JP2002030140A - ポリカーボネート樹脂及びその製造方法 - Google Patents
ポリカーボネート樹脂及びその製造方法Info
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- JP2002030140A JP2002030140A JP2001172219A JP2001172219A JP2002030140A JP 2002030140 A JP2002030140 A JP 2002030140A JP 2001172219 A JP2001172219 A JP 2001172219A JP 2001172219 A JP2001172219 A JP 2001172219A JP 2002030140 A JP2002030140 A JP 2002030140A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 加工性の優れたポリカーボネート樹脂を提供
する。 【解決手段】 9,9-ビス（4-ヒドロキシ−3-メチルフェ
ニル）フルオレン（以下BCFLと省略）及び一般式（Ａ）
で表される構造のビスフェノール化合物と炭酸エステル
形成化合物とを反応させて得られるポリカーボネートで
あって、一般式（Ａ）がBCFL及び一般式（Ａ）の合計量
に対して、１０〜８０重量％であり、かつ得られたポリ
カーボネートの極限粘度が０．２〜２．０dl/gであるポ
リカーボネート樹脂。 上記一般式（Ａ）のポリシロキサン構造を有するビスフ
ェノール化合物としては、具体的には下記構造式で示さ
れる化合物などが例示される。
する。 【解決手段】 9,9-ビス（4-ヒドロキシ−3-メチルフェ
ニル）フルオレン（以下BCFLと省略）及び一般式（Ａ）
で表される構造のビスフェノール化合物と炭酸エステル
形成化合物とを反応させて得られるポリカーボネートで
あって、一般式（Ａ）がBCFL及び一般式（Ａ）の合計量
に対して、１０〜８０重量％であり、かつ得られたポリ
カーボネートの極限粘度が０．２〜２．０dl/gであるポ
リカーボネート樹脂。 上記一般式（Ａ）のポリシロキサン構造を有するビスフ
ェノール化合物としては、具体的には下記構造式で示さ
れる化合物などが例示される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医療用機器部品、
食器、光ディスク、近接場光記録媒体用カバー層、光学
フィルム、光学シート、光学レンズ、メガネレンズ、光
ファイバー、導光板、光導波路、光学フィルターなどの
光学用部材、および電子写真感光体、トナー転写ベル
ト、染顔料バインダー、ガス透過膜、玩具、窓・建築部
材、安全保護具部材、ＯＡ機器・携帯電話等各種部材や
筐体などの用途に好適に使用できる加工性に優れたポリ
カーボネート樹脂に関する。
食器、光ディスク、近接場光記録媒体用カバー層、光学
フィルム、光学シート、光学レンズ、メガネレンズ、光
ファイバー、導光板、光導波路、光学フィルターなどの
光学用部材、および電子写真感光体、トナー転写ベル
ト、染顔料バインダー、ガス透過膜、玩具、窓・建築部
材、安全保護具部材、ＯＡ機器・携帯電話等各種部材や
筐体などの用途に好適に使用できる加工性に優れたポリ
カーボネート樹脂に関する。
【０００２】
【従来の技術】2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロ
パンに炭酸エステル形成化合物を反応させて得られるポ
リカーボネート（ビスフェノールＡ型ポリカーボネー
ト）は透明性、耐熱性、機械的特性、寸法安定性が優れ
ており、エンジニアリングプラスチックとして広く利用
されている。また、近年はこのビスフェノールＡ型ポリ
カーボネート以外にも様々なビスフェノール骨格を有す
るポリカーボネートが提案されており、電子写真や光デ
ィスク、耐熱性フィルム、偏光フィルム、食器類などに
応用されている。
パンに炭酸エステル形成化合物を反応させて得られるポ
リカーボネート（ビスフェノールＡ型ポリカーボネー
ト）は透明性、耐熱性、機械的特性、寸法安定性が優れ
ており、エンジニアリングプラスチックとして広く利用
されている。また、近年はこのビスフェノールＡ型ポリ
カーボネート以外にも様々なビスフェノール骨格を有す
るポリカーボネートが提案されており、電子写真や光デ
ィスク、耐熱性フィルム、偏光フィルム、食器類などに
応用されている。
【０００３】フルオレン骨格を有するポリカーボネート
は、従来からその光学特性を利用して、光記録媒体や位
相差フィルム、液晶パネルやレンズ用途に利用されてお
り、特開平6-145317号、特開平6-25398 号、特開平6-21
6078号、特開平6-322094号、特開平8-134199号に開示さ
れている。また、電子写真用途、キャストフィルム用途
として特開平6-3838号、特開平8-134198号がある。さら
に、電子レンジ対応の高耐熱性食器用途として特開平6-
49195 号などがある。
は、従来からその光学特性を利用して、光記録媒体や位
相差フィルム、液晶パネルやレンズ用途に利用されてお
り、特開平6-145317号、特開平6-25398 号、特開平6-21
6078号、特開平6-322094号、特開平8-134199号に開示さ
れている。また、電子写真用途、キャストフィルム用途
として特開平6-3838号、特開平8-134198号がある。さら
に、電子レンジ対応の高耐熱性食器用途として特開平6-
49195 号などがある。
【０００４】しかし、フルオレン骨格を有するビスフェ
ノールは剛直な構造を有するため加工性が悪く、加工性
を改善するためにソフトセグメントを導入する必要があ
った。
ノールは剛直な構造を有するため加工性が悪く、加工性
を改善するためにソフトセグメントを導入する必要があ
った。
【０００５】一方、ポリシロキサン骨格を有するポリカ
ーボネートは、例えば特開平3-79626 号や特許公報第26
62310 号などに開示されていた。
ーボネートは、例えば特開平3-79626 号や特許公報第26
62310 号などに開示されていた。
【０００６】さらに、ポリシロキサン構造とフルオレン
構造を有するポリカーボネート自体は特開昭48-64199号
や特開平6-220181号に開示されている。しかしながら、
これらのポリカーボネート樹脂も加工性が十分ではな
く、加工性について改善の余地があった。
構造を有するポリカーボネート自体は特開昭48-64199号
や特開平6-220181号に開示されている。しかしながら、
これらのポリカーボネート樹脂も加工性が十分ではな
く、加工性について改善の余地があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、加工性の優れたポリカーボネート樹脂を提供するこ
とにある。
は、加工性の優れたポリカーボネート樹脂を提供するこ
とにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来の課
題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定のフルオレ
ン構造を有するビスフェノール化合物と特定のポリシロ
キサン構造を有するビスフェノール化合物から得られた
ポリカーボネート樹脂が、良好な加工性を有することを
見い出し、本発明に至った。
題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定のフルオレ
ン構造を有するビスフェノール化合物と特定のポリシロ
キサン構造を有するビスフェノール化合物から得られた
ポリカーボネート樹脂が、良好な加工性を有することを
見い出し、本発明に至った。
【０００９】
【発明の実施の形態】即ち、本発明は、9,9-ビス（4-ヒ
ドロキシ-3- メチルフェニル）フルオレン（以下BCFLと
