JP2617234B2 - 疎水性で親油性の微孔性インキングローラ - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 リトグラフ印刷に対するキーレスインキングの実施に
おいて、そこではインキは印刷システムにメータリング
ローラとそれと共同する掻とりブレードの手段で計量供
給（メータ）されるのであるが、Fadnerは米国特許第4,
601,242において、FadnerとHyenerは米国特許第4,537,1
27において、又Fadnerは米国特許第4,603,634におい
て、インキメータリングローラの表面が疎水性と親油性
の二重の性質をもち、それが撥水性でかつ油をひきつけ
易い有利な方法と手段を開示した。この二重の性質はリ
トグラフのインキメータリングローラがインキを保持す
る寸法割のセルを形成することもインキを保持すること
ができる不規則に配列された空隙をもつ表面を形成する
ことも可能にする。キーレスインキングの実際問題にお
いては、リトグラフィーが使われるインキのフィルム中
に水の存在を要求するので、インキメータリングローラ
の表面に親油性と疎水性をもつことが重要である。イン
キメータリングローラ表面に親水性又は水をひきつける
部分があると、水がそれらの部分からインキを追い出し
たり外したりし、それによってローラのインキの保持や
インキの計量供給能力を途絶させるであろう。

上述のFadnerらの先行技術文献は又、疎水性でかつ親
水性であるメータリングローラを備えることによって一
貫したインキの計量供給が確保された場合でも、インキ
ングローラ上のインキフィルムの水含量は、印刷される
フォーマットを満足するのに消費されるインキと水の相
対的な量によって、プレスの巾の中で異るかもしれない
と教示している。１回の印刷運転の間プレスのどこにも
均一にインキを供給するためには一定の組成のインキを
印刷プレートのすべての部分に連続的に確実に送ること
が必要である。プレスの全巾に亘って一定の組成のイン
キを送らなければ、低い印刷密度の領域では水の含量が
増加する傾向となり、望ましくない品質の印刷が生じ
る。プレスの全巾に亘って均一のインキ組成を得る方法
はFadnerらによって米国特許第4,690,055に開示されて
いる。

サトウ及びハラダによって米国特許第4,637,310にお
いて開示されたセルをもつメータリングローラのランド
面積のように、又はWarnerによって米国特許第4,287,82
7に開示されたセルのない平滑表面のメータリングロー
ラのように、親水領域がランダム又は幾何学的に均一な
方法のどちらかで意図的に含まれている時は、親水性領
域から脱離するインキによるどんな水の障害でも親水領
域を形成するときに選ばれたパターンに一致するため
に、インキの計量供給の予測が達成されるであろうこと
は推論しうる。しかし、プレスの全巾に亘る水とインキ
の量、従ってそれぞれが要求する相対的な量はいかなる
場合も使われる印刷プレートの画像及び非画像のフォー
マットによって決定される。印刷フォーマットは一般的
に均一でなく又印刷運転毎に同じであることは稀であ
る。結論的に、親油性及び親水性の技術を用いた装置を
運転するときは水によって離脱するインキの範囲はメー
タリングローラのさまざまな場所におけるインキ中にそ
の時その時に存在する水の量による。これらの場所は一
方では印刷プレート上のフォーマットを印刷するために
必要なさまざまなプレスに亘るインキと水の量に相当す
る。親水性領域におけるインキ中の水の含量が高いほど
対応する領域におけるインキの離脱のためにインキの保
持能力が低減する傾向が強くなる。結果は、印刷フォー
マットが変更されるとプレスの運転毎にインキの供給が
変り、それに付随して予期よりも低い又は予期以上に高
い光学密度の印刷領域ができる。

