JPH02299888A - 疎水性で親油性の微孔性インキングローラ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 リトグラフ印刷に対するキーレスインキングの実施にお
いて、そこではインキは印刷システムにメータリングロ
ーラとそれと共同する掻とリブレードの手段で計量供給
（メータ）されるのであるが、Ｆａｄｎ！ｒは米国特許
第４．６０１．２４２において、ＦａｄｎｅｒとＨ７ｅ
ｎｃｒは米国特許第４．　５３７゜１２７において、又
Ｆｇｄｎｅｒは米国特許第４，６０３．６３４において
、インキメータリングローラの表面が疎水性と親油性の
二重の性質をもち、それが撥水性でかつ油をひきつけ易
い有利な方法と手段を開示した。この二重の性質はリト
グラフのインキメータリングローラがインキを保持する
寸法側のセルを形成することもインキを保持することが
できる不規則に配列された空隙をもつ表面を形成するこ
とも可能にする。キーレスインキングの実際問題におい
ては、リトグラフィーが使われるインキのフィルム中に
水の存在を要求するので、インキメータリングローラの
表面に親油性と疎水性をもつことが重要である。インキ
メータリングローラ表面に親水性又は水をひきつける部
分があると、水がそれらの部分からインキを追い出した
り外したりし、それによってローラのインキの保持やイ
ンキの計量供給能力を途絶させるであろう。

上述のＦａｄｎｅｒらの先行技術文献は又、疎水性でか
つ親油性であるメータリングローラを備えることによっ
て一貫したインキの計量供給が確保された場合でも、イ
ンキングローラ上のインキフィルムの水含量は、印刷さ
れるフォーマットを満足するのに消費されるインキと水
の相対的な量によって、プレスの巾の中で異るかもしれ
ないと教示している。１回の印刷運転の間プレスのどこ
にも均一にインキを供給するためには一定の組成のイン
キを印刷プレートのすべての部分に連続的に確実に送る
ことが必要である。プレスの全中に亘って一定の組成の
インキを送らなければ、低い印刷密度の領域では水の含
量が増加する傾向となり、望ましくない品質の印刷が生
じる。プレスの全巾に亘って均一のインキ組成を得る方
法はＦａｄｎｅｒらによって米国特許第４．６９０．０
５５に開示されている。

サトウ及びハラダによって米国特許第４，６３７．３１
０において開示されたセルをもつメータリングローラの
ランド面積のように、又はＷａｒｎｅｒによって米国特
許第４．２８７，８２７に開示されたセルのない平滑表
面のメータリングローラのように、親水領域がランダム
又は幾何学的に均一な方法のどちらかで意図的に含まれ
ている時は、親水性領域から離脱するインキによるどん
な水の障害でも親水領域を形成するときに選ばれたパタ
ーンに一致するために、インキの計量供給の予測が達成
されるであろうことは推論しうる。しかし、プレスの全
中に亘ろ水とインキの量、従ってそれぞれが要求する相
対的な量はいかなる場合も使われる印刷プレートの画像
及び非画像のフォーマットによって決定される。印刷フ
ォーマットは一般的に均一でなく又印刷運転毎に同じで
あることは稀である。結論的に、親油性及び親水性の技
術を用いた装置を運転するときは水によって離脱するイ
ンキの範囲はメータリングローラのさまざまな場所にお
けるインキ中にその時その時に存在する水の量による。

これらの場所は一方では印刷プレート上のフォーマット
を印刷するために必要なさまざまなプレスに亘るインキ
と水の量に相当する。

親水性領域におけるインキ中の水の含量が高いほど対応
する領域におけるインキの離脱のためにインキの保持能
力が低減する傾向が強くなる。結果は、印刷フォーマッ
トが変更されるとプレスの運転毎にインキの供給が変り
、それに付随して予期よりも低い又は予期以上に高い光
学密度の印刷領域ができる。

クロームとアルミニウムの酸化物及びタングステンカー
バイドのような硬質セラミック材料は本来高エネルギー
材料で、相応じて水の存在下では親水性になる傾向があ
り油性材料だけの存在下では親油性になる傾向がある。