略称）および一般式（Ａ）で表される構造のビスフェノ
ール化合物と炭酸エステル形成化合物とを反応させて得
られるポリカーボネートであって、一般式（Ａ）がBCFL
および一般式（Ａ）の合計量に対して、１０〜８０重量
％であり、かつ得られたポリカーボネートの極限粘度が
０．２〜２．０dl/gであるポリカーボネート樹脂であ
る。
ドロキシ-3- メチルフェニル）フルオレン（以下BCFLと
略称）および一般式（Ａ）で表される構造のビスフェノ
ール化合物と炭酸エステル形成化合物とを反応させて得
られるポリカーボネートであって、一般式（Ａ）がBCFL
および一般式（Ａ）の合計量に対して、１０〜８０重量
％であり、かつ得られたポリカーボネートの極限粘度が
０．２〜２．０dl/gであるポリカーボネート樹脂であ
る。
【００１０】
【化２】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ2 は、各々独立して水素、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数
６〜１２のアリール基、炭素数２〜５のアルケニル基、
炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数７〜１７のア
ラルキル基であり、これらの基に炭素原子を有する場合
には置換基として、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数
２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、
フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を有することもできる。
Ｒ3 〜Ｒ6 は、各々独立して炭素数１〜５のアルキル
基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜５のアル
ケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数７
〜１７のアラルキル基であり、これらの基に炭素原子を
有する場合には置換基として、炭素数１〜５のアルキル
基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアル
コキシ基、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を有すること
もできる。Ｒ7 は、炭素数１〜６のアルキレン基又はア
ルキリデン基を表すか単に結合を表す。Ｘは、−Ｓｉ
（Ｒ8 ）（Ｒ9 ）Ｏ−及び／または−Ｓｉ（Ｒ10）（Ｒ
11）Ｏ−の単独重合又はランダム共重合体を表し、重合
度は０から２００であり、Ｒ8 〜Ｒ11は、各々独立して
水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、炭素数１〜５のア
ルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜５
のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭
素数７〜１７のアラルキル基であり、これらの基に炭素
原子を有する場合には置換基として、炭素数１〜５のア
ルキル基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５
のアルコキシ基、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を有す
ることもできる。）
素、臭素、ヨウ素、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数
６〜１２のアリール基、炭素数２〜５のアルケニル基、
炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数７〜１７のア
ラルキル基であり、これらの基に炭素原子を有する場合
には置換基として、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数
２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、
フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を有することもできる。
Ｒ3 〜Ｒ6 は、各々独立して炭素数１〜５のアルキル
基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜５のアル
ケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数７
〜１７のアラルキル基であり、これらの基に炭素原子を
有する場合には置換基として、炭素数１〜５のアルキル
基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアル
コキシ基、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を有すること
もできる。Ｒ7 は、炭素数１〜６のアルキレン基又はア
ルキリデン基を表すか単に結合を表す。Ｘは、−Ｓｉ
（Ｒ8 ）（Ｒ9 ）Ｏ−及び／または−Ｓｉ（Ｒ10）（Ｒ
11）Ｏ−の単独重合又はランダム共重合体を表し、重合
度は０から２００であり、Ｒ8 〜Ｒ11は、各々独立して
水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、炭素数１〜５のア
ルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜５
のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭
素数７〜１７のアラルキル基であり、これらの基に炭素
原子を有する場合には置換基として、炭素数１〜５のア
ルキル基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５
のアルコキシ基、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を有す
ることもできる。）
【００１１】本発明のポリカーボネートは、ビスフェノ
ールＡと炭酸エステル形成化合物からポリカーボネート
を製造する際に用いられている公知の方法、例えばビス
フェノール類とホスゲンとの直接反応（ホスゲン法）、
あるいはビスフェノール類とビスアリールカーボネート
とのエステル交換反応（エステル交換法）などの方法を
採用することができる。
ールＡと炭酸エステル形成化合物からポリカーボネート
を製造する際に用いられている公知の方法、例えばビス
フェノール類とホスゲンとの直接反応（ホスゲン法）、
あるいはビスフェノール類とビスアリールカーボネート
とのエステル交換反応（エステル交換法）などの方法を
採用することができる。
【００１２】本発明において、ホスゲン法を採用する場
合は、過剰のホスゲンと前記BCFLを反応させた後、前記
一般式（Ａ）のビスフェノール化合物を反応させる方法
でも、ホスゲン法と前記BCFLと一般式（Ａ）のビスフェ
ノール化合物を同時に反応させる方法を用いてもよい。
本発明において、エステル交換法を用いる場合には、ジ
アリールカーボネートと前記BCFLと一般式（Ａ）のビス
フェノール化合物を同時に反応させる方法が好ましい。
合は、過剰のホスゲンと前記BCFLを反応させた後、前記
一般式（Ａ）のビスフェノール化合物を反応させる方法
でも、ホスゲン法と前記BCFLと一般式（Ａ）のビスフェ
ノール化合物を同時に反応させる方法を用いてもよい。
本発明において、エステル交換法を用いる場合には、ジ
アリールカーボネートと前記BCFLと一般式（Ａ）のビス
フェノール化合物を同時に反応させる方法が好ましい。