クロームとアルミニウムの酸化物及びタングステンカ
ーバイトのような硬質セラミック材料は本来エネルギー
材料で、相応じて水の存在下では親水性になる傾向があ
り油性材料だけの存在下では親油性になる傾向がある。
これらの材料を用いて製作されたメータリングローラ
は、凸版印刷では水ベースのインキにも油ベースのイン
キにもしばしばうまく使われているが、水をもった油ベ
ースのインキを使うリトグラフ印刷では一貫した品質の
インキを出すのに失敗する。出るインキのバラツキの程
度はインキ中の水がローラのセラミック面からインキを
排除しあるいは脱離させるかそうではないかによって決
まる。前にも記載したように、離脱の程度はクロス−プ
レスのすべての選ばれた位置におけるインキ中の水分含
量により、その水分含量は一方又印刷されるフォーマッ
トによる。

前に引用したようにFadnerは米国特許第4,601,242に
おいて、有利な硬い耐磨耗性のセラミックの性質を用い
てかなり長寿命のリトグラフ用インキメータリングロー
ラを得る方法を開示している。特にセラミック粉末、殊
にアルミナは、銅メッキのメータリングローラベースの
上に意図的に約0.51mm（２ミル）未満の薄い層が溶射さ
れる。銅は本来疎水性で親油性である。この方法は表面
があたかも銅であったかのように働くインキと水との相
互作用に関する十分な粒間空隙をもつ硬い耐磨耗表面を
つくり、その結果水に優先してインキを保持し、しかも
同時にかき取り刃の磨耗作用に対して耐磨耗性セラミッ
ク材料として働く。商業的に実行可能とはいえ、下層の
銅の親油性をセラミック層によって示される親水性によ
って打ち消されないことを確実にするためにセラミック
層を比較的薄くしなければならないので、この型のロー
ルは約２千万から３千万回の印刷プレスの寿命である。
更に本来親水性であるセラミック層は、使用と印刷プレ
スの清浄に伴う汚れの蓄積によって親水性が増してくる
かもしれない。

この発明の第１の目的はインキの中に水の存在が含ま
れるキーレスリトグラフ印刷プレスシステムにおいて長
い運転寿命が確保される簡単で安価なインキメータリン
グローラを提供することである。

この発明の付加的な目的は、親油性で疎水性の、化学
的に不活性の本質的に有機材料が浸透された微孔性耐磨
耗性の表面層をもつインキメータリングロールを製造す
るプロセスを提供することである。

この発明のなおもうひとつの目的は、本来優秀な耐磨
耗性を減じることなしに疎水性で親油性をもつ複合層の
部分として、硬くて耐磨耗性がありしかし本来は親水性
のセラミック材料を使うことができる方法を提供するこ
とである。

更にこの発明の目的は、高度の耐磨耗性と、水の存在
下における油性インキの保持に対する優先的な親和性と
を組合わせた複合構造をもつ改良されたインキングロー
ラを提供することである。

この発明のその他の目的と利点は以下に示す付属の明
細書及び図面を参照することによって部分的に明らかに
なり又部分的に説明されるであろう。

発明の要約 この発明の新しい、高速リトグラフ印刷プレスシステ
ムにおけるインキのメータリングに対する改良されたイ
ンキメータリングロールと、インキングシステムを単純
化し、又印刷プレスの操作中に操作者の調整や注意の程
度を単純化するため提供されるキーレス方式におけるイ
ンキングシステムに関する。

通常、キーレスインキングシステムを用いる印刷機は
インキ受又はインキ溜10、ポンプ11及びインキパンと結
ぶ管13、その中に位置し摩擦駆動のインキ移しローラ15
にインキを供給するメータリングローラ13′を含む。逆
角度の掻き取り刃又はメータリング刃16はメータリング
ローラ13′に対し働き、メータリングローラ13′上にイ
ンキがあるときはそれがセルの中にある場合を除きその
すべてをとり去る。移しローラ15からのインキは、湿し
機21から供給される水とそこで結合される実質的に平滑
なインキングドラム20に移される。湿し流体は図示のよ
うにインキロール20へ又は仮想線26で示されるように直
接プレートロール25へ、そのいずれか適当な方法で供給
可能である。メータリングロール13′に対し働く掻きと
り刃16（又は他のインキ除去手段）は実質的にすべての
過剰のインキ皮膜をそこから連続的に取除くためにあ
る。前述のエレメントのすべては、プレス駆動プレート
シリンダ25上に取りつけられた印刷プレート25上に均一
なインキ皮膜を供給するために機能する。シリンダ25上
のプレートは一方画像の形で、例えば、ブランケットシ
リンダ31と加圧シリンダー32とが協働して形成する印刷
ニップを通して送られるペーパウェブ30にインキを供給
する。第１図中のすべてのローラは軸が平行に配列され
る。