これらの材料を用いて製作されたメータリングローラは
、凸版印刷では水ベースのインキにも油ベースのインキ
にもしばしばうまく使われているが、水をもった油ベー
スのインキを使うリトグラフ印刷では一貫した品質のイ
ンキを出すのに失敗する。出るインキのバラツキの程度
はインキ中の水がローラのセラミック面からインキを排
除しあるいは離脱させるかそうではないかによって決ま
る。前にも記載したように、離脱の程度はクロス−プレ
スのすべての選ばれた位置におけるインキ中の水分含量
により、その水分含量は一方又印刷されるフォーマット
による。

前に引用したようにＦａｄｎｅｒは米国特許第４，６０
１．２４２において、有利な硬い耐磨耗性のセラミック
の性質を用いてかなり長寿命のリトグラフ用インキメー
タリングローラを得る方法を開示している。特にセラミ
ック粉末、殊にアルミナは、銅メッキのメータリングロ
ーラベースの上に意図的に約０．　５１．ｍｍ　（２ミ
ル）未満の薄い層が溶射される。銅は本来疎水性で親油
性である。この方法は表面があたかも銅であったかのよ
うに働くインキと水との相互作用に関する十分な粒間空
隙をもつ硬い耐磨耗表面をつくり、その結果水に優先し
てインキを保持し、しかも同時にかき取り刃の磨耗作用
に対して耐磨耗性セラミック材料として働く。商業的に
実行可能とはいえ、下層の銅の親油性をセラミック層に
よって示される親水性によって打ち消されないことを確
実にするためにセラミック層を比較的薄くしなければな
らないので、この型のロールは約２千万から３子方回の
印刷プレスの寿命である。更に本来親水性であるセラミ
ック層は、使用と印刷プレスの洗浄に伴う汚れの蓄積に
よって親水性が増してくるかもしれない。

この発明の第１の目的はインキの中に水の存在が含まれ
るキーレスリトグラフ印刷プレスシステムにおいて長い
運転寿命が確保される簡単で安価なインキメータリング
ローラを提供することである。

この発明の付加的な目的は、親油性で疎水性の、化学的
に不活性の本質的に有機材料が浸透された微孔性耐磨耗
性の表面層をもつインキメータリングロールを製造する
プロセスを提供することである。

この発明のなおもうひとつの目的は、本来優秀な耐磨耗
性を減じることなしに疎水性で親油性をもつ複合層の部
分として、硬くて耐磨耗性がありしかし本来は親水性の
セラミック材料を使うことができる方法を提供すること
である。

更にこの発明の目的は、高度の耐磨耗性と、水の存在下
における油性インキの保持に対するｉ先約な親和性とを
組合わせた複合構造をもつ改良されたインキングローラ
を提供することである。

この発明のその他の目的と利点は以下に示す付属の明細
書及び図面を参照することによって部分的に明らかにな
り又部分的に説明されるであろう。

発明の要約 この発明は新しい、高速リトグラフ印刷プレスシステム
におけるインキのメータリングに対する改良されたイン
キメータリングロールと、インキングシステムを単純化
し、又印刷プレスの操作中に操作者の調整や注意の程度
を単純化するため提供されるキーレス方式におけるイン
キングシステムに関する。

通常、キーレスインキングシステムを用いる印刷機はイ
ンキ受又はインキ溜１０、ポンプ１１及びインキパンと
結ぶ管１３、その中に位置し摩擦駆動のインキ移しロー
ラ１５にインキを供給するメータリングローラ１３′を
含む。逆角度の掻き取り刃又はメータリング刃１６はメ
ータリングローラ１３′　に対し働き、メータリングロ
ーラ１３′上にインキがあるときはそれがセルの中にあ
る場合を除きそのすべてをとり去る。移しローラ１５か
らのインキは、湿し機２１から供給される水とそこで結
合される実質的に平滑なインキングドラム２０に移され
る。湿し流体は図示のようにインキロール２０へ又は仮
想線２６で示されるように直接プレートロール２５へ、
そのいずれか適当な方法で供給可能である。メータリン
グロール１３′　に対し働く掻きとり刃１６（又は他の
インキ除去手段）は実質的にすべての過剰のインキ皮膜
をそこから連続的に取除くためにある。前述のエレメン
トのすべては、プレス駆動プレートシリンダ２５上に取
りつけられた印刷プレート２８上に均一なインキ皮膜を
供給するために機能する。

