JPH0286496A - インキローラの製作方法とこの方法を実施するための装置 - Google Patents

インキローラの製作方法とこの方法を実施するための装置

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JPH0286496A
JPH0286496A JP1173863A JP17386389A JPH0286496A JP H0286496 A JPH0286496 A JP H0286496A JP 1173863 A JP1173863 A JP 1173863A JP 17386389 A JP17386389 A JP 17386389A JP H0286496 A JPH0286496 A JP H0286496A
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JP
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manufacturing
ink roller
ink
roller
carrying
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JP1173863A
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Hans-H Kochsmeier
ハンス―ヘルマン・コフスマイアー
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Haldenwanger W KG
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Haldenwanger W KG
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    • B41N2207/10—Location or type of the layers in shells for rollers of printing machines characterised by inorganic compounds, e.g. pigments
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
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    • Y10T29/4956—Fabricating and shaping roller work contacting surface element
    • Y10T29/49563—Fabricating and shaping roller work contacting surface element with coating or casting about a core

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  • Inking, Control Or Cleaning Of Printing Machines (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、特許請求の範囲の請求項１の冒頭に記載した
。オフセットインキ供給機構またはこれに類似のインキ
塗布手段に使用するスクリーンローラの形態をしたイン
キローラの製作方法、およびこの方法を実施するための
装置に係る。
（従来の技術） この種のインキ供給機構は、インキ移送用のローラ、す
なわちこの例ではスクリーンローラに常時連続して一定
厚のインキを被覆させることができさえすれば、一定し
た正確な色合いの下で印刷の仕上がり再現性および印刷
基材上の印画精度についての厳しい要求を満たすことが
できる。ただし、ドクターブレードに連動するインキロ
ーラは１条件のすべてを同時に満たすことはできない。
充分な硬さを持たせたドクターブレードの縁がスクリー
ンローラの表面をなぞるようにしてあるため、特に、セ