その他の多くの印刷機の配列が当業者及びキーレスリ
トグラフ印刷科学分野の技術者には明らかにすることが
できるが、この発明の本来の運用に対し重要な第１の特
徴は以下に検討される。

印刷プレートにつくインキの量は、インキメータリン
グローラの表面に形成される窪み又はインキ受セルの寸
法によって調整され、そのローラは同一の巾の掻きとり
刃又はドクターブレードをもちセル又は窪みの中にある
もの以外は実質的にすべてのインキをセルのあるメータ
リングローラから連続的に除去する。

インキメータリングローラは適当な強度、長さ及び直
径をもつ鋼、アルミニウム又は同等の芯材を比較的厚い
耐磨耗性のセラミック材料で適当に被覆されたもので構
成される。ローラ表面はすべての場合に彫られる必要は
ないが、レーザ彫刻は正確な寸法と位置をもつセル又は
窪みを形成するために使うことができ、そのセルはイン
キの所望量を正確に計量するために働く掻とりドクター
ブレードを備える。磨耗に関連するローラの実用的な寿
命の間はローラ面のすべての領域においてインキの正確
で連続的な計量を確保するためにセラミック材料は、疎
水性と親油性を示す化学的に不活性で非反応性の有機材
料の高度に流動性のある希薄溶液又は懸濁液で浸透され
る。その有機物質は、例えば蒸発によって流体キャリア
ーが除かれた後セラミック材料のすき間に残る。

第２図はこの発明のひとつの形態の断面で、ここでは
メータリングローラ14を作るために使われるベースロー
ラは35で示されるセラミック被覆が施される前に彫られ
る。

図示のセルをもったメータリングローラ13′は前記の
ように、機械的に彫ったあとで被覆するか又は最初に被
覆したあとレーザーで彫ってローラの被覆面に窪みのセ
ルパターンをつくることができる。窪みの容積と数は印
刷される光学密度仕様に合致するため必要なインキの容
積をベースとし、既知の手法に従って選ばれる。もしく
は、ローラはここに延べられたような硬い、親油性で疎
水性をもつ見かけ上平滑な表面をもつこともできる。

ローラ13′は通常印刷システムへのインキの供給を計
量するために掻きとり刃又はドクターブレードが共に採
用される。ローラ20は通常その代りに印刷プレートに接
近した位置においてメータリングローラとして採用さ
れ、その位置に存在する使用済の戻りインキの実質的に
全量を印刷システムから除く掻き取り刃（図示しない）
と共に機能する。ローラ13′及び15はそのときは必要な
い。どちらの場合でも、供給されたインキの未使用部分
であるインキの戻りフィルムは、連続的に掻きとられた
インキ溜め10に導かれ続いてポンプ11によってセルをも
ったメータリングローラ13′に戻され連続循環される。
これらのキーレスリトグラフ印刷の運転要素の多くはよ
り詳しくFadnerらの米国特許第4,690,055に記載されて
いる。