シリンダ２５上のプレートは一方画像の形で、例えば、
ブランケットシリンダ３１と加圧シリンダー３２とが協
働して形成する印刷ニップを通して送られるペーパウェ
ブ３０にインキを供給する。

第１図中のすべてのローラは軸が平行に配列される。

その他の多（の印刷機の配列が当業者及びキーレスリト
グラフ印刷科学分野の技術者には明らかにすることがで
きるが、この発明の本来の運用に対し重要な第１の特徴
は以下に検討される。

印刷プレートにつくインキの量は、インキメータリング
ローラの表面に形成される窪み又はインキ受セルの寸法
によって調整され、そのローラは同一の巾の掻きとり刃
又はドクターブレードをもちセル又は窪みの中にあるも
の以外は実質的にすべてのインキをセルのあるメータリ
ングローラから連続的に除去する。

インキメータリングローラは適当な強度、長さ及び直径
をもつ鋼、アルミニウム又は同等の芯材を比較的厚い耐
磨耗性のセラミック材料で適当に被覆されたもので構成
される。ロール表面はすべての場合に彫られる必要はな
いが、レーザ彫刻は正確な寸法と位置をもつセル又は窪
みを形成するために使うことができ、そのセルはインキ
の所望量を正確に計量するために働く掻とりドクターブ
レードを備える。磨耗に関連するローラの実用的な寿命
の間はローラ面のすべての領域においてインキの正確で
連続的な計量を確保するためにセラミック材料は、疎水
性と親油性を示す化学的に不活性で非反応性の有機材料
の高度に流動性のある希薄溶液又は懸濁液で浸透される
。その有機物質は、例えば蒸発によって流体キャリアー
が除かれた後セラミック材料のすき間に残る。

第２図はこの発明のひとつの形態の断面で、ここではメ
ータリングローラ１４をつくるために使われるベースロ
ーラは３５で示されるセラミック被覆が施される前に彫
られる。

図示のセルをもったメータリングローラ１３′は前記の
ように、機械的に彫ったあとで被覆するか又は最初に被
覆したあとレーザーで彫ってローラの被覆面に窪みのセ
ルパターンをつくることができる。窪みの容積と数は印
刷される光学密度仕様に合致するために必要なインキの
容積をベースとし、既知の手法に従って選ばれる。もし
くは、ローラはここに述べられたような硬い、親油性で
疎水性をもつ見かけ上平滑な表面をもっこともできる。

ローラ１３′は通常印刷システムへのインキの供給を計
量するために掻きとり刃又はドクターブレードが共に採
用される。ローラ２ｏは通常その代りに印刷プレートに
接近した位置においてメータリングローラとして採用さ
れ、その位置に存在する使用済の戻りインキの実質的に
全量を印刷システムから除く掻きとり刃（図示しない）
と共に機能する。６−ラ１３′及び１５はそのときは必
要ない。どちらの場合でも、供給されたインキの未使用
部分であるインキの戻りフィルムは、連続的に掻きとら
れインキ溜め１０に導かれ続いてポンプ１１によってセ
ルをもったメータリングローラ１３′　に戻され連続循
環される。これらのキーレスリトグラフ印刷の運転要素
の多くはより詳しく　Ｆａｄｎｅｔらの米国特許第４，
６９０．０５５に記載されている。

