４．２質量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンポリカーボネートオリゴマー（以下、ビスＺオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例１において、ビスＡオリゴマーの代わりにビスＺオリゴマーを用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−２）を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／Ｃ］が０．９４ｄｌ／ｇであった。得られた共重合ポリカーボネート（ＰＣ−２）の構造および共重合組成は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。
ビスＺ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位と、４，４’−ビフェノール由来の繰り返し単位のモル比は、８０：０．１：２０であった。また、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位の含有量は０．８８質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート樹脂を用い、実施例１と同様の評価を行った。その結果を第１表に示す。

［参考例１］
２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＣ；ビスＣ）８３質量部を９．４質量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン３３４質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを４．２質量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパンポリカーボネートオリゴマー（以下、ビスＣオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例１において、ビスＡオリゴマーの代わりにビスＣオリゴマーを用い、４，４’−ビフェノール１２．５ｇの代わりに１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン１９．４ｇを用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−３）を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／Ｃ］が０．８０ｄｌ／ｇであった。得られた共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−３）の構造および共重合組成は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。
ビスＣ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位と、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン由来の繰り返し単位のモル比は、８０：０．１：２０であった。また、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位の含有量は０．８０質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート樹脂を用い、実施例１と同様の評価を行った。その結果を第１表に示す。

［参考例２］
１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスフェノールＣＨＺ；ビスＣＨＺ）１４０質量部を９．４質量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン３３４質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを４．２質量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンポリカーボネートオリゴマー（以下、ビスＣＨＺオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例１において、ビスＡオリゴマーの代わりにビスＣＨＺオリゴマーを用い、４，４’−ビフェノール１２．５ｇの代わりにビスフェノールＣＨＺ ２８．９ｇを用いたた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−４）を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／Ｃ］が０．８２ｄｌ／ｇであった。得られた共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−４）の構造および共重合組成は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。
ビスＣＨＺ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位のモル比は、１００：０．１であった。また、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位の含有量は０．６０質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート樹脂を用い、実施例１と同様の評価を行った。その結果を第１表に示す。

［参考例３］
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン（２，２−アダマンタンビスフェノール；ビス２２Ａｄ）１０４質量部を９．４質量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン３３４質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを４．２質量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタンポリカーボネートオリゴマー（以下、ビス２２Ａｄオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例１において、ビスＡオリゴマーの代わりにビス２２Ａｄオリゴマーを用い、４，４’−ビフェノール１２．５ｇの代わりに９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン２５．３ｇを用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−５）を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／Ｃ］が０．９７ｄｌ／ｇであった。得られた共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−５）の構造および共重合組成は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。
ビス２２Ａｄ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位と、９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン由来の繰り返し単位のモル比は、８５：０．１：１５であった。また、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位の含有量は０．６４質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート樹脂を用い、実施例１と同様の評価を行った。その結果を第１表に示す。

［実施例３］
１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスフェノールＣＺ；ビスＣＺ）９６質量部を９．４質量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン３３４質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを４．２質量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンポリカーボネートオリゴマー（以下、ビスＣＺオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例１において、ビスＡオリゴマーの代わりにビスＣＺオリゴマーを用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−６）を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／Ｃ］が０．８６ｄｌ／ｇであった。得られた共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−６）の構造および共重合組成は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。
ビスＣＺ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位と、４，４’−ビフェノール由来の繰り返し単位のモル比は、７８：０．１：２２であった。また、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位の含有量は０．８２質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート樹脂を用い、実施例１と同様の評価を行った。その結果を第１表に示す。

［参考例４］
特開平９−６８８１７号公報に記載の合成例１の方法で合成した下記式

で表される二種のテルペンビスフェノールの混合物（テルペンビスフェノール；ビスＴＰＰ）１０５質量部を９．４質量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７質量部に溶解した溶液と塩化メチレン３３４質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを４．２質量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基であるテルペンビスフェノールポリカーボネートオリゴマー（以下、ビスＴＰＰオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例１において、ビスＡオリゴマーの代わりにビスＴＰＰオリゴマーを用い、４，４’−ビフェノール１２．５ｇの代わりに、上記と同様のテルペンビスフェノール２１．７ｇを用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−７）を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／Ｃ］が０．９０ｄｌ／ｇであった。得られた共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−７）の構造および共重合組成は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。
ビスＴＰＰ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位のモル比は、１００：０．１であった。また、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位の含有量は０．８０質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート樹脂を用い、実施例１と同様の評価を行った。その結果を第１表に示す。

