JPH07427B2 - 疎水性で親油性の微孔性インキメータリングローラ - Google Patents
疎水性で親油性の微孔性インキメータリングローラInfo
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- JPH07427B2 JPH07427B2 JP2054792A JP5479290A JPH07427B2 JP H07427 B2 JPH07427 B2 JP H07427B2 JP 2054792 A JP2054792 A JP 2054792A JP 5479290 A JP5479290 A JP 5479290A JP H07427 B2 JPH07427 B2 JP H07427B2
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- B41N7/06—Shells for rollers of printing machines for inking rollers
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- Inking, Control Or Cleaning Of Printing Machines (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Impression-Transfer Materials And Handling Thereof (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 発明の背景 リトグラフ印刷に対するキーレスインキングの実施にお
いて、そこではインキは印刷システムにメータリングロ
ーラとそれと共同する掻とりブレードの手段で計量供給
(メータ)されるのであるが、Fadnerは米国特許第4,60
1,242において、FadnerとHyenerは米国特許第4,537,127
において、又Fadnerは米国特許第4,603,634において、
インキメータリングローラの表面が疎水性と親油性の二
重の性質をもち、それが撥水性でかつ油をひきつけ易い
有利な方法と手段を開示した。この二重の性質はリトグ
ラフのインキメータリングローラがインキを保持する寸
法割のセルを形成することもインキを保持することがで
きる不規則に配列された空隙をもつ表面を形成すること
も可能にする。キーレスインキングの実際問題において
は、リトグラフィーが使われるインキのフィルム中に水
の存在を要求するので、インキメータリングローラの表
面に親油性と疎水性をもつことが重要である。インキメ
ータリングローラ表面に親水性又は水をひきつける部分
があると、水がそれらの部分からインキを追い出したり
外したりし、それによってローラのインキの保持やイン
キの計量供給能力を途絶させるであろう。
いて、そこではインキは印刷システムにメータリングロ
ーラとそれと共同する掻とりブレードの手段で計量供給
(メータ)されるのであるが、Fadnerは米国特許第4,60
1,242において、FadnerとHyenerは米国特許第4,537,127
において、又Fadnerは米国特許第4,603,634において、
インキメータリングローラの表面が疎水性と親油性の二
重の性質をもち、それが撥水性でかつ油をひきつけ易い
有利な方法と手段を開示した。この二重の性質はリトグ
ラフのインキメータリングローラがインキを保持する寸
法割のセルを形成することもインキを保持することがで
きる不規則に配列された空隙をもつ表面を形成すること
も可能にする。キーレスインキングの実際問題において
は、リトグラフィーが使われるインキのフィルム中に水
の存在を要求するので、インキメータリングローラの表
面に親油性と疎水性をもつことが重要である。インキメ
ータリングローラ表面に親水性又は水をひきつける部分
があると、水がそれらの部分からインキを追い出したり
外したりし、それによってローラのインキの保持やイン
キの計量供給能力を途絶させるであろう。
上述のFadnerらの初期の技術文献は又、疎水性でかつ親
油性であるメータリングローラを備えることによって一
貫したインキの計量供給が確保された場合でも、インキ
ングローラ上のインキフィルムの水含量は、印刷される
フォーマットを満足するのに消費されるインキと水の相