アルミナ、タングステンカーバイド、又は酸化クロー
ムのような普通に得られる硬い耐磨性のセラミック及び
セラミック様の材料が、それらのすべてはインキングロ
ーラの製造者でも得られるが、水性と油性の両方の液体
が存在するときには油ベースのインキの層よりもむしろ
水ベースの層をそれらの表面にもつことを好むというこ
とを発見した。さまざまなセラミック材料が硬い耐磨耗
性のインキメータリングローラの最上面として、単一の
油ベースの印刷流体を含む凸版印刷に対しても、単一の
水ベースのインキング流体を用いるフレキソグラフィッ
ク印刷システムに対しても機能することが知られている
とはいえ、これらの同じセラミック表面がリトグラフ印
刷に用いられる場合は、十分な湿らせ水がインキを通し
てローラに浸透する時はいつでも、油又は樹脂ベースの
インキを外すようになる。これはセラミック材料のよう
な親水性又は水を好む性質の表面が、水のないときは親
水性又は油を好む性質であることを考えればより容易に
理解される。新鮮な、未使用の水のないリトグラフイン
キがセラミックに適用される時は、インキは最初はロー
ラ表面によく着きよく湿す。このような初期条件下では
正常なインキメータリング性能が観察される。しかしリ
トグラフ印刷操作の間に、インキ中の水の含量が増加す
るにつれて、ローラニップ圧力とインキ中の水の含量の
増加との組合せが水をインキ層を通してセラミックメー
タリングローラ表面へ押し込む条件に到達する。ローラ
表面に選好的に吸着することによって、水はインキをそ
の表面から追い出し、それによって以後インキ供給手段
からインキをピックアップすることができなくなる。

キーレスリトグラフインキシステムにおけるインキの
計量のために技術の発達段階にあるセラミック被覆ロー
ラを使用することに伴う水による障害の問題は、親油性
で疎水性の化学的に不活性な有機材料をセラミックロー
ラの表面にしっかりと施しそしてセラミック材料の微孔
層の隙間に浸みこませることによって排除しえることを
発見した。このように処理されたセラミックローラは、
前述の化学関連のインキ計量欠陥なしにリトグラフ印刷
システムにおいてメータリングローラとして機能する。

この発明のひとつの型式において、鋼又はアルミニウ
ム又はその他の好適なローラが例えば第２図に示される
のと同じパターンに機械的に彫られ、ついで芯材の表面
に最初に与えたセル構造を実質的に保持して、約1.27か
ら2.03mm（５から８ミル）の最大の厚さに溶射法によっ
てセラミック被覆がなされる。アルミニウムでつくられ
たベースローラの場合には、ローラは同じ場所にセラミ
ック様の層を形成するために硬質陽極酸化処理を施すこ
とができる。析出プロセスは通常セラミック被覆装置で
薄い被覆を繰返し施す必要があり、ついでこの明細書の
他のところに記載されたような選ばれた有機物質が浸透
される。

別法として、ローラ芯材は同様に機械的に彫れら、つ
いで通常約0.03から0.05mm（0.1から0.2ミル）未満の厚
さの被覆にセラミック粉の薄い被膜でワンパスの溶射被
覆が施され、そのあと有機親油性、疎水性材料で浸透さ
れ、その後別のセラミック被覆パスが施されついで別の
浸透処理がなされ、このようにして逐次被覆、浸透処理
によって所望の1.27から2.03mm（５から８ミル）厚のセ
ラミック被覆がつくりあげられるまで繰返される。

所望の多孔層は又、鋼又はアルミニウムローラ芯材を
選ばれたセラミック粒子を用いたマルチパス溶射被覆に
曝すことによっても得られ、0.76から2.54mm（３か10ミ
ル）又はそれ以上の被覆がつくりあげられる。第４図及
び第５図において40で示されるようなこの被覆はついで
例えば第５図において画かれるようなセルパターン41を
つくるためにレーザで彫られ、その後セラミック表面に
有機の親油性で疎水性の材料が浸透される。

同じ種類の構造は、親油性で疎水性を示す所望の有機
／セラミック被覆厚さを得るために、約６から20回のシ
リーズ又はそのようなシーケンスにおけるそれぞれの溶
射被覆パスの後に親油性で疎水性の有機物が施され、つ
いで所望のインキ保有容量をつくるためにレーザで彫る
ことによって得ることができる。