アルミナ、タングステンカーバイド、又は酸化クローム
のような普通に得られる硬い耐層性のセラミック及びセ
ラミック様の材料が、それらのすべてはインキングロー
ラの製造者でも得られるが、水性と油性の両方の液体が
存在するときには油ベースのインキの層よりもむしろ水
ベースの層をそれらの表面にもつことを好むということ
を発見した。さまざまなセラミック材料が硬い耐磨耗性
のインキメータリングローラの最上面として、単一の油
ベースの印刷流体を含む凸版印刷に対しても、単一の水
ベースのインキング流体を用いるフレキソグラフィック
印刷システムに対しても機能することが知られていると
はいえ、これらの同じセラミック表面がリトグラフ印刷
に用いられる場合は、十分な湿らせ水がインキを通して
ローラに浸透する時はいつでも、油又は樹脂ベースのイ
ンキを外すようになる。これはセラミック材料のような
親水性又は水を好む性質の表面が、水のないときは親油
性又は油を好む性質であることを考えればより容易に理
解される。新鮮な、未使用の水のないリトグラフインキ
がセラミックに適用される時は、インキは最初はローラ
表面によく着きよく湿す。

このような初期条件下では正常なインキメータリング性
能が観察される。しかしリトグラフ印刷操作の間に、イ
ンキ中の水の含量が増加するにつれて、ローラニップ圧
力とインキ中の水の含量の増加との組合せが水をインキ
層を通してセラミックメータリングローラ表面へ押し込
む条件に到達する。ローラ表面に選好的に吸着すること
によって、水はインキをその表面から追い出し、それに
よって以後インキ供給手段からインキをピックアップす
ることができなくなる。

キーレスリトグラフインキシステムにおけるインキの計
量のために技術の・発達段階にあるセラミック被覆ロー
ラを使用することに伴う水による障害の問題は、親油性
で疎水性の化学的に不活性な有機材料をセラミックロー
ラの表面にしっかりと施しそしてセラミック材料の微孔
層の隙間に浸みこませることによって排除しえることを
発見した。

このように処理されたセラミックローラは、前述の化学
関連のインキ計量欠陥なしにリトグラフ印刷システムに
おいてメータリングローラとして機能する。

この発明のひとつの型式において、鋼又はアルミニウム
又はその他の好適なローラが例えば第２図に示されるの
と同じパターンに機械的に彫られ、ついで芯材の表面に
最初に与えたセル構造を実質的に保持して、約１，２７
から２．０３ｍ（５から８ミル）の最大の厚さに溶射法
によってセラミック被覆がなされる。アルミニウムでつ
くられたベースローラの場合には、ローラは同じ場所に
セラミック様の層を形成するために硬質陽極酸化処理を
施すことができる。析出プロセスは通常セラミック被覆
装置で薄い被覆を繰返し施す必要があり、ついでこの明
細書の他のところに記載されたような選ばれた有機物質
が浸透される。

別法として、ローラ芯材は同様に機械的に彫られ、つい
で通常約０．０３から０．　０５ｍｍ（０，１から０．
２ミル）未満の厚さの被覆にセラミック粉の薄い被膜で
ワンバスの溶射被覆が施され、そのあと有機親油性、疎
水性材料で浸透され、その後別のセラミック被覆パスが
施されついで別の浸透処理がなされ、このようにして逐
次被覆、浸透処理によって所望の１．２７から２．０３
ｍｍ（５から８ミル）厚のセラミック被覆がつくりあげ
られるまで繰返される。

所望の多孔層は又、鋼又はアルミニウムローラ芯材を選
ばれたセラミック粒子を用いたマルチパス溶射被覆に曝
すことによっても得られ、０．７６から２．５４ｍｍ（
３から１０ミル）又はそれ以上の被覆がつくりあげられ
る。第４図及び第５図において４０で示されるようなこ
の被覆はついで例えば第５図において画かれるようなセ
ルパターン４１をつくるためにレーザで彫られ、その後
セラミック表面に有機の親油性で疎水性の材料が浸透さ
れる。

同じ種類の構造は、親油性で疎水性を示す所望ノ有機／
セラミック被覆厚さを得るために、約６から２０回のシ
リーズ又はそのようなシーケンスにおけるそれぞれの溶
射被覆パスの後に親油性で疎水性の有機物が施され、つ
いで所望のインキ保有容量をつくるためにレーザで彫る
ことによって得ることができる。