ルの母型を形成してインキを溜めるようにした表面がセ
ルとセルとの間に非常に幅の狭いインテルまたはウェブ
を備えていて、従ってウェブとセルの比率が小さい場合
には、生じうる摩耗は無視できる程度のものでなければ
ならない。
これに関し、そうした動力学的にバランスのとれたロー
ラのコア、すなわちローラの外周面に好ましい硬度のセ
ラミック被覆を付着させ、レーザービーム法を用いてこ
の被覆セラミックの表面に必要な数の所望形状のセルま
たはくぼみを彫り込むことは公知である。標準型ドクタ
ーブレードを用いるレーザービーム法（Ｌａｓｅｒｌｏ
ｚ）として知られているこれら従来のローラは、検知さ
れる程の摩耗はせず、しかもセルの吸着量に大きな変動
を生じないまま２００　ｍｉ運転メートル以上にわたっ
て連続運転のできる耐久性を備えている。しかしながら
、疎水性セラミック材料には湿潤剤の移送に未だ問題が
残されており、インキを用いた実際の印刷物の仕上がり
状態が見劣りするため、不適切な材料であると考えられ
てきている。
高粘度の印刷インキを用いたインキ供給機構の操作に伴
い、例えばオフセット印刷プレスを使用する場合には、
インキ容器に漬ける浸漬ローラ、シリンダ上に印刷フオ
ームをインキで形成するインキローラ、および浸漬ロー
ラからインキローラにインキを移す転送ローラを使用す
る必要がある。インキ溜め用のくぼみと、これらくぼみ
の間に介在するウェブを備えた転送ローラは、スクリー
ン構造において作用を受ける。均一で薄いインキのフィ
ルムを確実に得るために、ローラはいわゆるインキ溜め
ローラまたはインキ調節ローラと連動している。１回分
のインキを転送するために、従来は箇々のケース毎に手
動調節の行なえる制御手段を使用していた。こうした制
御手段は製造コストが嵩むだけでなく、複雑な操作を必
要としている。
ウェブで画成されたセルを持ち、インキを掻き取るよう
に表面をこすられるオフセットインキ供給機構用のスク
リーンローラは公知である。ウェブはセラミック材料か
ら作られており、またセルは疎水性ライニングを備えて
いる（ＤＥ〜ＯＳ　３７１３０２７）、公知の構造を持
つ前記スクリーンローラはスチールから作られ、インキ
ローラに連動するようにされている。インキローラには
インキ以外にも湿潤剤が供給される。しかしながら、印
刷プレートを湿潤させるのに必要な湿潤剤がインキ調−
ラヲ介してスクリーンローラに送られるため、湿潤剤に
よりセル内のインキの接着性に悪い影響が及び１強いて
はセルにインキを充填しにくくなり、インキの量および
濃度にばらつきが生じている。疎水性ライニングにはこ
うしたことについて特に注意が払われる必要がある。積
層ローラ構造に関連して、箇々の層にとって最適な材料
を選択する努力が払われてきており、酸化アルミまたは
酸化クロムが、レーザービームで彫込みのできる硬質セ
ラミック被覆用の耐摩耗性材料として特に優れていると
されてきている。疎水性材料層の彫込みに続いて、２０
〜５０ルの厚みの均一な薄い銅の層が付着される。この
ようにすれば、硬質セラミック材料から作られたウェブ
は充分な耐摩耗性を発揮すると共に、薄い蒸着被覆の銅
層により、印刷にとって疎外要因となるセラミック材料
の親水性をセル付近からなくすことができる。４〜５Ｉ
Ｌの非常に薄い初期の蒸着銅フィルムは、後で゛這気メ
ツキ法を用いて前述した厚みにすることができる。銅フ
ィルムはインキローラのスクリーン表面の全体を覆って
延び、また必要に応じ、この銅フィルムはローラの使用
に先立って硬質セラミックウェブの表面付近から削り取
っておくこともできる。
こうした公知のインキローラでは、セラミック層のスク
リーン形状および寸法がセルの容積を必然的に決定して
しまっており、これにはセラミック表面に設けた彫込み
のウェブ幅も別の因子として関係している。
また前述した積層ローラは、ローラの軸線から半径方向
に付着させである外側酸化層がセルの付近ではどこもほ
ぼ同じ厚みのある構造を備えており、こうしたローラは
公知であると言える。アルミニウムをキャリヤ材料とし
て使用し、アルミナを疎水性被覆として使用するのが好
ましい、スクリーンローラの基材表面に沿って設けたく
ぼみ、およびセル間のウェブ付近のくぼみには、傾斜し