数種の化学的不活性の有機親油性疎水性材料を使うこ
とができる。これらの材料は一般的に可溶性固体であり
そしてその故にミスト、スプレー、浸漬又はその他の周
知の施工法によって施すことができる流体でもある。親
油性で疎水性の材料を施す重要な目的のひとつは、微孔
性セラミック粉末被覆表面を親油性で疎水性の有機物を
できる限り深くセラミック被覆の中に浸透させることに
よって可能な限り親油性でかつ疎水性にすることであ
る。高度に流動性の液体系が好ましい。簡単なスプレー
塗装技術はローラ回転による浸漬塗装と同様に適切であ
る。溶剤中の親油性で疎水性の有機物の希薄溶液は数秒
ないし数分間放置することによってセラミック被覆の隙
間に深く浸透させることを助長するであろう。

すべての場合、親油性で疎水性の材料は本質的に非流
動性でセラミック粉末被覆の空隙及び表面にしっかり接
着するか又はその中に封じ込めるようにしなければなら
ない。この発明の目的は、セラミックに関し又それ自体
が化学的に不活性である選ばれた材料を浸透させること
によって達成される。通常これらは、それに取り込まれ
る化学的に非反応性のグループをもつ長鎖の炭化水素又
は実質的に炭化水素高分子材料である。この要件を充す
材料は例えばさまざまな非反応性物質である、（ａ）ポ
リ（アクリロニトリルブタジエンスチレン）；（ｂ）ポ
リ（アクリルスチレンアクリロニトリル）；（ｃ）ポリ
エチレン；（ｄ）ポリプロピレン；（ｅ）ポリ（スチレ
ンアクリロニトリル）；（ｆ）ポリスチレン；（ｇ）ポ
リフェニルスルフィド；（ｈ）ポリ（フェニレンエーテ
ルフェニルオキシド）；（ｉ）ポリブタジエン；及び
（ｊ）ポリブテンである。これらのクラスのその他の有
用な親油性で疎水性の材料は化学及び高分子科学の当業
者にとっては明らかであり又ここに開示されたこの発明
の原理をベースとすれば明らかである。

第６図は親油性で疎水性の材料がセラミック被覆によ
って形成される空隙に浸透する方式を図解している。第
６図において50は一般的に耐磨耗層複合体を示し、51は
セラミック材料の粒子を示し、52は浸透した親油性で疎
水性の有機材料を示す。最大の有効寿命をえるためには
着いたセラミック層によって形成された空隙のすべての
連通ネットワークが層の全容積に亘って実質的に完全に
浸透されていることが好ましい。

この発明の実施に好適な、ある一般的な又は特定の親
油性で疎水性の材料の開示にも拘らず、リトグラフイン
キングローラとして得られたローラの使用に対する重要
な基準が、浸透されたローラの表面にインキオイル及び
水の滴が自然に拡がる程度を測定することによって大な
り小なり予測することができる。標準の表面化学の教科
書に記載されているような無柄滴（sessile drop）の技
術はこの性質の測定に有用である。一般的に、親油性で
疏水性のローラ材料はインキオイル（Flint Ink Co.）
の接触角約０゜をもち、蒸留水の接触角が90゜以上をも
ち、この値は親油性で疎水性の材料を定義するのに役立
つ。

