JP5486304B2 - 粗い表面を有するゴムローラー - Google Patents

Description

本発明は、ゴム被覆インキ転写ロール、その製造のための方法、およびその使用に関する。

オフセット印刷工程におけるインキ装置はしばしば連続型インキ機構を備えている。ここでは、インキ供給はインキ壷からインキ壷ロールを経て隣接するフィルムロールへ連続的に進む。約０．０４から０．１０ｍｍの間隙がインキ壷ロールとフィルムロールとの間に存在する。２０〜８０ショアＡの硬さ範囲を有するゴム被覆インキ転写ロールがフィルムロールの下流に配置され、インキをインキ装置のロール機構へ輸送する。オフセット印刷では、ゴム被覆ローラーは通常は、粗さの平均深さＲｚが２０μｍ未満、典型的には１０μｍ未満の滑らかな表面を有する。

ＥＰ ０ ６６２ ３９４ Ａ１は、菱形パターンを形成する溝を有する印刷ロールに関する。それに記載のロールは、インキ壷ローラーの下流のインキ装置に搭載され、およびフィルムロールに相当する。

ＤＥ ７１ ９４ ９４０は、インキ装置のためのディップロールに関する。当該ディップロールは交差方向の陥没を有し、結果として菱形領域を生じる。

典型的には、インキ供給領域におけるインキ層厚さは、インキ装置の下流要素においてよりも厚い。そのため、インキ飛散がインキ壷ロールとフィルムロールとの間で、特に間隙の出口側で起こる。

本発明によって対処される問題は、上述の問題を避けること、特にインキ飛散またはインキ曇りの問題を低減することであった。

驚くべきことに、前記問題は粗い表面を有するゴム被覆インキ転写ロールを使用することによって低減されうることが見出された。前記ロールは、インキフィルムをフィルムロールからインキ装置へより効果的に移動させる機能を有する。この事実のために、供給されたインキ、すなわち、フィルムロール上のインキ層厚さは低減が可能であり、それは曇りおよびインキ飛散の問題に前向きな効果を及ぼす。

本発明によると、ゴム被覆インキ転写ロールの表面は、３０ないし８０μｍの粗さの平均深さＲｚおよび４０ないし１２０μｍの粗さの最大深さＲ_maxを有する。

好ましくは、ゴム被覆インキ転写ロールは、０．００１ないし０．１ｍｍ³／ｍｍ²の自由比体積Ｖ₁を有する。

好ましくは、ゴム被覆インキ転写ロールは、０．０２ないし１．５ｍｍ³／ｍｍ²の自由比体積Ｖ₂を有する。

粗さの深さは、プロファイル法を用いる粗さ計（ペルトメーター）でＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ４２８７に従って測定する。

好ましくは、粗さの平均深さは４０ないし６０μｍの範囲であり、および／または粗さの最大深さは６０ないし１００μｍである。

そのようなインキ転写ロールを製造するための適切な方法は、ポーキュパインカッターを用いてのゴム被覆ロールの機械加工に基づく。この処理は、最上層のゴム層を除去し、および部分的に鱗様の外観を持つ不規則な構造を残す（図１参照）。

本発明に記載の構造は、粗く、および不均一である。当該構造は鱗状でありおよびランダムである。当該構造は、溝または菱形といったより高次の構造を含まない。

インキ転写ロールに適するゴム物質は、アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）、水素化アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＨＮＢＲ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、エピクロロヒドリンゴム（ＥＣＯ）、スチレン−ブタジエンゴム（ＳＢＲ）およびその共重合体および混合物である。

インキ転写ロールは、たとえば、鋼、アルミニウムまたは炭素繊維強化プラスチック（ＣＦＲＰ）またはガラス繊維強化プラスチック（ＧＦＲＰ）といった、寸法安定性材料から作られる芯を有する。

自由体積Ｖ₁およびＶ₂は、たとえば、色センサー（ＣＷＬ）付きＲＦＴマイクロプロフ（ＭｉｃｒｏＰｒｏｆ）（登録商標）を用いて、試料を集束白色光で照射して測定されうる。センサーは反射光の波長依存性（色）分布を測定し、およびそこから絶対高さ情報を測定する。

この測定原理は、他の光学的方法に共通の周辺効果による測定誤差を回避する。表面形状は定量的データフィールドの形で得られる。そのように、測定の結果生じた写真で、任意の距離、高さおよび角度、粗さおよび皺およびまた平面度が測定されうる。

立体写真から計算されうる体積Ｖ₁およびＶ₂は、表面の特徴づけに特に適している。そこで、充填される体積Ｖ₁は最深測定点と平均平面の高さとの間の充填される体積であり、後者は高さ値０が割り当てられている。充填される体積Ｖ₂は立体写真の最深および最高測定点の間で決定される。