数種の化学的不活性の有機親油性疎水性材料を使うこと
ができる。これらの材料は一般的に可溶性固体でありそ
してその故にミスト、スプレー、浸漬又はその他の周知
の施工法によって施すことができる液体でもある。親油
性で疎水性の材料を施す重要な目的のひとつは、微孔性
セラミック粉末被覆表面を親油性で疎水性の有機物をで
きる限り深くセラミック被覆の中に浸透させることによ
って可能な限り親油性でかつ疎水性にすることである。

高度に流動性の液体系が好ましい。簡単なスプレー塗装
技術はローラ回転による浸漬塗装と同様に適切である。

溶剤中の親油性で疎水性の有機物の希薄溶液は数秒ない
し数分間放置することによってセラミック被覆の隙間に
深く浸透させることを助長するであろう。

すべての場合、親油性で疎水性の材料は本質的に非流動
性でセラミック粉末被覆の空隙及び表面にしっかり接着
するか又はその中に封じ込めるようにしなければならな
い。この発明の目的は、セラミックに関し又それ自体が
化学的に不活性である選ばれた材料を浸透させることに
よって達成される。通常これらは、それに取り込まれる
化学的に非反応性のグループをもつ長鎖の炭化水素又は
実質的に炭化水素高分子材料である。この要件を充す材
料は例えばさまざまな非反応性物質である、（１）ポリ
　（アクリロニトリル９ブタジエンスチレン）；（ｂ）
　　ポリ（アクリルスチレンアクリロニトリル）；（Ｃ
）ポリエチレン；（ｄ）ポリプロピレン；（ｅ）　ポリ
（スチレンアクリロニトリル）；（ｆ）　ポリスチレン
；（ｇ）ポリフェニルスルフィド；（ｈ）ポリ（フェニ
レンエーテルフェニルオキシド）；（ｉ）　ポリブタジ
ェン；及び（ｉ）ポリブテンである。

これらのクラスのその他の有用な親油性で疎水性の材料
は化学及び高分子科学の当業者にとっては明らかであり
又ここに開示されたこの発明の原理をベースとすれば明
らかである。

第６図は親油性で疎水性の材料がセラミック被覆によっ
て形成される空隙に浸透する方式を図解している。第６
図において５０は一般的に耐層耗層複合体を示し、５１
はセラミック材料の粒子を示し、５２は浸透した親油性
で疎水性の有機材料を示す。最大の有効寿命をえるため
には着いたセラミック層によって形成された空隙のすべ
ての連通ネットワークが層の全容積に亘って実質的に完
全に浸透されていることが好ましい。

この発明の実施に好適な、ある一般的な又は特定の親油
性で疎水性の材料の開示にも拘らず、リドゲラフィンキ
ングローラとして得られたローラの使用に対する重要な
基準が、浸透されたローラの表面にインキオイル及び水
の滴が自然に拡がる程度を測定することによって大なり
小なり予測することができる。標準の表面化学の教科書
に記載されているような無柄滴（＠ｅｓｓｉｌｅ　ｄｒ
ｏｐ）の技術はこの性質の測定に有用である。一般的に
、親油性で疎水性のローラ材料はインキオイル（Ｆ！１
ｎｊＩｎｋ　Ｃｏ、　）の接触角約００をもち、蒸留水
の接触角約９０°又はそれ以上をもち、この値は親油性
で疎水性の材料を定義するのに役立つ。