［参考例５］
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（トリメチルシクロヘキシルビスフェノール；ビスＩ）１０１質量部を９．４質量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン３３４質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを４．２質量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンポリカーボネートオリゴマー（以下、ビスＩオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例１において、ビスＡオリゴマーの代わりにビスＩオリゴマーを用い、４，４’−ビフェノール１２．５ｇの代わりにビスフェノールＡ１５．３ｇを用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−８）を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／Ｃ］が０．９４ｄｌ／ｇであった。得られた共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−８）の構造および共重合組成は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。
ビスＩ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位と、ビスＡ由来の繰り返し単位のモル比は、８５：０．１：１５であった。また、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位の含有量は０．７４質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート樹脂を用い、実施例１と同様の評価を行った。その結果を第１表に示す。

［実施例４］
４，４’−［１，４−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスフェノール（ＢｉｓＰＰ）１１２質量部を９．４質量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン３３４質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを４．２質量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である４，４’−［１，４−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスフェノールポリカーボネートオリゴマー（以下、ＢｉｓＰＰオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例１において、ビスＡオリゴマーの代わりにＢｉｓＰＰオリゴマーを用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−９）を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／Ｃ］が０．７９ｄｌ／ｇであった。得られた共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−９）の構造は１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。
ＢｉｓＰＰ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位と、４，４’−ビフェノール由来の繰り返し単位のモル比は、８０：０．１：２０であった。また、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位の含有量は０．７２質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート樹脂を用い、実施例１と同様の評価を行った。その結果を第１表に示す。

［参考例６］
ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）スルホン（ＴＢＳ）１７７質量部を９．４質量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン３３４質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを４．２質量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基であるビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）スルホンポリカーボネートオリゴマー（以下、ＴＢＳオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例１において、ビスＡオリゴマーの代わりにＴＢＳオリゴマーを用い、４，４’−ビフェノール１２．５ｇの代わりに１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン２３．６ｇを用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１０）を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／Ｃ］が０．８８ｄｌ／ｇであった。得られた共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１０）の構造および共重合組成は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。
ＴＢＳ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位と、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン由来の繰り返し単位のモル比は、８５：０．１：１５であった。また、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位の含有量は０．４２質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート樹脂を用い、実施例１と同様の評価を行った。その結果を第１表に示す。

［参考例７］
実施例２で用いたものと同様の１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスＺ）５４質量部、９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（ＦＬＣ）４７質量部を９．４質量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン３３４質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを４．２質量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレンポリカーボネートオリゴマー（以下、Ｚ−ＦＬＣオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例１において、ビスＡオリゴマーの代わりにＺ−ＦＬＣオリゴマーを用い、４，４’−ビフェノール１２．５ｇの代わりにＦＬＣ２５．３ｇを用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１１）を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／Ｃ］が０．８１ｄｌ／ｇであった。得られた共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１１）の構造は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。
ビスＺ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位と、ＦＬＣ由来の繰り返し単位のモル比は、５０：０．１：５０であった。また、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位の含有量は０．６６質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート樹脂を用い、実施例１と同様の評価を行った。その結果を第１表に示す。

［実施例５］
実施例２で用いたものと同様の１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスＺ）５４質量部、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル（ＤＨＥ）２５質量部を９．４質量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン３３４質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを４．２質量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテルポリカーボネートオリゴマー（以下、Ｚ−ＤＨＥオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例１において、ビスＡオリゴマーの代わりにＺ−ＤＨＥオリゴマーを用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１２）を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／Ｃ］が０．９３ｄｌ／ｇであった。得られた共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１２）の構造は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。
ビスＺ由来の繰り返し単位と、ＤＨＥ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位と、４，４’−ビフェノール由来の繰り返し単位のモル比は、５０：３５：０．１：１５であった。また、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位の含有量は０．８１質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート樹脂を用い、実施例１と同様の評価を行った。その結果を第１表に示す。