【００１３】ホスゲン法とエステル交換法では、BCFL及
び一般式（Ａ）のビスフェノール化合物の反応性を考慮
した場合、ホスゲン法の方が好ましい。
び一般式（Ａ）のビスフェノール化合物の反応性を考慮
した場合、ホスゲン法の方が好ましい。
【００１４】前者のホスゲン法においては、通常酸結合
剤および溶媒の存在下において、本発明における前記BC
FL及び一般式（Ａ）のビスフェノール化合物とホスゲン
とを反応させる。酸結合剤としては、例えばピリジン
や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ
金属の水酸化物などが用いられ、また溶媒としては、例
えば、塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンゼン、
キシレンなどが用いられる。さらに、縮重合反応を促進
するために、トリエチルアミンのような第３級アミンお
よび第４級アンモニウム塩などの触媒を、また重合度調
節には、フェノール、p-t-ブチルフェノール、p-クミル
フェノール等一官能基化合物を分子量調節剤として加え
る。さらに、所望に応じ亜硫酸ナトリウム、ハイドロサ
ルファイトなどの酸化防止剤や、フロログルシン、イサ
チンビスフェノール、1,1,1-トリス（4-ヒドロキシフェ
ニル）エタン、α，α',α"-トリス（4-ヒドロキシフェ
ニル)-1,3,5-トリイソプロピルベンゼンなど分岐化剤を
少量添加してもよい。反応は通常０〜１５０℃、好まし
くは５〜４０℃の範囲とするのが適当である。反応時間
は反応温度によって左右されるが、通常０．５分〜１０
時間、好ましくは１分〜２時間である。また、反応中
は、反応系のｐＨを１０以上に保持することが望まし
い。
剤および溶媒の存在下において、本発明における前記BC
FL及び一般式（Ａ）のビスフェノール化合物とホスゲン
とを反応させる。酸結合剤としては、例えばピリジン
や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ
金属の水酸化物などが用いられ、また溶媒としては、例
えば、塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンゼン、
キシレンなどが用いられる。さらに、縮重合反応を促進
するために、トリエチルアミンのような第３級アミンお
よび第４級アンモニウム塩などの触媒を、また重合度調
節には、フェノール、p-t-ブチルフェノール、p-クミル
フェノール等一官能基化合物を分子量調節剤として加え
る。さらに、所望に応じ亜硫酸ナトリウム、ハイドロサ
ルファイトなどの酸化防止剤や、フロログルシン、イサ
チンビスフェノール、1,1,1-トリス（4-ヒドロキシフェ
ニル）エタン、α，α',α"-トリス（4-ヒドロキシフェ
ニル)-1,3,5-トリイソプロピルベンゼンなど分岐化剤を
少量添加してもよい。反応は通常０〜１５０℃、好まし
くは５〜４０℃の範囲とするのが適当である。反応時間
は反応温度によって左右されるが、通常０．５分〜１０
時間、好ましくは１分〜２時間である。また、反応中
は、反応系のｐＨを１０以上に保持することが望まし
い。
【００１５】一方、後者のエステル交換法においては、
本発明における前記BCFLと一般式（Ａ）のビスフェノー
ル化合物とビスアリールカーボネートとを混合し、減圧
下で高温において反応させる。この時、p-t-ブチルフェ
ノール、p-クミルフェノール等一官能基化合物を分子量
調節剤として加えてもよい。反応は通常１５０〜３５０
℃、好ましくは２００〜３００℃の範囲の温度において
行われ、また減圧度は最終で好ましくは１mmHg以下にし
て、エステル交換反応により副生した該ビスアリールカ
ーボネートから由来するフェノール類を系外へ留去させ
る。反応時間は反応温度や減圧度などによって左右され
るが、通常１〜６時間程度である。反応は窒素やアルゴ
ンなどの不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましく。ま
た、所望に応じ、酸化防止剤や分岐化剤を添加して反応
を行ってもよい。
本発明における前記BCFLと一般式（Ａ）のビスフェノー
ル化合物とビスアリールカーボネートとを混合し、減圧
下で高温において反応させる。この時、p-t-ブチルフェ
ノール、p-クミルフェノール等一官能基化合物を分子量
調節剤として加えてもよい。反応は通常１５０〜３５０
℃、好ましくは２００〜３００℃の範囲の温度において
行われ、また減圧度は最終で好ましくは１mmHg以下にし
て、エステル交換反応により副生した該ビスアリールカ
ーボネートから由来するフェノール類を系外へ留去させ
る。反応時間は反応温度や減圧度などによって左右され
るが、通常１〜６時間程度である。反応は窒素やアルゴ
ンなどの不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましく。ま
た、所望に応じ、酸化防止剤や分岐化剤を添加して反応
を行ってもよい。
【００１６】炭酸エステル形成化合物としては、例えば
ホスゲンや、ジフェニルカーボネート、ジ−p-トリルカ
ーボネート、フェニル−p-トリルカーボネート、ジ−p-
クロロフェニルカーボネート、ジナフチルカーボネート
などのビスアリルカーボネートが挙げられる。これらの
化合物は２種類以上併用して使用することも可能であ
る。
ホスゲンや、ジフェニルカーボネート、ジ−p-トリルカ
ーボネート、フェニル−p-トリルカーボネート、ジ−p-
クロロフェニルカーボネート、ジナフチルカーボネート
などのビスアリルカーボネートが挙げられる。これらの
化合物は２種類以上併用して使用することも可能であ
る。
【００１７】本発明における前記一般式（Ａ）のポリシ
ロキサン構造を有するビスフェノール化合物としては、
具体的には下記構造式で示される化合物などが例示され
る。
ロキサン構造を有するビスフェノール化合物としては、
具体的には下記構造式で示される化合物などが例示され
る。
【００１８】
【化３】
【００１９】これらは、２種類以上併用することも可能
である。このうち、α，ω−ビス［3-（o-ヒドロキシフ
ェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサン、α，ω−
ビス［2-（p-ヒドロキシフェニル）エチル］ポリジメチ
ルシロキサン、α，ω位に3-（o-ヒドロキシフェニル）
プロピル基を有するジメチルシロキサンとメチルフェニ
ルシロキサンのランダム共重合体、およびα，ω位に3-
（o-ヒドロキシフェニル）プロピル基を有するジメチル
シロキサンとジフェニルシロキサンのランダム共重合体
よりなる群から選ばれた少なくとも１種が反応性等より
好適である。
である。このうち、α，ω−ビス［3-（o-ヒドロキシフ
ェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサン、α，ω−
ビス［2-（p-ヒドロキシフェニル）エチル］ポリジメチ
ルシロキサン、α，ω位に3-（o-ヒドロキシフェニル）
プロピル基を有するジメチルシロキサンとメチルフェニ
ルシロキサンのランダム共重合体、およびα，ω位に3-
（o-ヒドロキシフェニル）プロピル基を有するジメチル
シロキサンとジフェニルシロキサンのランダム共重合体
よりなる群から選ばれた少なくとも１種が反応性等より
好適である。
【００２０】本発明においてホスゲン法を採用する場合
は、反応をより効率的に行うため第４級アンモニウム塩
存在下において、ホスゲンとBCFLまたはホスゲンとBCFL
と一般式（Ａ）のビスフェノール化合物を反応させるこ
とが好ましい。具体的には、テトラメチルアンモニウム
クロライド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライ
ド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、テト
ラエチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチル
アンモニウムアイオダイドなどが例示され、これらのう
ちトリメチルベンジルアンモニウムクロライド、トリエ
チルベンジルアンモニウムクロライドが好ましい。この
第４級アンモニウム塩は、使用される全ビスフェノール
類に対して、一般に0.0005〜5mol% 使用することが好ま
しい。
は、反応をより効率的に行うため第４級アンモニウム塩
存在下において、ホスゲンとBCFLまたはホスゲンとBCFL
と一般式（Ａ）のビスフェノール化合物を反応させるこ
とが好ましい。具体的には、テトラメチルアンモニウム
クロライド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライ
ド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、テト
ラエチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチル
アンモニウムアイオダイドなどが例示され、これらのう
ちトリメチルベンジルアンモニウムクロライド、トリエ
チルベンジルアンモニウムクロライドが好ましい。この
第４級アンモニウム塩は、使用される全ビスフェノール
類に対して、一般に0.0005〜5mol% 使用することが好ま
しい。
【００２１】本発明においてホスゲン法を採用する場合
には、過剰のホスゲンとBCFLを反応させた後の乳化状態
の溶液に、一般式（Ａ）のビスフェノール化合物を反応
させる方法により反応性をより向上させることができ
る。
には、過剰のホスゲンとBCFLを反応させた後の乳化状態
の溶液に、一般式（Ａ）のビスフェノール化合物を反応
させる方法により反応性をより向上させることができ
る。
【００２２】これらの反応で合成されたポリカーボネー
ト樹脂は、押出成形、射出成形、ブロ−成形、圧縮成
形、湿式成形など公知の成形法で成形可能であるが、容
易に成形できるとともに、必要な強度を保つには極限粘
度が０．２〜２．０dl/gの範囲であることが好ましい。
ト樹脂は、押出成形、射出成形、ブロ−成形、圧縮成
形、湿式成形など公知の成形法で成形可能であるが、容
易に成形できるとともに、必要な強度を保つには極限粘
度が０．２〜２．０dl/gの範囲であることが好ましい。
【００２３】また、本発明の一般式（Ａ）のビスフェノ
ール化合物は機械的強度、成形性、耐熱性等を考慮する
と全ビスフェノール化合物［BCFL＋一般式（Ａ）］中１
０〜８０重量％が好ましい。一般式（Ａ）のビスフェノ
ール化合物が１０重量％未満では、ソフトセグメントと
しての効果が小さく成形性や溶媒溶解性に劣り、８０重
量％を越えるとソフトセグメントの効果が大きすぎ、粘
性液体やゴム状体となりやすい。
ール化合物は機械的強度、成形性、耐熱性等を考慮する
と全ビスフェノール化合物［BCFL＋一般式（Ａ）］中１
０〜８０重量％が好ましい。一般式（Ａ）のビスフェノ
ール化合物が１０重量％未満では、ソフトセグメントと
しての効果が小さく成形性や溶媒溶解性に劣り、８０重
量％を越えるとソフトセグメントの効果が大きすぎ、粘
性液体やゴム状体となりやすい。
【００２４】本発明のポリカーボネート用の原材料中に
は、製造工程で除去できないような不純物が混入してい
るものは好ましくなく、事前に十分精製された原材料を
使用することが好ましい。
は、製造工程で除去できないような不純物が混入してい
るものは好ましくなく、事前に十分精製された原材料を
使用することが好ましい。
【００２５】本発明のポリカーボネートには成形時に必
要な安定性や離型性を確保するため、所望に応じて、ヒ
ンダードフェノール系やホスファイト系酸化防止剤；シ
リコン系、脂肪酸エステル系、脂肪酸系、脂肪酸グリセ
リド系、密ろう等天然油脂などの滑剤や離型剤；ベンゾ
トリアゾール系、ベンゾフェノン系、ジベンゾイルメタ
ン系、サリチレート系等の光安定剤；ポリアルキレング
リコール、脂肪酸グリセリド等帯電防止剤などを適宜併
用してよい。さらには本ポリカーボネートと性能を損な
わない範囲で任意にポリカーボネート以外の他樹脂と混
合して使用する事も可能である。
要な安定性や離型性を確保するため、所望に応じて、ヒ
ンダードフェノール系やホスファイト系酸化防止剤；シ
リコン系、脂肪酸エステル系、脂肪酸系、脂肪酸グリセ
リド系、密ろう等天然油脂などの滑剤や離型剤；ベンゾ
トリアゾール系、ベンゾフェノン系、ジベンゾイルメタ
ン系、サリチレート系等の光安定剤；ポリアルキレング
リコール、脂肪酸グリセリド等帯電防止剤などを適宜併
用してよい。さらには本ポリカーボネートと性能を損な
わない範囲で任意にポリカーボネート以外の他樹脂と混
合して使用する事も可能である。
【００２６】
【実施例】次に実施例により、本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定され
るものではない。
明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定され
るものではない。
【００２７】実施例１ 8.8%(w/v) の水酸化ナトリウム水溶液550ml に9,9-ビス
（3-メチル-4- ヒドロキシフェニル）フルオレン（以下
BCFL、0.3mol）113.4g及びハイドロサルファイト0.1gを
加え溶解した。これにメチレンクロライド500ml を加
え、15℃に保ちながら撹拌しつつ、トリエチルベンジル
アンモニウムクロライド0.05g を加え、ついでホスゲン
51g を50分かけて吹き込んだ。吹き込み終了後フェノー
ルを0.56g 加え、さらに8.8%(w/v) の水酸化ナトリウム
水溶液100ml 加え１分間激しく撹拌して、反応液を乳化
させ下記構造の平均重合度a=39のα，ω−ビス［3-（o-
ヒドロキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサ
ン（以下Si1 ）120gを添加し攪拌した。その１０分後、
0.2ml のトリエチルアミン（TEA ）を加え、約１時間撹
拌し重合させた。
（3-メチル-4- ヒドロキシフェニル）フルオレン（以下
BCFL、0.3mol）113.4g及びハイドロサルファイト0.1gを
加え溶解した。これにメチレンクロライド500ml を加
え、15℃に保ちながら撹拌しつつ、トリエチルベンジル
アンモニウムクロライド0.05g を加え、ついでホスゲン
51g を50分かけて吹き込んだ。吹き込み終了後フェノー
ルを0.56g 加え、さらに8.8%(w/v) の水酸化ナトリウム
水溶液100ml 加え１分間激しく撹拌して、反応液を乳化
させ下記構造の平均重合度a=39のα，ω−ビス［3-（o-
ヒドロキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサ
ン（以下Si1 ）120gを添加し攪拌した。その１０分後、
0.2ml のトリエチルアミン（TEA ）を加え、約１時間撹
拌し重合させた。
【００２８】
【化４】
【００２９】重合液を水相と有機相に分離し、有機相を
リン酸で中和し、洗液のpHを中性になるまで水洗を繰り
返した。得られた重合樹脂液を、６０℃に保った温水に
滴下し、溶媒を蒸発除去しながら重合物を粒状化した。
得られた白色粉末状重合物を濾過後、１０５℃、８時間
乾燥して粉末状樹脂を得た。この重合体は、塩化メチレ
ンを溶媒とする濃度0.5g／dlの溶液の温度20℃における
ハギンズ定数0.45として得られた極限粘度［η］は0.49
dl/gであった。得られた上記重合体を赤外線吸収スペク
トルより分析した結果、1770cm-1付近の位置にカルボニ
ル基による吸収、1240cm-1付近の位置にエーテル結合に