対的な量によって、プレスの巾の中で異るかもしれない
と教示している。1回の印刷運転の間プレスのどこにも
均一にはインキを供給するためには一定の組成のインキ
を印刷プレートのすべての部分に連続的に確実に送るこ
とが必要である。プレスの全巾に亘って一定の組成のイ
ンキを送らなければ、低い印刷密度の領域では水の含量
が増加する傾向となり、望ましくない品質の印刷が生じ
る。プレスの全巾に亘って均一のインキ組成を得る方法
はFadnerらによって米国特許第4,690,055に開示されて
いる。
油性であるメータリングローラを備えることによって一
貫したインキの計量供給が確保された場合でも、インキ
ングローラ上のインキフィルムの水含量は、印刷される
フォーマットを満足するのに消費されるインキと水の相
対的な量によって、プレスの巾の中で異るかもしれない
と教示している。1回の印刷運転の間プレスのどこにも
均一にはインキを供給するためには一定の組成のインキ
を印刷プレートのすべての部分に連続的に確実に送るこ
とが必要である。プレスの全巾に亘って一定の組成のイ
ンキを送らなければ、低い印刷密度の領域では水の含量
が増加する傾向となり、望ましくない品質の印刷が生じ
る。プレスの全巾に亘って均一のインキ組成を得る方法
はFadnerらによって米国特許第4,690,055に開示されて
いる。
サトウ及びハラダによって米国特許第4,637,310におい
て開示されたセルをもつメータリングローラのランド面
積のように、又はWarnerによって米国特許第4,287,827
に開示されたセルのない平滑表面のメータリングローラ
のように、親水領域がランダム又は幾何学的に均一な方
法のどちらかで意図的に含まれている時は、親水性領域
から離脱するインキによるどんな水の障害でも親水領域
を形成するときに選ばれたパターンに一致するために、
インキの計量供給の予測が達成されるであろうことは推
論しえる。しかし、プレスの全巾に亘る水とインキの
量、従ってそれぞれが要求する相対的な量はいかなる場
合も使われる印刷プレートの画像及び非画像のフォーマ
ットによって決定される。印刷フォーマットは一般的に
均一でなく又印刷運転毎に同じであることは稀である。
結論的に、親油性及び親水性の技術を用いた装置を運転
するときは水によって離脱するインキの範囲はメータリ
ングローラのさまざまな場所におけるインキ中にその時
その時に存在する水の量による。これらの場所は一方で
は印刷プレート上のフォーマットを印刷するために必要
なさまざまなプレスに亘るインキと水の量に相当する。
親水性領域におけるインキ中の水の含量が高いほど対応
する領域におけるインキの離脱のためにインキの保持能
力が低減する傾向が強くなる。結果は、印刷フォーマッ
トが変更されるとプレスの運転毎にインキの供給が変
り、それに付随して予期よりも低い又は予期以上に高い
光学密度の印刷領域ができる。
て開示されたセルをもつメータリングローラのランド面
積のように、又はWarnerによって米国特許第4,287,827
に開示されたセルのない平滑表面のメータリングローラ
のように、親水領域がランダム又は幾何学的に均一な方
法のどちらかで意図的に含まれている時は、親水性領域
から離脱するインキによるどんな水の障害でも親水領域
を形成するときに選ばれたパターンに一致するために、
インキの計量供給の予測が達成されるであろうことは推
論しえる。しかし、プレスの全巾に亘る水とインキの
量、従ってそれぞれが要求する相対的な量はいかなる場
合も使われる印刷プレートの画像及び非画像のフォーマ
ットによって決定される。印刷フォーマットは一般的に
均一でなく又印刷運転毎に同じであることは稀である。
結論的に、親油性及び親水性の技術を用いた装置を運転
するときは水によって離脱するインキの範囲はメータリ
ングローラのさまざまな場所におけるインキ中にその時
その時に存在する水の量による。これらの場所は一方で
は印刷プレート上のフォーマットを印刷するために必要
なさまざまなプレスに亘るインキと水の量に相当する。
親水性領域におけるインキ中の水の含量が高いほど対応
する領域におけるインキの離脱のためにインキの保持能
力が低減する傾向が強くなる。結果は、印刷フォーマッ
トが変更されるとプレスの運転毎にインキの供給が変
り、それに付随して予期よりも低い又は予期以上に高い
光学密度の印刷領域ができる。
クロムとアルミニウムの酸化物及びタングステンカーバ