たセル壁に沿って、より高い位置まで酸化被覆層を付着
させである。尚、ライニング層は直流電流酸化槽内で形
成される（ＤＥ−ＯＳ　３６１５１４１）。
本発明は、前述した形式の積層ローラにおける従来技術
とその問題点に鑑み、ローラシリンダの外周面に付着さ
せた耐摩耗金属および／またはセラミック層をドクター
ブレードが理想的な状態でスクリーニング操作でき、ま
たそれぞれが独立したセルに供給されたインキをスクリ
ーニングして調量し、印刷基材に理想的な状態の印刷を
行なえるようにすることにある。
（課題を解決するための手段） 本発明によれば、前述した問題点は、請求項１の特徴部
分に記載した方法により解決することができる。この方
法の具体的な態様は、従属する請求項２から４に特定さ
れている。
この方法を実施する装置は、請求項５に特定した特徴を
備えている。また請求項５の実施態様は、従属する請求
項６から１４に詳しく記載されている。
この方法に則って製作されたインキローラは。
オフセットインキを塗布する用途に特に適しているが、
その他の印刷用途の各種媒体にも利用することができる
。レーザーにより彫込み加工したセラミック層とエツチ
ング処理した金属層を組み合わせてなるこの積層スクリ
ーンローラは、非常に経済的な解決策となり得るもので
ある。また、非常に長期間にわたる使用によっても最高
の品質条件の維持されるインキローラを提供することが
できる。耐摩耗層は、予め決めであるスクリーンの数に
応じて、またウェブの数とウェブの表面幅およびドクタ
ーブレードの理想的な保合関係に基づいて、さらにイン
キセルのスクリーニングの良し悪しとは別に、インキ塗
布にとって理想的なドクターブレードの形状および構造
に合わせて選択することができる。いずれの場合にも、
上側疎水性金属層の成形は、化学的なエツチング彫込み
法によるだけでなく、切削による彫込みまたはこれに類
似する機械的な彫込み法、またはレーザービ−ムや電子
ビーム彫込み法により効果的に行なうこともできる。セ
ラミック層のくぼみをセラミックウェブの高さを越えて
疎水性ライニング材料で完全に充填することにより、第
２の彫込み操作によりインキ溜めセルを形成することが
できる。こうした充填材料としては銅が周知であり、ま
た非常に都合のよい材料でもある。こうした充填材料は
、セラミック層と同じようにして、例えばプラズマバー
ナーまたは噴射法により付着させることができる。
以下、添付図面に沿って本発明の実施例を詳細に説明す
る。これら実施例は本発明を限定するものではない。
（実施例） 第１図は、インキローラの側面図ａと平面図すを示して
いる。またこのインキローラは、第２図に断面で詳しく
示す層構造を備えている０図示の例では、ローラシリン
ダのスチールコアにの外周面２に硬質セラミック層Ｓｌ
　を付着させである。また硬質セラミック層Ｓ１の外周
面には、レーザーを用いてカップ状のくぼみＮ１が彫り
込まれている。〈ぼみＮ１は、セラミック層Ｓ１のスク
リーン状表面パターンを形成する第１のウェブＳｔｌ　
の間に配置されている。またこのウェブＳｔ、＋　は、
インキをインキローラに塗布する際に利用される、ドク
ターブレードの掻き取り表面を形成している。こうした
スクリーンローラは、例えば、プレートシリンダへの直
接的または間接的なインキの塗布用に効果的に活用する
ことができる。様々なオフセット印刷法のうちでも、ア
ニロックス（Ａｎｉｌｏｘ）印刷法を例にとって説明を
行なう、この印刷法は、疎水性があってしかも油性イン
キに対し親和性のある表面を備えたスクリーンローラを
使用している０周知のアニロックスオフセット印刷法は
ドクターブレードを使用する必要があるが、このドクタ
ーブレードには摩耗現象が認められ、印刷工程中にしば
しば作業が中断していた。耐摩耗性を備えた従来の疎水
性材料は、周知のようにインキの乗りが不均一であるた
め、耐摩耗性セラミック層とレーザー彫込み部分からな
るスクリーンローラでは前述した欠点を取り除くことは
できない、従って、セラミックウェブに沿ってドクター
ブレードにとって理想的なスクリーンパターンと掻き取
り表面を形成することはできるが、インキまたはこれに