図２は充填される体積Ｖ₁およびＶ₂間の差を模式的に示す。灰色の領域は計算された体積を示す。

もう１つの主題は、３０ないし８０μｍの粗さの平均深さＲ_zおよび４０ないし１２０μｍの粗さの最大深さＲ_maxを有するゴム被覆ロールの、インキ転写ロールとしての特にオフセット印刷における使用である。

本発明の別の一実施形態は、本発明の転写ロールを含むインキ装置である。

図１は、色センサー（ＣＷＬ）を用いて得られた表面の立体写真を示す。 図２は、自由体積Ｖ₁（ＬＨ側）とＶ₂（ＲＨ側）との間の差を示す。 図３は、インキ装置の要素を模式的に示す。前記インキ装置は、インキ壷ロール１、フィルムロール２およびインキ転写ロール３を含む。本図はさらに、ディップロール５およびインキ７の入ったインキ壷６を示す。

本発明は下記の実施例によってより詳細に説明される。

鋼製芯およびＮＢＲコーティングを有する直径１０５ｍｍおよび長さ１０３５ｍｍのインキ転写ロールを、ポーキュパインカッター（単粒ゴムホグホイール）で機械加工した。下記の機械加工条件が観察された。

そのように得られたロールの粗さの深さを測定した。Ｒ_max値は８０μｍであり、粗さの平均深さＲ_zは約５２μｍであった。Ｖ₁は０．０１２ｍｍ³／ｍｍ²であり、Ｖ₂は０．１９１ｍｍ³／ｍｍ²であった。均一な機械加工を確実にすることによって送り目を避けることが重要である。

Claims (11)

1. インキ装置において、少なくとも１つのインキ壷ロール（１）の下流のフィルムロール（２）の下流で用いられるインキ転写ロール（３）であって、２０ないし８０ショアＡの硬さ範囲、および３０ないし８０μｍの粗さの平均深さＲｚ、および４０ないし１２０μｍの粗さの最大深さＲ_max、０．００１ないし０．１ｍｍ³／ｍｍ²の自由比体積Ｖ₁、および０．０２ないし１．５ｍｍ³／ｍｍ²の自由比体積Ｖ₂を有し、かつ不均一でランダムな鱗状の表面構造のゴム被覆インキ転写ロール、ただし、自由比体積Ｖ₁は、ロール表面に形成された凹部の最深測定点と平均平面の高さとの間の体積をロール表面面積で割って得られる比体積であり、自由比体積Ｖ₂は、ロール表面に形成された凹部の最深測定点と最高測定点との間の凹部の体積をロール表面面積で割って得られる比体積である。
2. ゴム被覆インキ転写ロールの表面構造がポーキュパインカッターを用いて機械加工される方法によって得ることができる、請求項１に記載のインキ転写ロール。
3. ゴムコーティングが、アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）、水素化アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＨＮＢＲ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、エピクロロヒドリンゴム（ＥＣＯ）、スチレン−ブタジエンゴム（ＳＢＲ）およびその共重合体および混合物から選択される点で特徴づけられる、請求項１または２に記載のインキ転写ロール。
4. ロールの芯が、鋼、アルミニウムまたは炭素繊維強化プラスチック（ＣＦＲＰ）またはガラス繊維強化プラスチック（ＧＦＲＰ）から作られる点で特徴づけられる、請求項１から３のいずれか一項に記載のインキ転写ロール。
5. 自由比体積Ｖ₁が０．００３ないし０．０５ｍｍ³／ｍｍ²である点で特徴づけられる、請求項１から４のいずれか一項に記載のインキ転写ロール。
6. 自由比体積Ｖ₂が０．０６ないし１．０ｍｍ³／ｍｍ²である点で特徴づけられる、請求項１から５のいずれか一項に記載のインキ転写ロール。
7. 下記の段階を含む、請求項１から６のいずれか一項に記載のインキ転写ロールを製造するための方法：
   ・ポーキュパインカッターを用いてゴム被覆ロールを機械加工する。
8. 請求項１から６のいずれか一項に記載のインキ転写ロールをインキ転写ロールとして用いる印刷方法。
9. 印刷方法がオフセット印刷方法である、請求項８に記載の方法。
10. 請求項１から６のいずれか一項に記載のインキ転写ロールを用いて、印刷におけるインキ飛散および／またはインキ曇りを低減するための方法。
11. インキ転写ロール（３）が請求項１から６のいずれか一項に記載のインキ転写ロールである点で特徴づけられる、少なくとも１つのインキ壷ロール（１）、その下流のフィルムロール（２）およびその下流のインキ転写ロール（３）を有するインキ装置。