イトのような硬質セラミック材料は本来高エネルギー材
料で、相応じて水の存在下では親水性になる傾向があり
油性材料だけの存在下では親油性になる傾向がある。こ
れらの材料を用いて製作されたメータリングローラは、
凸版印刷では水ベースのインキにも油ベースのインキに
もしばしばうまく使われているが、水をもった油ベース
のインキを使うリトグラフ印刷では一貫した品質のイン
キを出すのに失敗する。出るインキのバラツキの程度は
インキ中の水がローラのセラミック面からインキを排除
しあるいは離脱させるかそうでないかによって決まる。
前にも記載したように、離脱の程度はクロス−プレスの
すべての選ばれた位置におけるインキ中の水分含量によ
り、その水分含量は一方又印刷されるフォーマットによ
る。
イトのような硬質セラミック材料は本来高エネルギー材
料で、相応じて水の存在下では親水性になる傾向があり
油性材料だけの存在下では親油性になる傾向がある。こ
れらの材料を用いて製作されたメータリングローラは、
凸版印刷では水ベースのインキにも油ベースのインキに
もしばしばうまく使われているが、水をもった油ベース
のインキを使うリトグラフ印刷では一貫した品質のイン
キを出すのに失敗する。出るインキのバラツキの程度は
インキ中の水がローラのセラミック面からインキを排除
しあるいは離脱させるかそうでないかによって決まる。
前にも記載したように、離脱の程度はクロス−プレスの
すべての選ばれた位置におけるインキ中の水分含量によ
り、その水分含量は一方又印刷されるフォーマットによ
る。
前に引用したようにFadnerは米国特許第4,601,242にお
いて、有利な硬い耐磨耗性のセラミックの性質を用いて
かなり長寿命のリトグラフ用インキメータリングローラ
を得る方法を開示している。明らかに、セラミック粉
末、特にアルミナは、銅メッキのメータリングローラベ
ースの上に意図的に約0.51mm(2ミル)未満の薄い層が
溶射される。銅は本来疎水性で親油性である。この方法
は表面があたかも銅であったかのように働くインキと水
との相互作用に関する十分な粒間空隙をもつ硬い耐磨耗
表面をつくり、その結果水に優先してインキを保持し、
しかも同時にかき取り刃の磨耗作用に対して耐磨耗性セ
ラミック材料として働く。商業的に実行可能とはいえ、
下層の銅の親油性をセラミック層によって示される親水
性によって打ち消されないことを確実にするためにセラ
ミック層を比較的薄くしなければならないので、この型
のロールは約2千万から3千万回の印刷プレスの寿命で
ある。更に本来親水性であるセラミック層は、使用と印
刷プレスの洗浄に伴う汚れの蓄積によって親水性が増し
てくるかもしれない。
いて、有利な硬い耐磨耗性のセラミックの性質を用いて
かなり長寿命のリトグラフ用インキメータリングローラ
を得る方法を開示している。明らかに、セラミック粉
末、特にアルミナは、銅メッキのメータリングローラベ
ースの上に意図的に約0.51mm(2ミル)未満の薄い層が
溶射される。銅は本来疎水性で親油性である。この方法
は表面があたかも銅であったかのように働くインキと水
との相互作用に関する十分な粒間空隙をもつ硬い耐磨耗
表面をつくり、その結果水に優先してインキを保持し、
しかも同時にかき取り刃の磨耗作用に対して耐磨耗性セ
ラミック材料として働く。商業的に実行可能とはいえ、
下層の銅の親油性をセラミック層によって示される親水
性によって打ち消されないことを確実にするためにセラ
ミック層を比較的薄くしなければならないので、この型
のロールは約2千万から3千万回の印刷プレスの寿命で
ある。更に本来親水性であるセラミック層は、使用と印
刷プレスの洗浄に伴う汚れの蓄積によって親水性が増し
てくるかもしれない。
この発明の第1の目的はインキの中に水の存在が含まれ
るキーレスリトグラフ印刷プレスシステムにおいて長い
運転寿命が確保される簡単で安価なインキメータリング
ローラを提供することである。
るキーレスリトグラフ印刷プレスシステムにおいて長い
運転寿命が確保される簡単で安価なインキメータリング
ローラを提供することである。
この発明の付加的な目的は、セラミックと反応して親油
性で疎水性の、反応生成物表面層を形成する本質的に有
機材料が浸透された微孔性耐磨耗性の表面層をもつイン
キメータリングロールを製造する方法を提供することで
ある。
性で疎水性の、反応生成物表面層を形成する本質的に有
機材料が浸透された微孔性耐磨耗性の表面層をもつイン