本発明においては水接触角90゜以上、インキオイル接
触角10゜以下の材料が選ばれる。

この親油性と疎水性をここに定義したようにもつ材料
はリトグラフ印刷プレス版の実施において、インキと水
の両者がその表面に存在するか押し込まれたときに水又
は湿し剤に優先してその表面にリトグラフインキを受入
れ、保有し、維持するであろう。そしてリトグラフ印刷
インキングローラ列に用いられるローラを、ひとつ又は
それ以上のインキングローラから水によってインキを離
脱させることにより印刷インキの比重調整の低下なしに
印刷される基板に対しインキ溜からインキを移し替える
のを助長するように仕向けることができるのは、この親
油性と疎水性の組合せによるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明のインキメータリングロールを組みこ
んだリトグラフ印刷の配列を説明するキーレスリトグラ
フ印刷システムの輪郭の側面系統図である。 第２図はこの発明のロールの部分断面図でインキを保持
するために備えられた窪みをもつ滲透した耐磨耗性表面
を示す図である。 第３図は第２図と同様の断面図であるが、個々に形成さ
れたインキを受ける窪みのないローラをもつ図である。 第４図は第２図と同様の断面図であるが、個々に形成さ
れたインキを受ける窪みの変形を示す図である。 第５図は第４図の平面図である。 第６図は微孔性セラミック層の拡大説明断面図で親油性
で疎水性の反応生成物の配置を示す図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−44394（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−181645（ＪＰ，Ａ) 米国特許4301730（ＵＳ，Ａ)