類似するものを転送する空所に適した状況は得られない
。
これに対し、本発明に係る解決策では、彫込みを設けた
層Ｓ１はライニングＳ２により被覆されている。ライニ
ングＳ２の厚みは、セラミックウェブＳｔｌ　の高さを
越えていることが好ましい。
またライニングＳ２の材質は、所望の親油性のある疎水
性を備えたものが選択される。この実施例では、層Ｓ２
には銅が使用されている。この銅は周知の方法によりセ
ラミック層に付着し、安定した状態に固定されてくぼみ
Ｎｌ　を埋めている。第２の層Ｓ２すなわちライニング
材料は、ウェブＳｔｌが露出する程度まで取り除かれる
。こうして、くぼみＮｌ内のスクリーン状銅充填材によ
って平滑な円柱表面が形成され、セラミックウェブＳｔ
ｌはこれら円柱表面が列状または直線状に連続しないよ
うに仕切っている。インキローラがオフセット印刷用イ
ンキを表面に吸着できるようにするために、第１の彫込
みとは別に複数のセルＮ２の形態をした第２の彫込みが
設けられている０図示の例では、セルＮ２の形成するス
クリーン構造のスクリーン数は、耐摩耗層Ｓ１内の彫込
みのスクリーン構造よりも数倍多くされている。
このため、ウェブＳｔｌ　を設けた第１の層Ｓｌのスク
リーン構造はドクターブレードに対する接触表面を形成
しているが、第２の彫込みをなすセルＮ２のスクリーン
構造は、インキの調量またはインキの送出しだけのため
に使用される。
スクリーンローラｌに設けた２つの彫込みは互いに完全
に独立したものとして形作ることができる。第１のウェ
ブＳｔｌ　と第２のウェブＳｔ２のスクリーン構造はお
互いに数倍または数分の１゜あるいはその逆の関係で設
置でき、また周期的にかまたは非周期的に配置すること
ができる。彫込みを行なう場合には１例えば、ウェブＳ
ｔｌの一部を第２の彫込みにより遮ることもできる。こ
の第２の彫込みは、ドクターブレードに係合するスクリ
ーンローラ１の表面の耐摩耗性に影響を及ぼすことはな
い、ウェブＳｔｌの支承率がこの第２の彫込みによって
大幅に減少してしまうことはないからである。支承率は
、通常では、ウェブ表面と外周面の比率を意味するもの
と解釈されている。支承率は、彫込み方法に合わせて様
々に調節することができる０代表的な数値範囲は２５％
から２％以下までの範囲にある。くぼみＮ１とセルＮ２
はいずれもランダムな断面とし、表面の構造を変化に富
んだものとすることができる。
ライニング材料または第２の層Ｓ２の間にあってセルＮ
２を互いに仕切っているウェブＳｔ２は、同じ高さレベ
ル、すなわち耐摩耗層ＳｌのウェブＳｔｌに整合させる
のがよい、しかしながら、これらウェブＳｔ２はウェブ
Ｓｔｌ　に対して僅かに半径方向内向きにしておき、ウ
ェブＳｔ２がドクターブレードに係合しないようにもで
きる。
層Ｓ２はインキ受容性があり水をはじく層である。これ
に対し、層Ｓ！は親水性のある耐摩耗層である。各層に
形成される彫込みスクリーンの数は、互いに一定の関係
に設定することができる。
ウェブの設置方向に合わせて、印刷材料に波紋が残らな
いように彫込み角度を決める必要がある。
第３図は、彫込みパターンの詳細図である。くぼみＮ１
は平面図で見てハニカム状をしている。
またセルＮ２は円形断面を備えている。セルＮ２のスク
リーン数は、この例ではくぼみＮ１のスクリーン数より
も多い。
第４図は、セルの他の実施例を断面で示している。この
セルを形成するには、まず所望の特定可能な数のスクリ
ーンＳ１に見合うように耐摩耗層Ｓ１が彫り込まれる０
次いで彫り込まれた層には、第２の層３２　、例えば銅
が充填される。さらにこの銅は、ウェブＳｔ＋が露出す
るように取り除かれる。引き続いて行なわれるエツチン
グによる彫込みの結果、セルの露出容積がインキの計量
にとって適正な規模になるまでセルから銅が除去される
。
第４図において参照符号Ｈ３で示した耐摩耗層Ｓ１の厚
みは、図示の実施例では、スクリーンローラの表面に後
で形成されるセルの深さよりも大きい、後で形成される
このセルの深さはＨｌである。Ｈｌは例えば５０ｐあり
、またＨｌは２５ルの深さにできる０層Ｓ２は、この層
を溶解させるが層Ｓ１には影響を及ぼさないエツチング
液を用いて彫り込まれる。こうしたエツチング処理は。