キメータリングロールを製造する方法を提供することで
ある。
この発明のなおもうひとつの目的は、本来優秀な耐磨耗
性を減じることなしに硬くて耐磨耗性がありしかし本来
は親水性のセラミック材料を疎水性で親油性にすること
ができる方法を提供することである。
性を減じることなしに硬くて耐磨耗性がありしかし本来
は親水性のセラミック材料を疎水性で親油性にすること
ができる方法を提供することである。
更にこの発明の目的は、高度の耐磨耗性と、水の存在下
における油性インキの保持に対する優先的な親和性とを
組合わせた複合構造をもつ改良されたインキングローラ
を提供することである。
における油性インキの保持に対する優先的な親和性とを
組合わせた複合構造をもつ改良されたインキングローラ
を提供することである。
この発明のその他の目的と利点は以下に示す付属の明細
書及び図面を参照することによって部分的に明らかにな
り又部分的に説明されるであろう。
書及び図面を参照することによって部分的に明らかにな
り又部分的に説明されるであろう。
発明の要約 この発明は新しい、高速リトグラフ印刷プレスシステム
におけるインキのメータリングに対する改良されたイン
キメータリングロールと、インキングシステムを単純化
し、又印刷プレスの操作中に操作者の調整や注意の程度
を単純化するため提供されるキーレス方式におけるイン
キングシステムに関する。
におけるインキのメータリングに対する改良されたイン
キメータリングロールと、インキングシステムを単純化
し、又印刷プレスの操作中に操作者の調整や注意の程度
を単純化するため提供されるキーレス方式におけるイン
キングシステムに関する。
通常、キーレスインキングシステムを用いる印刷機はイ
ンキ受又はインキ溜10、ポンプ11及びインキパンと結ぶ
管13、その中に位置し摩擦駆動のインキ移しローラ15に
インキを供給するメータリングローラ13′を含む。逆角
度の掻き取り刃又はメータリング刃16はメータリングロ
ーラ13′に対し働き、メータリングローラ13′上にイン
キがあるときはそれがセルの中にある場合を除きそのす
べてをとり去る。移しローラ15からのインキは、湿し機
21から供給される水とそこで結合される実質的に平滑な
インキングドラム20に移される。湿し流体は図示のよう
にインキロール20へ又は仮想線26で示されるように直接
プレートロール25へ、そのいずれか適当な方法で供給可
能である。メータリングロール13′に対し働く掻きとり
刃16(又は他のインキ除去手段)は実質的にすべての過
剰のインキ皮膜をそこから連続的に取除くためにある。
前述のエレメントのすべては、プレス駆動プレートシリ
ンダ25上に取りつけられた印刷プレート28上に均一なイ
ンキ皮膜を供給するために機能する。シリンダ25上のプ
レートは一方画像の形で、例えば、ブランケットシリン
ダ31と加圧シリンダー32とが協働して形成する印刷ニッ
プを通して送られるペーパウエブ30にインキを供給す
る。第1図中のすべてのローラは軸が平行に配列され
る。
ンキ受又はインキ溜10、ポンプ11及びインキパンと結ぶ
管13、その中に位置し摩擦駆動のインキ移しローラ15に
インキを供給するメータリングローラ13′を含む。逆角
度の掻き取り刃又はメータリング刃16はメータリングロ
ーラ13′に対し働き、メータリングローラ13′上にイン
キがあるときはそれがセルの中にある場合を除きそのす
べてをとり去る。移しローラ15からのインキは、湿し機
21から供給される水とそこで結合される実質的に平滑な
インキングドラム20に移される。湿し流体は図示のよう
にインキロール20へ又は仮想線26で示されるように直接
プレートロール25へ、そのいずれか適当な方法で供給可
能である。メータリングロール13′に対し働く掻きとり
刃16(又は他のインキ除去手段)は実質的にすべての過
剰のインキ皮膜をそこから連続的に取除くためにある。
前述のエレメントのすべては、プレス駆動プレートシリ
ンダ25上に取りつけられた印刷プレート28上に均一なイ
ンキ皮膜を供給するために機能する。シリンダ25上のプ
レートは一方画像の形で、例えば、ブランケットシリン
ダ31と加圧シリンダー32とが協働して形成する印刷ニッ
プを通して送られるペーパウエブ30にインキを供給す
る。第1図中のすべてのローラは軸が平行に配列され
る。
その他の多くの印刷機の配列が当業者及びキーレスリト