Claims (15)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】印刷を形成する媒体として油ベースインキ
   と水との混合物を用いるキーレス印刷に使用されるイン
   キメータリングローラであって、 a. 実質的に円筒形の外表面をもち予め選ばれた強度と
   直径と長さをもつベースローラ、 b. ベースローラの外表面上の連続の微孔性セラミック
   層であって、セラミック層の実質的に全容積に亘って透
   過している空隙が相互に結び合わされたネットワークを
   形づくる微孔性セラミック層、及び c. 以下の構成グループから選ばれ、水の接触角が90゜
   以上であり、インキオイル接触角が10゜以下であるよう
   な、親油性で疎水性の化学的に不活性の有機材料、 ａ）．ポリ（アクリロニトリルブタジエンスチレン）共
   重合体； ｂ）．ポリ（アクリルスチレンアクリロニトリル）共重
   合体； ｃ）．ポリエチレン； ｄ）．ポリプロピレン； ｅ）．ポリ（スチレンアクリロニトリル）共重合体； ｆ）．ポリスチレン； ｇ）．ポリフェニルスルフィド； ｈ）．ポリフェニレンスルフィド； ｉ）．ポリ（フェニレンエーテルフェニルオキシド）共
   重合体； ｊ）．ポリブタジエン；及び ｋ）．ポリブテン、 を含み、該有機材料が、セラミック層の空隙及び表面に
   しっかり接着し、又はその中に封じ込められているイン
   キメータリングローラ。
2. 【請求項２】微孔性セラミック層が約0.76から2.03mm
   （３から８ミル）の厚さである、請求項（１）に記載の
   インキメータリングローラ。
3. 【請求項３】親油性で疎水性の化学的に不活性の有機材
   料がポリ（アクリロニトリルブタジエンスチレン）共重
   合体である、請求項（１）に記載のインキメータリング
   ローラ。
4. 【請求項４】親油性で疎水性の化学的に不活性の有機材
   料がポリ（アクリルスチレンアクリロニトリル）共重合
   体である、請求項（１）に記載のインキメータリングロ
   ーラ。
5. 【請求項５】親油性で疎水性の化学的に不活性の有機材
   料がポリエチレンである、請求項（１）に記載のインキ
   メータリングローラ。
6. 【請求項６】親油性で疎水性の化学的に不活性の有機材
   料がポリプロピレンである、請求項（１）に記載のイン
   キメータリングローラ。
7. 【請求項７】親油性で疎水性の化学的に不活性の有機材
   料がポリ（スチレンアクリロニトリル）共重合体であ
   る、請求項（１）に記載のインキメータリングローラ。
8. 【請求項８】親油性で疏水性の化学的に不活性の有機材
   料がポリスチレンである、請求項（１）に記載のインキ
   メータリングローラ。
9. 【請求項９】親油性で疎水性の化学的に不活性の有機材
   料がポリフェニルスルフィドである、請求項（１）に記
   載のインキメータリングローラ。
10. 【請求項１０】親油性で疎水性の化学的に不活性の有機
    材料がポリフェニレンスルフィドである、請求項（１）
    に記載のインキメータリングローラ。
11. 【請求項１１】親油性で疎水性の化学的に不活性の有機
    材料がポリ（フェニレンエーテルフェニルオキシド）共
    重合体である、請求項（１）に記載のインキメータリン
    グローラ。
12. 【請求項１２】親油性で疎水性の化学的に不活性の有機
    材料がポリブタジエンである、請求項（１）に記載のイ
    ンキメータリングローラ。
13. 【請求項１３】親油性で疎水性の化学的に不活性の有機
    材料がポリブテンである、請求項（１）に記載のインキ
    メータリングローラ。
14. 【請求項１４】親油性で疎水性の性質をもつ耐磨耗性イ
    ンキメータリングローラの製造方法において、 a. 実質的に微孔性層の全容量に亘って透過する空隙の
    相互に結び合わされたネットワークを形づくる微孔性セ
    ラミック材料で形成される実質的に円筒形の表面層をも
    つロールを用意する工程、及び b. 以下の構成グループから選ばれ、水の接触角が90゜
    以上であり、インキオイル接触角が10゜以下であるよう
    な、親油性で疎水性の化学的に不活性の有機材料からな
    るグループから選ばれた有機材料の溶質を、相互に結び
    合わされたネットワークにしっかり接着し、又はその中
    に封じ込められるよう浸透させる工程、 ａ）．ポリ（アクリロニトリルブタジエンスチレン）共
    重合体； ｂ）．ポリ（アクリルスチレンアクリロニトリル）共重
    合体； ｃ）．ポリエチレン； ｄ）．ポリプロピレン； ｅ）．ポリ（スチレンアクリロニトリル）共重合体； ｆ）．ポリスチレン； ｇ）．ポリフェニルスルフィド； ｈ）．ポリフェニレンスルフィド； ｉ）．ポリ（フェニレンエーテルフェニルオキシド）共
    重合体； ｊ）．ポリブタジエン；及び ｋ）．ポリブテン、 を含む、上記方法。
15. 【請求項１５】複数の被覆インキングローラを有する、
    印刷形成媒体として油ベースインキと水との混合物を用
    いる印刷で使用されるインキングシステムであって、イ
    ンキングローラのひとつが a. 実質的に円筒形の外表面をもつ予め選ばれた強度と
    直径と長さをもつベースローラ、 b. ベースローラの外表面上の連続の微孔性セラミック
    層であって、セラミック層の実質的に全容積に亘って透
    過している空隙が相互に結び合わされたネットワークを
    形づくる微孔性セラミック層、 c. 以下の構成グループから選ばれ、水の接触角が90゜
    以上であり、インキオイル接触角が10゜以下であるよう
    な、親油性で疎水性の化学的に不活性の有機材料からな
    るグループから選ばれた有機材料を相互に結び合わされ
    たネットワークにしっかり接着させ、又はその中に封じ
    こめている微孔性セラミックの親油性で疎水性の材料、 ａ）．ポリ（アクリロニトリルブタジエンスチレン）共
    重合体； ｂ）．ポリ（アクリルスチレンアクリロニトリル）共重
    合体； ｃ）．ポリエチレン； ｄ）．ポリプロピレン； ｅ）．ポリ（スチレンアクリロニトリル）共重合体； ｆ）．ポリスチレン； ｇ）．ポリフェニルスルフィド； ｈ）．ポリフェニレンスルフィド； ｉ）．ポリ（フェニレンエーテルフェニルオキシド）共
    重合体； ｊ）．ポリブタジエン；及び ｋ）．ポリブテン、及び d. 浸透微孔性セラミック被覆ベースロールに逆の角度
    で接触するように取付けられた過剰のインキをそれから
    除くための掻きとり手段、 を含む、インキングシステム。。