層Ｓ　２　カセルに沿って溶解していき、セルに必要な
所定の容積値が得られるまで続けられる。言い換えると
、セルの深さの程度は、セル壁に必要な親油性且つ疎水
性特性を持つ金属表面が得られる範囲のものである。こ
うして、ドクターブレード用の所望のスクリーン装置に
耐摩耗ウェブを適切に設置することができ、こうして第
１図から第３図の実施例で説明した利点に加えられる新
たな利点が得られる。
第５図の実施例では、箇々のセルはレーザー彫込み加工
により形成されている。これらセルは。
耐摩耗性φ疎水性のある材料に加えて金属の基材を穿孔
して形成され、穴の形状は例えばカップ状を呈している
。セル内に入れられる第２の層のライニング材料は、例
えば１図示の例では銅材料である。セルの金属基材とな
るこのライニング材料は非常に良好な付着性を備えてお
り、２つの金属同士を一体化する接合箇所を形成してい
る。
本発明に係るインキローラを利用すれば、印刷機構また
は湿潤機構に湿潤剤を供給することもできる。インキロ
ーラの役割に合わせてライニング層および彫込み構造の
パラメータを変化させることにより、印刷プレートまた
は印刷大村上に適切で均一な湿潤剤フィルムを形成する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は、インキローラの概略側面図と概略平面図であ
る。 第２図は、第１図に係るローラの表面被覆積層構造を示
している。 第３図は、セラミック層のくぼみとライニング層のセル
との彫込みパターン例を示している。 第４図は、他の好ましい実施例におけるセルを示す断面
図である。 第５図は、第４図のものに類似しているが、セラミック
層の厚みよりも大きい深さＨｌ　のくぼみの例を示した
断面図である。 １争・・インキローラ；　２１１　＠・インキローラの
外周面；に・・・スチールコア、Ｓｌ　　・φ・硬質セ
ラミック層；５２１１参〇ライニング層；Ｎ１　・・・
くぼみ；Ｎ２　・・・セル；Ｓｔｌ　・・・第１のウェ
ブ、Ｓｌ２　・・・第２のウェブ。 ＦＩＧ、１Ｇ ＦＩＧ、１ｂ ＦＩＧ、　２ λ （外１名）

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、掻き取り工程時にドクターブレードがスクリーンを
    形成するウェブの表面をスライドするようになっている
    、オフセットインキ供給機構または類似の印刷用アプリ
    ケータに用いる、スクリーンローラの形態をしたインキ
    ローラを製作する方法にして、動力学的にバランスのと
    れたローラシリンダと、当該ローラシリンダの表面に付
    着させた基材金属および／または硬質セラミック層とを
    有し、前記基材金属および／またはセラミック層の耐摩
    耗表面をレーザー光線により彫り込み、露出したくぼみ
    の間にウェブを形成し、しかもくぼみの壁の少なくとも
    一部を覆う疎水性ライニングを形成するようにしたイン
    キローラの製作方法において、くぼみには疎水性ライニ
    ング材料がほぼ完全に充填され、引き続いてこの材料を
    ウェブが露出するまで取り除き、さらに、くぼみに充填
    してあるライニング材料には、インキまたは印刷過程に
    用いる類似物を受け入れられる配置構造の独立した複数
    のセルが形成されることを特徴とするインキローラの製
    作方法。 ２、請求項１記載のインキローラの製作方法において、
    エッチング処理により疎水性材料内にセルが設置され、
    第２の表面スクリーン装置を形成していることを特徴と
    するインキローラの製作方法。 ３、請求項１記載のインキローラの製作方法において、
    プラズマバーナーまたは射出処理により、耐摩耗性・疎
    水性材料および／または軟質疎水材料がローラシリンダ
    に付着させてあることを特徴とするインキローラの製作
    方法。 ４、請求項１記載のインキローラの製作方法において、
    周知のランダム彫込み処理により、ライニング材料にセ
    ルの彫込みが施されることを特徴とするインキローラの
    製作方法。５、請求項１記載のインキローラの製作方法