よる吸収が認められ、カーボネート結合を有することが
確認された。
リン酸で中和し、洗液のpHを中性になるまで水洗を繰り
返した。得られた重合樹脂液を、６０℃に保った温水に
滴下し、溶媒を蒸発除去しながら重合物を粒状化した。
得られた白色粉末状重合物を濾過後、１０５℃、８時間
乾燥して粉末状樹脂を得た。この重合体は、塩化メチレ
ンを溶媒とする濃度0.5g／dlの溶液の温度20℃における
ハギンズ定数0.45として得られた極限粘度［η］は0.49
dl/gであった。得られた上記重合体を赤外線吸収スペク
トルより分析した結果、1770cm-1付近の位置にカルボニ
ル基による吸収、1240cm-1付近の位置にエーテル結合に
よる吸収が認められ、カーボネート結合を有することが
確認された。
【００３０】実施例２ Si1 の代わりに下記構造の平均重合度a=36、ｃ=4のα，
ω位に3-（o-ヒドロキシフェニル）プロピル基を有する
ジメチルシロキサンとジフェニルシロキサンのランダム
共重合体（以下Si2 ）80g に変更し、フェノール0.9gを
用いた以外は、実施例１と同様に行った。
ω位に3-（o-ヒドロキシフェニル）プロピル基を有する
ジメチルシロキサンとジフェニルシロキサンのランダム
共重合体（以下Si2 ）80g に変更し、フェノール0.9gを
用いた以外は、実施例１と同様に行った。
【００３１】
【化５】
【００３２】得られた重合体の極限粘度［η］は0.38dl
/gで、赤外吸収スペクトル分析よりカーボネート結合を
有することが確認された。
/gで、赤外吸収スペクトル分析よりカーボネート結合を
有することが確認された。
【００３３】実施例３ Si1 の代わりに下記構造の平均重合度a=14、c=6 のα，
ω位に3-（o-ヒドロキシフェニル）プロピル基を有する
ジメチルシロキサンとジフェニルシロキサンのランダム
共重合体（以下Si3 ）110gに変更し、BCFLと同時にSi3
を投入しホスゲンを吹き込んだ以外は、実施例１と同様
に行った。
ω位に3-（o-ヒドロキシフェニル）プロピル基を有する
ジメチルシロキサンとジフェニルシロキサンのランダム
共重合体（以下Si3 ）110gに変更し、BCFLと同時にSi3
を投入しホスゲンを吹き込んだ以外は、実施例１と同様
に行った。
【００３４】
【化６】
【００３５】得られた重合体の極限粘度［η］は0.44dl
/gで、赤外吸収スペクトル分析よりカーボネート結合を
有することが確認された。
/gで、赤外吸収スペクトル分析よりカーボネート結合を
有することが確認された。
【００３６】比較例１ BCFLを56.7g(0.15mol)に変更し、Si1 の代わりに2,2-ビ
ス（4-ヒドロキシフェニル）プロパン34.2g （以下BPA
、0.15mol)に変更し、BCFLとBPA を同時に投入し、ホ
スゲンを吹き込んだ以外は実施例１と同様に行った。得
られた重合体の極限粘度［η］は0.68dl/gで、赤外吸収
スペクトル分析によりカーボネート結合を有することが
確認された。
ス（4-ヒドロキシフェニル）プロパン34.2g （以下BPA
、0.15mol)に変更し、BCFLとBPA を同時に投入し、ホ
スゲンを吹き込んだ以外は実施例１と同様に行った。得
られた重合体の極限粘度［η］は0.68dl/gで、赤外吸収
スペクトル分析によりカーボネート結合を有することが
確認された。
【００３７】比較例２ 市販のビスフェノールＡ型ポリカーボネート樹脂（商品
名「レキサン 121」、ＧＥプラスチック（株）製）をそ
のまま用いた。
名「レキサン 121」、ＧＥプラスチック（株）製）をそ
のまま用いた。
【００３８】比較例３ 3,3,5-トリメチル-1,1- ビス（4-ヒドロキシフェニル）
シクロヘキサン（以下TMBPZ ）型ポリカーボネートであ
るAPEXポリカーボネート樹脂（商品名 APEC HT、BAYER
（株）製）をそのまま用いた。
シクロヘキサン（以下TMBPZ ）型ポリカーボネートであ
るAPEXポリカーボネート樹脂（商品名 APEC HT、BAYER
（株）製）をそのまま用いた。
【００３９】比較例４ 市販の1,1-ビス（4-ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン（以下BPZ ）型ポリカーボネート樹脂（商品名「ユー
ピロンＺ 200」、三菱瓦斯化学（株）製）をそのまま用
いた。
ン（以下BPZ ）型ポリカーボネート樹脂（商品名「ユー
ピロンＺ 200」、三菱瓦斯化学（株）製）をそのまま用
いた。
【００４０】比較例５ 8.8%(w/v) の水酸化ナトリウム水溶液250ml にSi1 を10
0g及びハイドロサルファイト0.1gを加え、さらにメチレ
ンクロライド400ml を加え、15℃に保ちながら撹拌しつ
つ、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム0.05g を加
え、ついでホスゲン11g を11分かけて吹き込んだ。吹き
込み終了後、フェノール0.94g加え、さらに8.8%(w/v) の水酸
化ナトリウム水溶液50ml加え激しく撹拌して、反応液を
乳化させ、乳化後0.2ml のトリエチルアミン（TEA ）を
加え、約１時間撹拌し重合させた。その後、実施例１と
同様の処理を行った。得られた重合体は粘性液体であり
粒状化は出来なかった。重合体の極限粘度［η］は0.14
dl/gで、赤外吸収スペクトル分析によりカーボネート結
合を有することが確認された。
0g及びハイドロサルファイト0.1gを加え、さらにメチレ
ンクロライド400ml を加え、15℃に保ちながら撹拌しつ
つ、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム0.05g を加
え、ついでホスゲン11g を11分かけて吹き込んだ。吹き
込み終了後、フェノール0.94g加え、さらに8.8%(w/v) の水酸
化ナトリウム水溶液50ml加え激しく撹拌して、反応液を
乳化させ、乳化後0.2ml のトリエチルアミン（TEA ）を
加え、約１時間撹拌し重合させた。その後、実施例１と
同様の処理を行った。得られた重合体は粘性液体であり
粒状化は出来なかった。重合体の極限粘度［η］は0.14
dl/gで、赤外吸収スペクトル分析によりカーボネート結
合を有することが確認された。
【００４１】比較例６ Si1 を用いなかった以外は実施例１と同様に行った。得
られた重合体は溶媒不溶の粉体となり、極限粘度の測定
は不可であった。赤外吸収スペクトル分析によりカーボ
ネート結合を有することが確認された。
られた重合体は溶媒不溶の粉体となり、極限粘度の測定
は不可であった。赤外吸収スペクトル分析によりカーボ
ネート結合を有することが確認された。
【００４２】比較例７ BCFLの代わりに9,9-ビス（4-ヒドロキシフェニル）フル
オレン（以下BPFL、0.31mol ）108.5g用いた以外は実施
例１と同様に行った。この重合体は、塩化メチレンを溶
媒とする濃度0.5g／dlの溶液の温度20℃におけるハギン
ズ定数0.45として得られた極限粘度［η］は0.43dl/gで
あった。得られた上記重合体を赤外線吸収スペクトルよ
り分析した結果、1770cm-1付近の位置にカルボニル基に
よる吸収、1240cm-1付近の位置にエーテル結合による吸
収が認められ、カーボネート結合を有することが確認さ
れた。
オレン（以下BPFL、0.31mol ）108.5g用いた以外は実施
例１と同様に行った。この重合体は、塩化メチレンを溶
媒とする濃度0.5g／dlの溶液の温度20℃におけるハギン
ズ定数0.45として得られた極限粘度［η］は0.43dl/gで
あった。得られた上記重合体を赤外線吸収スペクトルよ
り分析した結果、1770cm-1付近の位置にカルボニル基に
よる吸収、1240cm-1付近の位置にエーテル結合による吸
収が認められ、カーボネート結合を有することが確認さ
れた。