グラフ印刷科学分野の技術者には明らかにすることがで
きるが、この発明の本来の運用に対し重要な第1の特徴
は以下に検討される。
グラフ印刷科学分野の技術者には明らかにすることがで
きるが、この発明の本来の運用に対し重要な第1の特徴
は以下に検討される。
印刷プレートにつくインキの量は、インキメータリング
ローラの表面に形成される窪み又はインキ受セルの寸法
によって調整され、そのローラは同一の巾の掻きとり刃
又はドクターブレードをもちセル又は窪みの中にあるも
の以外は実質的にすべてのインキをセルのあるメータリ
ングローラから連続的に除去する。
ローラの表面に形成される窪み又はインキ受セルの寸法
によって調整され、そのローラは同一の巾の掻きとり刃
又はドクターブレードをもちセル又は窪みの中にあるも
の以外は実質的にすべてのインキをセルのあるメータリ
ングローラから連続的に除去する。
インキメータリングローラは適当な強度、長さ及び直径
をもつ鋼、アルミニウム又は同等の芯材を比較的厚い耐
磨耗性のセラミック材料で適当に被覆されたもので構成
される。ロール表面はすべての場合に彫られる必要はな
いが、レーザ彫刻は正確な寸法と位置をもつセル又は窪
みを形成するために使うことができ、そのセルはインキ
の所望量を正確に計量するために働く掻とりドクターブ
レードを備える。磨耗に関連するローラの実用的な寿命
の間はローラ面のすべての領域においてインキの正確で
連続的な計量を確保するためにセラミック材料は、セラ
ミックマトリックスと反応して疎水性で親油性の反応生
成物を形成する材料で浸透される。
をもつ鋼、アルミニウム又は同等の芯材を比較的厚い耐
磨耗性のセラミック材料で適当に被覆されたもので構成
される。ロール表面はすべての場合に彫られる必要はな
いが、レーザ彫刻は正確な寸法と位置をもつセル又は窪
みを形成するために使うことができ、そのセルはインキ
の所望量を正確に計量するために働く掻とりドクターブ
レードを備える。磨耗に関連するローラの実用的な寿命
の間はローラ面のすべての領域においてインキの正確で
連続的な計量を確保するためにセラミック材料は、セラ
ミックマトリックスと反応して疎水性で親油性の反応生
成物を形成する材料で浸透される。
第2図はこの発明のひとつの形態の断面で、ここではメ
ータリングローラ14をつくるために使われるベースロー
ラは35で示されるセラミック被覆が施される前に彫られ
る。
ータリングローラ14をつくるために使われるベースロー
ラは35で示されるセラミック被覆が施される前に彫られ
る。
図示のセルをもったメータリングローラ13′は前記のよ
うに、機械的に彫ったあとで被覆するか又は最初に被覆
したあとレーザーで彫ってローラの被覆面に窪みのセル
パターンをつくることができる。窪みの容積と数は印刷
される光学密度仕様に合致するために必要なインキの容
積をベースとし、既知の手法に従って選ばれる。もしく
は、ローラはここに述べられたような硬い、親油性で疎
水性をもつ見かけ上平滑な表面をもつこともできる。
うに、機械的に彫ったあとで被覆するか又は最初に被覆
したあとレーザーで彫ってローラの被覆面に窪みのセル
パターンをつくることができる。窪みの容積と数は印刷
される光学密度仕様に合致するために必要なインキの容
積をベースとし、既知の手法に従って選ばれる。もしく
は、ローラはここに述べられたような硬い、親油性で疎
水性をもつ見かけ上平滑な表面をもつこともできる。
ローラ13′は通常印刷システムへのインキの供給を計量
するために掻きとり刃又はドクターブレードが共に採用
される。ローラ20は通常その代りに印刷プレートに近接
した位置においてメータリングローラとして採用され、
その位置に存在する使用済の戻りインキの実質的に全量
を印刷システムから除く掻きとり刃(図示しない)と共
に機能する。ローラ13′及び15はそのときは必要ない。
どちらの場合でも、供給されたインキの未使用部分であ
るインキの戻りフィルムは、連続的に掻きとられインキ
溜め10に導かれ続いてポンプ11によってセルをもったメ
ータリングローラ13′に戻され連続循環される。これら
のキーレスリトグラフ印刷の運転要素の多くはより詳し
くFadnerらの米国特許第4,690,055に記載されている。
するために掻きとり刃又はドクターブレードが共に採用
される。ローラ20は通常その代りに印刷プレートに近接
した位置においてメータリングローラとして採用され、