    を実施するための装置において、動力学的にバランスの
    とれたローラシリンダ（Ｋ）と、当該ローラシリンダの
    外周面（２）に付着させてあり、表面には複数のくぼみ
    （Ｎ＿１）が設置され、これらくぼみの間に第１のウェ
    ブ（Ｓｔ＿１）を形成しているセラミック層（Ｓ＿１）
    と、くぼみを充填している疎水性材料の第２の層（Ｓ＿
    ２）と、当該第２の層（Ｓ＿２）に形成され、インキま
    たは類似物の形態をした塗布剤を受け入れる第２のグル
    ープのセル（Ｎ＿２）とを有している、インキローラの
    製作方法を実施するための装置。 ６、請求項５記載のインキローラの製作方法を実施する
    ための装置において、くぼみ（Ｎ＿１）の疎水性ライニ
    ング材料が銅であることを特徴とする、インキローラの
    製作方法を実施するための装置。 ７、請求項５記載のインキローラの製作方法を実施する
    ための装置において、疎水性セルのスクリーン装置が、
    親水性くぼみ（Ｎ＿１）のスクリーン装置の整数倍ある
    か、またはその逆の関係にあることを特徴とする、イン
    キローラの製作方法を実施するための装置。８、請求項
    ７記載のインキローラの製作方法を実施するための装置
    において、くぼみ（Ｎ＿１）を構成する彫込みが粗い彫
    込みからなり、且つセル（２）を形成する彫込みが細か
    い彫込みからなるか、またはその逆の関係にあることを
    特徴とする、インキローラの製作方法を実施するための
    装置。 ９、請求項７または８記載のインキローラの製作方法を
    実施するための装置において、粗い彫込みと細かい彫込
    みのスクリーン数が互いに周期的な比率の関係にあるこ
    とを特徴とする、インキローラの製作方法を実施するた
    めの装置。 １０、請求項５から９の何れか一つに記載のインキロー
    ラの製作方法を実施するための装置において、ウェブの
    移動方向に対する彫込み角度は、印刷基材上に波紋が形
    成されないように選択されていることを特徴とする、イ
    ンキローラの製作方法を実施するための装置。 １１、請求項５記載のインキローラの製作方法を実施す
    るための装置において、理想的な状態に設置された金属
    層および／またはセラミック層（Ｓ＿１、Ｓ＿２）は、
    周知の適当な方法により付着させてあることを特徴とす
    る、インキローラの製作方法を実施するための装置。 １２、請求項５から１１の何れか一つに記載のインキロ
    ーラの製作方法を実施するための装置において、第１の
    層または第２の層（Ｓ＿１、Ｓ＿２）は、彫込みのない
    ランダム表面を備えていることを特徴とする、インキロ
    ーラの製作方法を実施するための装置。 １３、請求項５記載のインキローラの製作方法を実施す
    るための装置において、第１のウェブと第２のウェブ（
    Ｓｔ＿１、Ｓｔ＿２）は半径方向に見て同じ高さを備え
    、しかも同じ外周面に適切に配置されていることを特徴
    とする、インキローラの製作方法を実施するための装置
    。 １４、請求項５記載のインキローラの製作方法を実施す
    るための装置において、セル（Ｎ＿２）の深さが耐摩耗
    性・疎水性層（Ｓ＿１）の厚みよりも大きいことを特徴
    とする、インキローラの製作方法を実施するための装置
    。
JP1173863A 1988-07-05 1989-07-05 インキローラの製作方法とこの方法を実施するための装置 Pending JPH0286496A (ja)

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DE3903372.4 1989-02-04

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DE (3) DE3822692C2 (ja)
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