【００４３】比較例８ BCFLの代わりに9,9-ビス（4-ヒドロキシ-3,5- ジメチル
フェニル）フルオレン（以下BXFL、0.3mol）121.8g用い
た以外は実施例１と同様に行った。この重合体は、塩化
メチレンを溶媒とする濃度0.5g／dlの溶液の温度20℃に
おけるハギンズ定数0.45として得られた極限粘度［η］
は0.34dl/gであった。得られた上記重合体を赤外線吸収
スペクトルより分析した結果、1770cm-1付近の位置にカ
ルボニル基による吸収、1240cm-1付近の位置にエーテル
結合による吸収が認められ、カーボネート結合を有する
ことが確認された。
フェニル）フルオレン（以下BXFL、0.3mol）121.8g用い
た以外は実施例１と同様に行った。この重合体は、塩化
メチレンを溶媒とする濃度0.5g／dlの溶液の温度20℃に
おけるハギンズ定数0.45として得られた極限粘度［η］
は0.34dl/gであった。得られた上記重合体を赤外線吸収
スペクトルより分析した結果、1770cm-1付近の位置にカ
ルボニル基による吸収、1240cm-1付近の位置にエーテル
結合による吸収が認められ、カーボネート結合を有する
ことが確認された。
【００４４】実施例１〜３および比較例１〜４、比較例
７〜８の湿式成形フィルム成型品（50μm厚設定、13mm
幅ダンベル型）にて引っ張り試験を行った結果を表１に
示す。
７〜８の湿式成形フィルム成型品（50μm厚設定、13mm
幅ダンベル型）にて引っ張り試験を行った結果を表１に
示す。
【００４５】実施例１〜３、比較例１〜４、比較例７〜
８のポリカーボネートの引張試験評価 実施例１〜３および比較例１〜４、比較例７〜８のポリ
カーボネートを18g 取り、132gのジクロロメタンに溶解
した。得られた12wt/wt%樹脂溶液を600 μｍのスペーサ
ーにてキャストフィルムを作成し、乾燥後ASTM-D638-84
I 準拠ダンベル片（全長165mm 、長幅19mm、短幅13mm、
厚さ約50μm ）を打ち抜き作成した。
８のポリカーボネートの引張試験評価 実施例１〜３および比較例１〜４、比較例７〜８のポリ
カーボネートを18g 取り、132gのジクロロメタンに溶解
した。得られた12wt/wt%樹脂溶液を600 μｍのスペーサ
ーにてキャストフィルムを作成し、乾燥後ASTM-D638-84
I 準拠ダンベル片（全長165mm 、長幅19mm、短幅13mm、
厚さ約50μm ）を打ち抜き作成した。
【００４６】作成したダンベル片を恒温室（23℃、50%R
H ）にて、東洋ボルドウイーン製テンシロンUTM-5 を用
いて、ASTM D-882準拠の条件で、引っ張り速度50mm/mi
n、ロードセル196Nで引張試験を行い、強度と伸び率を
測定した。なお、比較例５は試料が液体のため、比較例
６は試料が溶媒不溶のため成形片は得られなかった。
H ）にて、東洋ボルドウイーン製テンシロンUTM-5 を用
いて、ASTM D-882準拠の条件で、引っ張り速度50mm/mi
n、ロードセル196Nで引張試験を行い、強度と伸び率を
測定した。なお、比較例５は試料が液体のため、比較例
６は試料が溶媒不溶のため成形片は得られなかった。
【００４７】実施例１〜３、比較例１〜４、比較例７〜
８のポリカーボネートの耐熱性評価 実施例１〜３および比較例１〜４、比較例７〜８のポリ
カーボネートの粉末を、（株）島津製作所製熱分析装置
（DSC-50、TGA-50H ）を使用し、窒素雰囲気下でガラス
転移温度と１％減量開始温度を測定した。実施例１〜３
と比較例７〜８ははガラス転移温度が不明確（微細な変
曲点が数点出現）であったが、その内最も変曲が大きい
ものを代表としてガラス転移温度とした。
８のポリカーボネートの耐熱性評価 実施例１〜３および比較例１〜４、比較例７〜８のポリ
カーボネートの粉末を、（株）島津製作所製熱分析装置
（DSC-50、TGA-50H ）を使用し、窒素雰囲気下でガラス
転移温度と１％減量開始温度を測定した。実施例１〜３
と比較例７〜８ははガラス転移温度が不明確（微細な変
曲点が数点出現）であったが、その内最も変曲が大きい
ものを代表としてガラス転移温度とした。
【００４８】 表１ サンプル名 降伏強度 破断強度 弾性率 伸び率 Tg 1wt%減量温度 (MPa) (MPa) (GPa) (%) (℃) (℃) 実施例１ 20.4 30.0 5.3 142 160 441 実施例２ 25.7 22.5 6.9 83 163 402 実施例３ 31.6 28.3 7.8 120 157 394 比較例１ --- 58.7 17.9 6 203 337 比較例２ 51.8 62.2 17.8 101 146 507 比較例３ --- 48.0 15.5 16 175 478 比較例４ 63.5 60.7 18.7 71 174 483 比較例７ 22.1 32.4 6.0 122 165 445 比較例８ 17.9 18.1 9.4 37 151 356 ───────────────────────────────────
【００４９】表１から明らかなように、実施例１〜３の
ポリカーボネートは従来の比較例１〜４のポリカーボネ
ートとは機械的強度に差は認められるものの、成形材料
としての機械的強度は十分保持している特性を有してい
ることがわかる。また、耐熱性についてもガラス転移温
度については同等であり、減量開始温度もビスフェノー
ルＡ型ポリカーボネートの射出成形で最も高温の条件で
ある380 ℃以上の耐熱性を有していることがわかる。ま
た、実施例１〜３と比較例７〜８は、機械的強度と耐熱
性は比較的似た傾向を示すことがわかる。
ポリカーボネートは従来の比較例１〜４のポリカーボネ
ートとは機械的強度に差は認められるものの、成形材料
としての機械的強度は十分保持している特性を有してい
ることがわかる。また、耐熱性についてもガラス転移温
度については同等であり、減量開始温度もビスフェノー
ルＡ型ポリカーボネートの射出成形で最も高温の条件で
ある380 ℃以上の耐熱性を有していることがわかる。ま
た、実施例１〜３と比較例７〜８は、機械的強度と耐熱
性は比較的似た傾向を示すことがわかる。
【００５０】
【発明の効果】本発明のポリカーボネート樹脂は、加工
性に優れているので、医療用器具、食品容器、飲料用ボ
トル等、あるいは光ディスク、近接場光記録媒体用カバ
ー層、光学フィルム、光学シート、光学レンズ、メガネ
レンズ、光ファイバー、導光板、光導波路、光学フィル
ターなどの光学部材、および電子写真感光体、トナー転
写ベルト、染顔料バインダー、ガス透過膜、玩具、窓・
建築部材、安全保護具部材、ＯＡ機器・携帯電話等各種
部材や筐体などの用途に好適である。
性に優れているので、医療用器具、食品容器、飲料用ボ
トル等、あるいは光ディスク、近接場光記録媒体用カバ
ー層、光学フィルム、光学シート、光学レンズ、メガネ
レンズ、光ファイバー、導光板、光導波路、光学フィル
ターなどの光学部材、および電子写真感光体、トナー転
写ベルト、染顔料バインダー、ガス透過膜、玩具、窓・
建築部材、安全保護具部材、ＯＡ機器・携帯電話等各種
部材や筐体などの用途に好適である。
フロントページの続き Ｆターム(参考） 4J029 AA09 AB01 AC02 AC03 AC04 AD01 AE03 AE04 AE05 BB12A BB12B BB12C BG23X BG24X BG25X BH04 HC01 HC05A HC05B JA011 JC041 JC091 JC231
Claims (6)
- 【請求項１】 9,9-ビス（4-ヒドロキシ-3- メチルフェ
ニル）フルオレン（以下BCFLと省略）及び一般式（Ａ）
で表される構造のビスフェノール化合物と炭酸エステル
形成化合物とを反応させて得られるポリカーボネートで
あって、一般式（Ａ）がBCFL及び一般式（Ａ）の合計量
に対して、１０〜８０重量％であり、かつ得られたポリ
カーボネートの極限粘度が０．２〜２．０dl/gであるポ