例えば下記のルールはこの原理に従って材料を選ぶため
に建設的ではあるが限定的ではないということを発見し
た。

最高　　　　　　水接触角　９０°又はそれ以上インキ
オイル接触角　１０°又 はそれ以下で拡散 多分受入れ可　　水接触角　８０°又はそれ以上インキ
オイル接触角　１０°又 はそれ以下で拡散 多分受入れ不可　水接触角　８０°未満インキオイル接
触角　１０°以 上及び／又は非拡散 この親油性と疎水性をここに定義したようにもつ材料は
リトグラフ印刷プレス版の実施において、インキと水の
両者がその表面に存在するか押し込まれたときに水又は
湿し剤に優先してその表面にリトグラフインキを受入れ
、保有し、維持するであろう。そしてリトグラフ印刷イ
ンキングローラ列に用いられるローラを、ひとつ又はそ
れ以上のインキングローラから水によってインキを離脱
させることにより印刷インキの比重調整の低下なしに印
刷される基板に対しインキ溜からインキを移し替えるの
を助長するように仕向けることができるのは、この親油
性と疎水性の組合せによるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明のインキメータリングロールを組みこ
んだリトグラフ印刷の配列を説明するキーレスリトグラ
フ印刷システムの輪郭の側面系統図である。 第２図はこの発明のロールの部分断面図でインキを保持
するために備えられた窪みをもつ滲透した耐磨耗性表面
を示す図である。 第３図は第２図と同様の断面図であるが、個々に形成さ
れたインキを受ける窪みのないローラをもつ図である。 第４図は第２図と同様の断面図であるが、個々に形成さ
れたインキを受ける窪みの変形を示す図である。 第５図は第４図の平面図である。 第６図は微孔性セラミック層の拡大説明断面図で親油性
で疎水性の反応生成物の配置を示す図である。