その位置に存在する使用済の戻りインキの実質的に全量
を印刷システムから除く掻きとり刃(図示しない)と共
に機能する。ローラ13′及び15はそのときは必要ない。
どちらの場合でも、供給されたインキの未使用部分であ
るインキの戻りフィルムは、連続的に掻きとられインキ
溜め10に導かれ続いてポンプ11によってセルをもったメ
ータリングローラ13′に戻され連続循環される。これら
のキーレスリトグラフ印刷の運転要素の多くはより詳し
くFadnerらの米国特許第4,690,055に記載されている。
アルミナ、タングステンカーバイト、又は酸化クローム
のような普通に得られる硬い耐磨性のセラミック及びセ
ラミック様の材料が、それらのすべてはインキングロー
ラの製造者でも得られるが、水性と油性の両方の液体が
存在するときには油ベースのインキの層よりもむしろ水
ベースの層をそれらの表面にもつことを好むということ
を発見した。さまざまなセラミック材料が硬い耐磨耗性
のインキメータリングローラの最上面として、単一の油
ベースの印刷流体を含む凸版印刷に対しても、単一の水
ベースのインキング流体を用いるフレキソグラフィック
印刷システムに対しても機能することが知られていると
はいえ、これらの同じセラミック表面がリトグラフ印刷
に用いられる場合は、十分な湿らせ水がインキを通して
ローラに浸透する時はいつでも、油又は樹脂ベースのイ
ンキを外すようになる。これはセラミック材料のような
親水性又は水を好む性質の表面が、水のないときは親油
性又は油を好む性質であることを考えればより容易に理
解される。新鮮な、未使用の水のないリトグラフインキ
がセラミックに適用される時は、インキは最初はローラ
表面によく着きよく湿す。このような初期条件下では正
常なインキメータリング性能が観察される。しかしリト
グラフ印刷操作の間に、インキ中の水の含量が増加する
につれて、ローラニップ圧力とインキ中の水の含量の増
加との組合せが水をインキ層を通してセラミックメータ
リングローラ表面へ押し込む条件に到達する。ローラ表
面に選好的に吸着することによって、水はインキをその
表面から追い出し、それによって以後インキ供給手段か
らインキをピックアップすることができなくなる。
のような普通に得られる硬い耐磨性のセラミック及びセ
ラミック様の材料が、それらのすべてはインキングロー
ラの製造者でも得られるが、水性と油性の両方の液体が
存在するときには油ベースのインキの層よりもむしろ水
ベースの層をそれらの表面にもつことを好むということ
を発見した。さまざまなセラミック材料が硬い耐磨耗性
のインキメータリングローラの最上面として、単一の油
ベースの印刷流体を含む凸版印刷に対しても、単一の水
ベースのインキング流体を用いるフレキソグラフィック
印刷システムに対しても機能することが知られていると
はいえ、これらの同じセラミック表面がリトグラフ印刷
に用いられる場合は、十分な湿らせ水がインキを通して
ローラに浸透する時はいつでも、油又は樹脂ベースのイ
ンキを外すようになる。これはセラミック材料のような
親水性又は水を好む性質の表面が、水のないときは親油
性又は油を好む性質であることを考えればより容易に理
解される。新鮮な、未使用の水のないリトグラフインキ
がセラミックに適用される時は、インキは最初はローラ
表面によく着きよく湿す。このような初期条件下では正
常なインキメータリング性能が観察される。しかしリト
グラフ印刷操作の間に、インキ中の水の含量が増加する
につれて、ローラニップ圧力とインキ中の水の含量の増
加との組合せが水をインキ層を通してセラミックメータ
リングローラ表面へ押し込む条件に到達する。ローラ表
面に選好的に吸着することによって、水はインキをその
表面から追い出し、それによって以後インキ供給手段か
らインキをピックアップすることができなくなる。
キーレスリトグラフインキングシステムにおけるインキ
の計量のために技術の発達段階にあるセラミック被覆ロ
ーラを使用することに伴う水による障害の問題は、セラ
ミックと反応して親油性と疎水性とをもつ反応生成物を
形成する材料をセラミックローラの表面にしっかりと施
しそしてセラミック材料の微孔層の隙間に浸みこませる
ことによって排除しえることを発見した。このように処
理されたセラミックローラは、前述の化学関連のインキ
計量欠陥なしにリトグラフ印刷システムにおいてメータ
リングローラとして機能する。