リカーボネート樹脂。 【化１】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ2 は、各々独立して水素、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数
６〜１２のアリール基、炭素数２〜５のアルケニル基、
炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数７〜１７のア
ラルキル基であり、これらの基に炭素原子を有する場合
には置換基として、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数
２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、
フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を有することもできる。
Ｒ3 〜Ｒ6 は、各々独立して炭素数１〜５のアルキル
基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜５のアル
ケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数７
〜１７のアラルキル基であり、これらの基に炭素原子を
有する場合には置換基として、炭素数１〜５のアルキル
基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５のアル
コキシ基、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を有すること
もできる。Ｒ7 は、炭素数１〜６のアルキレン基又はア
ルキリデン基を表すか単に結合を表す。Ｘは、−Ｓｉ
（Ｒ8 ）（Ｒ9 ）Ｏ−及び／または−Ｓｉ（Ｒ10）（Ｒ
11）Ｏ−の単独重合又はランダム共重合体を表し、重合
度は０から２００であり、Ｒ8 〜Ｒ11は、各々独立して
水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、炭素数１〜５のア
ルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜５
のアルケニル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭
素数７〜１７のアラルキル基であり、これらの基に炭素
原子を有する場合には置換基として、炭素数１〜５のア
ルキル基、炭素数２〜５のアルケニル基、炭素数１〜５
のアルコキシ基、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を有す
ることもできる。） - 【請求項２】 一般式（Ａ）で表されるビスフェノール
化合物がα，ω−ビス［3-（o-ヒドロキシフェニル）プ
ロピル］ポリジメチルシロキサン、α，ω−ビス［2-
（p-ヒドロキシフェニル）エチル］ポリジメチルシロキ
サン、α，ω位に3-（o-ヒドロキシフェニル）プロピル
基を有するジメチルシロキサンとメチルフェニルシロキ
サンのランダム共重合体、およα，ω位に3-（o-ヒドロ
キシフェニル）プロピル基を有するジメチルシロキサン
とジフェニルシロキサンのランダム共重合体よりなる群
から選ばれた少なくとも１種である請求項１記載のポリ
カーボネート樹脂。 - 【請求項３】 炭酸エステル形成化合物がホスゲンまた
はジフェニルカーボネートである請求項１記載のポリカ
ーボネート樹脂。 - 【請求項４】 ホスゲンを炭酸エステル形成化合物とし
て用いる溶液重合法を用ることを特徴とした請求項１記
載のポリカーボネート樹脂の製造方法。 - 【請求項５】 過剰のホスゲンとBCFLを反応させた後の
乳化溶液に一般式（Ａ）のビスフェノール化合物を添加
し、重合せしめる請求項４記載のポリカーボネート樹脂
の製造方法。 - 【請求項６】 ホスゲンとの反応に際し、第４級アンモ
ニウム塩を存在させる請求項４記載のポリカーボネート
樹脂の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001172219A JP2002030140A (ja) | 2000-02-22 | 2001-06-07 | ポリカーボネート樹脂及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
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|---|---|---|---|
| JP2000044909 | 2000-02-22 | ||
| JP2000-44909 | 2000-02-22 | ||
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Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005089637A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-07 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 難燃性を有する導電性熱可塑性ポリカーボネート樹脂組成物およびその成形物品 |
| WO2005113638A1 (ja) * | 2004-05-20 | 2005-12-01 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | ポリカーボネート樹脂およびこれを用いた電子写真感光体 |
| WO2008136521A1 (ja) * | 2007-05-08 | 2008-11-13 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | ポリカーボネート重合体、塗工液、および電子写真感光体 |
| JP2008280389A (ja) * | 2007-05-08 | 2008-11-20 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカーボネート共重合体、塗工液、および電子写真感光体 |
| JP2008280490A (ja) * | 2007-05-14 | 2008-11-20 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカーボネート共重合体、塗工液、および電子写真感光体 |
| US7781540B2 (en) | 2004-07-15 | 2010-08-24 | Osaka Gas Co., Ltd. | Resin composition and molded articles thereof |
| JP2016522858A (ja) * | 2013-05-31 | 2016-08-04 | モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 | フェニル含有官能性ポリシロキサンおよびそれから作製されるポリカーボネート−ポリシロキサンコポリマー |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08134199A (ja) * | 1994-11-14 | 1996-05-28 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 光記録媒体用成形材料 |
| JPH08134198A (ja) * | 1994-11-14 | 1996-05-28 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 湿式成形用ポリカーボネート樹脂 |