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. （１）印刷を形成する媒体として油ベースインキと水と
   の混合物を用いるキーレス印刷に使用されるインキメー
   タリングローラであって以下を含むもの。 ａ、実質的に円筒形の外表面をもち予め選ばれた強度と
   直径と長さをもつベースローラ。ｂ、前述のベースロー
   ラの外表面に対する連続の微孔性セラミック層成形体で
   あって、前述の微孔性層が前述のセラミック層の実質的
   に全容積に亘って透過している空隙が相互に結び合わさ
   れたネットワークを形づくるもの。及び ｃ、以下の構成グループから選ばれた親油性で疎水性の
   化学的に不活性の有機材料。 ａ）、ポリ（アクリロニトリルブタジエンスチレン）共
   重合体； ｂ）、ポリ（アクリルスチレンアクリロニトリル）共重
   合体； ｃ）、ポリエチレン； ｄ）、ポリプロピレン； ｅ）、ポリ（スチレンアクリロニトリル） 共重合体； ｆ）、ポリスチレン； ｇ）、ポリフェニルスルフィド； ｈ）、ポリフェニレンスルフィド； ｉ）、ポリ（フェニレンエーテルフェニルオキシド）共
   重合体； ｊ）、ポリブタジエン；及び ｋ）、ポリブテン。
2. （２）請求項（１）に記載のインキメータリングローラ
   であって、前述の微孔性セラミック層が約０．７６から
   ２．０３ｍｍ（３から８ミル）の厚さであることを特徴
   とするもの。
3. （３）請求項（１）に記載のインキメータリングローラ
   であって、前述の親油性で疎水性の化学的に不活性の有
   機材料がポリ（アクリロニトリルブタジエンスチレン）
   共重合体であることを特徴とするもの。
4. （４）請求項（１）に記載のインキメータリングローラ
   であって、前述の親油性で疎水性の化学的に不活性の有
   機材料がポリ（アクリルスチレンアクリロニトリル）共
   重合体であることを特徴とするもの。
5. （５）請求項（１）に記載のインキメータリングローラ
   であって、前述の親油性で疎水性の化学的に不活性の有
   機材料がポリエチレンであることを特徴とするもの。
6. （６）請求項（１）に記載のインキメータリングローラ
   であって、前述の親油性で疎水性の化学的に不活性の有
   機材料がポリプロピレンであることを特徴とするもの。
7. （７）請求項（１）に記載のインキメータリングローラ
   であって、前述の親油性で疎水性の化学的に不活性の有
   機材料がポリ（スチレンアクリロニトリル）共重合体で
   あることを特徴とするもの。
8. （８）請求項（１）記載のインキメータリングローラで
   あって、前述の親油性で疎水性の化学的に不活性の有機
   材料がポリスチレンであることを特徴とするもの。
9. （９）請求項（１）に記載のインキメータリングローラ
   であって、前述の親油性で疎水性の化学的に不活性の有
   機材料がポリフェニルスルフィドであることを特徴とす
   るもの。
10. （１０）請求項（１）に記載のインキメータリングロー
    ラであって、前述の親油性で疎水性の化学的に不活性の
    有機材料がポリフェニレンスルフィドであることを特徴
    とするもの。
11. （１１）請求項（１）に記載のインキメータリングロー
    ラであって、前述の親油性で疎水性の化学的に不活性の
    有機材料がポリ（フェニレンエーテルフェニルオキシド
    ）共重合体であることを特徴とするもの。
12. （１２）請求項（１）に記載のインキメータリングロー
    ラであって、前述の親油性で疎水性の化学的に不活性の
    有機材料がポリブタジエンであることを特徴とするもの
    。
13. （１３）請求項（１）に記載のインキメータリングロー
    ラであって、前述の親油性で疎水性の化学的に不活性の
    有機材料がポリブテンであることを特徴とするもの。
14. （１４）親油性で疎水性の性質をもつ耐磨耗性のインキ
    メータリングローラを製造するプロセスにおいて以下を
    含むステップ。 ａ、実質的に微孔性層の全容積に亘って透過する空隙の
    相互に結び合わされたネットワークを形づくる微孔性セ
    ラミック材料で形成される実質的に円筒形の表面層をも
    つロールを用意する。 ｂ、以下の構成グループから選ばれた親油性で疎水性の
    化学的に不活性の有機材料からなるグループから選ばれ
    た有機材料の溶質を相互に結び合わされたネットワーク
    に浸透する。 ａ）、ポリ（アクリロニトリルブタジエンスチレン）共
    重合体； ｂ）、ポリ（アクリルスチレンアクリロニトリル）共重
    合体； ｃ）、ポリエチレン； ｄ）、ポリプロピレン； ｅ）、ポリ（スチレンアクリロニトリル）共重合体； ｆ）、ポリスチレン； ｇ）、ポリフェニルスルフィド； ｈ）、ポリフェニレンスルフィド； ｉ）、ポリ（フェニレンエーテルフェニルオキシド）共
    重合体； ｊ）、ポリブタジエン；及び ｋ）、ポリブテン。
15. （１５）複数の被覆インキングローラを含む、印刷形成
    媒体として油ベースインキと水との混合物を用いる印刷
    で使用されるインキングシステムであって、前述のイン
    キングローラのひとつが以下を含むインキメータリング
    ローラであるもの。 ａ、本質的に円筒形の外表面をもつ予め選ばれた強度と
    直径と長さをもつベースローラ。ｂ、前述のベースロー
    ラの表面に密着結合した連続の微孔性セラミック層であ
    つて、前述の微孔性層が前述のセラミック層の実質的に
    全容積に亘って透過している空隙が相互に結び合わされ
    たネットワークを形づくるもの。 ｃ、以下の構成グループから選ばれた親油性で疎水性の
    化学的に不活性の有機材料からなるグループから選ばれ
    た有機材料をもつ前述の微孔性セラミックの親油性で疎
    水性の材料。 ａ）、ポリ（アクリロニトリルブタジエンスチレン）共
    重合体； ｂ）、ポリ（アクリルスチレンアクリロニトリル）共重
    合体； ｃ）、ポリエチレン； ｄ）、ポリプロピレン； ｅ）、ポリ（スチレンアクリロニトリル）共重合体； ｆ）、ポリスチレン； ｇ）、ポリフェニルスルフィド； ｈ）、ポリフェニレンスルフィド； ｉ）、ポリ（フェニレンエーテルフェニルオキシド）共
    重合体； ｊ）、ポリブタジエン； ｋ）、ポリブテン；及び ｌ）、前述の浸透微孔性セラミック被覆ベースロールに
    逆の角度で接触するように取付けられた過剰のインキを
    それから除くための掻きとり手段。