［参考例８］
実施例２で用いたものと同様の１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスＺ）５４質量部、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン（ＤＨＫ）２７質量部を９．４質量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン３３４質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを４．２質量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノンポリカーボネートオリゴマー（以下、Ｚ−ＤＨＫオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例１において、ビスＡオリゴマーの代わりにＺ−ＤＨＫオリゴマーを用い、４，４’−ビフェノール１２．５ｇの代わりにＤＨＫ１４．３ｇを用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１３）を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／Ｃ］が０．８８ｄｌ／ｇであった。得られた共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１３）の構造は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。
ビスＺ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位と、ＤＨＫ由来の繰り返し単位のモル比は、５０：０．１：５０であった。また、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位の含有量は０．８９質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート樹脂を用い、実施例１と同様の評価を行った。その結果を第１表に示す。

［実施例６］
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（ビスフェノールＥ；ビスＥ）６９質量部を９．４質量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン３３４質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを４．２質量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタンポリカーボネートオリゴマー（以下、ビスＥオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例１において、ビスＡオリゴマーの代わりにビスＥオリゴマーを用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１４）を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／Ｃ］が０．９４ｄｌ／ｇであった。得られた共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１４）の構造は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。
ビスＥ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位と、４，４’−ビフェノール由来の繰り返し単位のモル比は、８５：０．１：１５であった。また、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位の含有量は１．０７質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート樹脂を用い、実施例１と同様の評価を行った。その結果を第１表に示す。

［実施例７］
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン（ビスフェノールＢ；ビスＢ）７９質量部を９．４質量％濃度の水酸化カリウム水溶液６０７質量部に溶解した溶液と、塩化メチレン３３４質量部とを混合して攪拌しながら、冷却下、この溶液中にホスゲンガスを４．２質量部／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４であり、分子末端がクロロホーメート基である２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタンポリカーボネートオリゴマー（以下、ビスＢオリゴマーと記載する。）の塩化メチレン溶液を得た。
次に、実施例１において、ビスＡオリゴマーの代わりにビスＢオリゴマーを用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１５）を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／Ｃ］が０．８６ｄｌ／ｇであった。得られた共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１５）の構造は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。
ビスＢ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位と、４，４’−ビフェノール由来の繰り返し単位のモル比は、８０：０．１：２０であった。また、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位の含有量は０．９７質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート樹脂を用い、実施例１と同様の評価を行った。その結果を第１表に示す。

［参考例９］
実施例１において、ビスＡオリゴマーの代わりに、実施例２で用いたものと同様のビスＺオリゴマーを用い、４，４’−ビフェノール１２．５ｇの代わりビスフェノールＺ１８．０ｇを用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１６）を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／Ｃ］が０．８８ｄｌ／ｇであった。得られた共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１６）の構造および共重合組成は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。
ビスＺ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位のモル比は、１００：０．１であった。また、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位の含有量は０．９６質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート樹脂を用い、実施例１と同様の評価を行った。その結果を第１表に示す。

［参考例１０］
実施例１において、ビスＡオリゴマーの代わりに、実施例２で用いたものと同様のビスＺオリゴマーを用い、４，４’−ビフェノール１２．５ｇの代わりに３，３’−ジメチル−４，４’−ジヒドロキシビフェニル１４．３ｇを用いた以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１７）を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／Ｃ］が０．８２ｄｌ／ｇであった。得られた共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１７）の構造および共重合組成は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。
ビスＺ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位と、３，３’−ジメチル−４，４’−ジヒドロキシビフェニル由来の繰り返し単位のモル比は、８５：０．１：１５であった。また、シロキサンモノマー（１）由来の繰り返し単位の含有量は０．８４質量％であった。
得られた共重合ポリカーボネート樹脂を用い、実施例１と同様の評価を行った。その結果を第１表に示す。

［比較例１］
実施例１において、シロキサンモノマー（１）を下記式

で表されるシロキサンモノマー（２）に変更した以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−Ａ）を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／ｃ］が０．８４ｄｌ／ｇであった。得られた共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−Ａ）の構造は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。
ビスＡ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（２）由来の繰り返し単位と、４，４’−ビフェノール由来の繰り返し単位のモル比は、８５：０．１：１５であった。
得られたポリカーボネート樹脂を用い、実施例１と同様の評価を行った。その結果を第１表に示す。