| JPH11199663A (ja) * | 1998-01-14 | 1999-07-27 | Osaka Gas Co Ltd | ポリカーボネート重合体 |
| JPH11279274A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-10-12 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカーボネート−シロキサン共重合樹脂とその製造法および電子写真感光体ならびにコーティング材 |
| WO2000042088A1 (fr) * | 1999-01-12 | 2000-07-20 | Space Environmental Technology Company, Inc. | Resine de polycarbonate liberant une quantite reduite d'hormones dans l'environnement |
| JP2001131279A (ja) * | 1999-11-02 | 2001-05-15 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 光記録媒体用成形材料 |
-
2001
- 2001-06-07 JP JP2001172219A patent/JP2002030140A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08134199A (ja) * | 1994-11-14 | 1996-05-28 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 光記録媒体用成形材料 |
| JPH08134198A (ja) * | 1994-11-14 | 1996-05-28 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 湿式成形用ポリカーボネート樹脂 |
| JPH11199663A (ja) * | 1998-01-14 | 1999-07-27 | Osaka Gas Co Ltd | ポリカーボネート重合体 |
| JPH11279274A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-10-12 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカーボネート−シロキサン共重合樹脂とその製造法および電子写真感光体ならびにコーティング材 |
| WO2000042088A1 (fr) * | 1999-01-12 | 2000-07-20 | Space Environmental Technology Company, Inc. | Resine de polycarbonate liberant une quantite reduite d'hormones dans l'environnement |
| JP2001131279A (ja) * | 1999-11-02 | 2001-05-15 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 光記録媒体用成形材料 |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005089637A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-07 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 難燃性を有する導電性熱可塑性ポリカーボネート樹脂組成物およびその成形物品 |
| JP4595303B2 (ja) * | 2003-09-18 | 2010-12-08 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 難燃性を有する導電性熱可塑性ポリカーボネート樹脂組成物およびその成形物品 |
| JP2012122078A (ja) * | 2004-05-20 | 2012-06-28 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカーボネート樹脂およびこれを用いた電子写真感光体 |
| WO2005113638A1 (ja) * | 2004-05-20 | 2005-12-01 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | ポリカーボネート樹脂およびこれを用いた電子写真感光体 |
| JPWO2005113638A1 (ja) * | 2004-05-20 | 2008-03-27 | 出光興産株式会社 | ポリカーボネート樹脂およびこれを用いた電子写真感光体 |
| USRE43604E1 (en) | 2004-05-20 | 2012-08-28 | Idemitsu Kosan Co. Ltd. | Polycarbonate resin and electrophotographic photosensitive member using same |
| JP5009612B2 (ja) * | 2004-05-20 | 2012-08-22 | 出光興産株式会社 | ポリカーボネート樹脂およびこれを用いた電子写真感光体 |
| US7491346B2 (en) * | 2004-05-20 | 2009-02-17 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Polycarbonate resin and electrophotographic photosensitive member using same |
| US7781540B2 (en) | 2004-07-15 | 2010-08-24 | Osaka Gas Co., Ltd. | Resin composition and molded articles thereof |
| WO2008136521A1 (ja) * | 2007-05-08 | 2008-11-13 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | ポリカーボネート重合体、塗工液、および電子写真感光体 |
| US8207288B2 (en) | 2007-05-08 | 2012-06-26 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Polycarbonate polymer, coating liquid, and electrophotographic photosensitive body |
| JP2008280389A (ja) * | 2007-05-08 | 2008-11-20 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカーボネート共重合体、塗工液、および電子写真感光体 |
| JP2008280490A (ja) * | 2007-05-14 | 2008-11-20 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカーボネート共重合体、塗工液、および電子写真感光体 |
| JP2016522858A (ja) * | 2013-05-31 | 2016-08-04 | モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 | フェニル含有官能性ポリシロキサンおよびそれから作製されるポリカーボネート−ポリシロキサンコポリマー |
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