の計量のために技術の発達段階にあるセラミック被覆ロ
ーラを使用することに伴う水による障害の問題は、セラ
ミックと反応して親油性と疎水性とをもつ反応生成物を
形成する材料をセラミックローラの表面にしっかりと施
しそしてセラミック材料の微孔層の隙間に浸みこませる
ことによって排除しえることを発見した。このように処
理されたセラミックローラは、前述の化学関連のインキ
計量欠陥なしにリトグラフ印刷システムにおいてメータ
リングローラとして機能する。
この発明のひとつの形式において、鋼又はアルミニウム
又はその他の好適なローラが例えば第2図に示されるの
と同じパターンに機械的に彫られ、ついで芯材の表面に
最初に与えたセル構造を実質的に保持して、約1.27から
2.03mm(5から8ミル)の最大の厚さに溶射法によって
セラミック被覆がなされる。アルミニウムでつくられた
ベースローラの場合には、ローラは同じ場所にセラミッ
ク様の層を形成するために硬質陽極酸化処理を施すこと
ができる。析出プロセスは通常セラミック被覆装置で薄
い被覆を繰返し施す必要があり、ついでこの明細書の他
のところに記載されたような選ばれた有機物質が浸透さ
れる。
又はその他の好適なローラが例えば第2図に示されるの
と同じパターンに機械的に彫られ、ついで芯材の表面に
最初に与えたセル構造を実質的に保持して、約1.27から
2.03mm(5から8ミル)の最大の厚さに溶射法によって
セラミック被覆がなされる。アルミニウムでつくられた
ベースローラの場合には、ローラは同じ場所にセラミッ
ク様の層を形成するために硬質陽極酸化処理を施すこと
ができる。析出プロセスは通常セラミック被覆装置で薄
い被覆を繰返し施す必要があり、ついでこの明細書の他
のところに記載されたような選ばれた有機物質が浸透さ
れる。
別法として、ローラ芯材は同様に機械的に彫られ、つい
で通常約0.03から0.05mm(0.1から0.2ミル)未満の厚さ
の被覆にセラミック粉の薄い被膜でワンパスの溶射被覆
が施され、そのあとセラミックと反応して親油性で疎水
性の物質を形成する材料で浸透され、その後別のセラミ
ック被覆パスが施されついで別の浸透処理がなされ、こ
のようにして逐次被覆、浸透処理によって所望の1.27か
ら2.03mm(5から8ミル)厚のセラミック被覆がつくり
あげられるまで繰返される。
で通常約0.03から0.05mm(0.1から0.2ミル)未満の厚さ
の被覆にセラミック粉の薄い被膜でワンパスの溶射被覆
が施され、そのあとセラミックと反応して親油性で疎水
性の物質を形成する材料で浸透され、その後別のセラミ
ック被覆パスが施されついで別の浸透処理がなされ、こ
のようにして逐次被覆、浸透処理によって所望の1.27か
ら2.03mm(5から8ミル)厚のセラミック被覆がつくり
あげられるまで繰返される。
所望の多孔層は又、鋼又はアルミニウムローラ芯材を選
ばれたセラミック粒子を用いたマルチパス溶射被覆に曝
すことによっても得られ、0.76から2.54mm(3から10ミ
ル)又はそれ以上の被覆がつくりあげられる。第4図及
び第5図において40で示されるようなこの被覆はついで
例えば第5図において画かれるようなセルパターン41を
つくるためにレーザで彫られ、その後セラミック表面に
反応試剤が浸透される。
ばれたセラミック粒子を用いたマルチパス溶射被覆に曝
すことによっても得られ、0.76から2.54mm(3から10ミ
ル)又はそれ以上の被覆がつくりあげられる。第4図及
び第5図において40で示されるようなこの被覆はついで
例えば第5図において画かれるようなセルパターン41を
つくるためにレーザで彫られ、その後セラミック表面に
反応試剤が浸透される。
同じ種類の構造は、所望の親油性で疎水性のセラミック
被覆厚さを得るために、約6から20回のシリーズ又はそ
のようなシーケンスにおけるそれぞれの溶射被覆パスの
後に反応試剤が施され、ついで所望のインキ保有容量を
つくるためにレーザで彫ることによって得ることができ
る。
被覆厚さを得るために、約6から20回のシリーズ又はそ
のようなシーケンスにおけるそれぞれの溶射被覆パスの
後に反応試剤が施され、ついで所望のインキ保有容量を
つくるためにレーザで彫ることによって得ることができ
る。
セラミックと反応する数種の試剤を使うことができる。
反応試剤はここでは微孔性セラミックに浸透しそれと反
応して親油性疎水性の反応物を形成しそれによって化学
的にそれに付着するようになることができる有機物質を