［比較例２］
実施例１６において、シロキサンモノマー（１）をシロキサンモノマー（２）に変更した以外は同様の方法で共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−Ｂ）を得た。
このようにして得られた共重合ポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／ｃ］が０．８８ｄｌ／ｇであった。得られた共重合ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−Ｂ）の構造は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより決定した。
ビスＺ由来の繰り返し単位と、シロキサンモノマー（２）由来の繰り返し単位のモル比は、１００：０．１であった。
得られた共重合ポリカーボネート樹脂を用い、実施例１と同様の評価を行った。その結果を第１表に示す。

［比較例３］
実施例１６において、シロキサンモノマー（１）を使用しなかった以外は同様の方法でビスフェノールＺのポリカーボネート樹脂（ＰＣ−Ｃ）を得た。
このようにして得られたポリカーボネート樹脂は、の塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／ｃ］が０．８９ｄｌ／ｇであった。得られたポリカーボネート樹脂（ＰＣ−Ｃ）の構造は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより確認した。
得られたポリカーボネート樹脂を用い、実施例１と同様の評価を行った。その結果を第１表に示す。

（注）
表面電位：−７４０〜−７７０Ｖの範囲であった場合を○、それ以外を×とした。
残留電位：０〜−５Ｖを○、それ以外を×とした。
感度：０．８５Ｌｕｘ・ｓｅｃ以下の値を○、それ以外を×とした。

本発明のポリカーボネート樹脂は、電子写真感光体の感光層を形成する樹脂として好適である。このポリカーボネート樹脂を用いた本発明の電子写真感光体は、クリーニング性、滑り性および耐摩耗性が良好な感光体であり、複写機（モノクロ、マルチカラー、フルカラー；アナログ、デジタル）、プリンター（レーザー、ＬＥＤ、液晶シャッター）、ファクシミリ、製版機などの各種の電子写真分野に好適に用いられる。

Claims (2)

1. 下記一般式（１）
   

   

   （式中、Ｒは炭素数１〜３のアルキル基を示す。ｎ１は２〜４の整数であり、ｎ２は１〜２００の整数である。）
   で表される繰り返し単位と、（ａ）下記一般式（２）で表され、一般式（３）におけるＸが単結合である繰り返し単位と、（ｂ）下記一般式（２）で表され、一般式（３）におけるＸが単結合以外である繰り返し単位とを有し、かつ、ポリカーボネート樹脂全体に占める一般式（１）で表される繰り返し単位の割合が０．０１〜３．９質量％であることを特徴とするポリカーボネート樹脂。
   

   

   （式中、Ａｒは下記一般式（３）で表される二価の芳香族基を示す。）
   

   

   ［式中、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に、水素原子、トリフルオロメチル基，ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基および炭素数６〜１２のアリールオキシ基から選ばれる基を示す。Ｘは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−ＣＲ³Ｒ⁴−（ただし、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立に、水素原子、トリフルオロメチル基、置換または無置換の炭素数１〜１０のアルキル基、および置換または無置換の炭素数６〜１２のアリール基から選ばれる基を示す。）、置換または無置換の炭素数５〜１１のシクロアルキリデン基、置換または無置換の炭素数２〜１２のα,ω−アルキレン基、置換または無置換の９，９−フルオレニリデン基、置換または無置換の炭素数６〜１２のアリーレン基、下記一般式
   

   

   （式中、Ｒ⁵〜Ｒ⁷は、Ｒ¹およびＲ²と同様の基を示す。）
   で表される天然テルペン類から誘導される二価の基、ならびに下記一般式
   

   

   （式中、Ｒ⁸〜Ｒ¹¹は、Ｒ¹およびＲ²と同様の基を示す。）
   で表される炭素数８〜１６のアルキリデンアリーレンアルキリデン基から選ばれる基を示す。］
2. 一般式（３）におけるＸが−ＣＲ³Ｒ⁴−、単結合、置換または無置換の炭素数５〜１１シクロアルキリデン基および置換または無置換の９，９−フルオレニリデン基から選ばれる基である請求項１に記載のポリカーボネート樹脂。