意味する。これらは一般的に可溶性の固体であり、又は
その故にミスト、スプレー、浸漬又はその他の周知の施
工法によって施すことができる液体である。反応試剤を
施す重要な目的のひとつは、微孔性セラミック粉末被覆
表面を、疎水性物質をできる限り深くセラミック被覆の
中に浸透させることによって可能な限り親油性でかつ疎
水性にすることである。高度に流動性の液体システムが
好ましい。簡単なスプレー塗装技術はローラ回転による
浸漬塗装と同様に適切である。溶剤中の反応試剤の希薄
溶液は数秒ないし数分間放置することによってセラミッ
ク被覆の隙間に深く浸透させることを助長するであろ
う。
反応試剤はここでは微孔性セラミックに浸透しそれと反
応して親油性疎水性の反応物を形成しそれによって化学
的にそれに付着するようになることができる有機物質を
意味する。これらは一般的に可溶性の固体であり、又は
その故にミスト、スプレー、浸漬又はその他の周知の施
工法によって施すことができる液体である。反応試剤を
施す重要な目的のひとつは、微孔性セラミック粉末被覆
表面を、疎水性物質をできる限り深くセラミック被覆の
中に浸透させることによって可能な限り親油性でかつ疎
水性にすることである。高度に流動性の液体システムが
好ましい。簡単なスプレー塗装技術はローラ回転による
浸漬塗装と同様に適切である。溶剤中の反応試剤の希薄
溶液は数秒ないし数分間放置することによってセラミッ
ク被覆の隙間に深く浸透させることを助長するであろ
う。
すべての場合、最終の親油性で疎水性の反応生成物は本
質的に非流動性でセラミック粉末被覆の空隙及び表面に
しっかり接着するか又はその中に封じ込めるようにしな
ければならない。この発明の目的は高エネルギ表面と化
学的に反応性がある材料を浸透して親油性で疎水性の被
膜を形成することによって達成される。通常これらは化
学的に反応性のグループをもつ長鎖の炭化水素又は実質
的に炭化水素高分子材料である。この要件を充す材料
は、Bayonne,N.J.のKenrich Petrochemicalsによって販
売されているチタネートカプリング剤及びErie,PAのLor
d化学社によって販売されているシラン試剤からなるグ
ループから選ばれたものである。これらのクラスのその
他の有用な試剤は化学及び高分子科学の当業者にとって
は明らかであり又ここに開示されたこの発明の原理をベ
ースとすれば明らかである。有効なチタネートカプリン
グ剤は、イソプロピル トリ(ジオクチルホスファト)
チタネート;チタンジ(オクチルピロホスファト)オキ
シアセテート;イソプロピル トリイソステロイルチタ
ネート;テトラジアリルオキシ−メチル 1−1ブトキ
シチタンジ(ジトリデシル)ホスファイト;及びジ(ジ
オクチルホスファト)エチレンチタネートである。有効
なシランカプリング剤はイソブチルトリメトキシシラン
及びn−オクチルトリエトキシシランである。
質的に非流動性でセラミック粉末被覆の空隙及び表面に
しっかり接着するか又はその中に封じ込めるようにしな
ければならない。この発明の目的は高エネルギ表面と化
学的に反応性がある材料を浸透して親油性で疎水性の被
膜を形成することによって達成される。通常これらは化
学的に反応性のグループをもつ長鎖の炭化水素又は実質
的に炭化水素高分子材料である。この要件を充す材料
は、Bayonne,N.J.のKenrich Petrochemicalsによって販
売されているチタネートカプリング剤及びErie,PAのLor
d化学社によって販売されているシラン試剤からなるグ
ループから選ばれたものである。これらのクラスのその
他の有用な試剤は化学及び高分子科学の当業者にとって
は明らかであり又ここに開示されたこの発明の原理をベ
ースとすれば明らかである。有効なチタネートカプリン
グ剤は、イソプロピル トリ(ジオクチルホスファト)
チタネート;チタンジ(オクチルピロホスファト)オキ
シアセテート;イソプロピル トリイソステロイルチタ
ネート;テトラジアリルオキシ−メチル 1−1ブトキ
シチタンジ(ジトリデシル)ホスファイト;及びジ(ジ
オクチルホスファト)エチレンチタネートである。有効
なシランカプリング剤はイソブチルトリメトキシシラン
及びn−オクチルトリエトキシシランである。
第6図は反応試剤がセラミック被覆によって形成される
空隙に浸透する方式を図解している。第6図において50
は一般的に耐磨耗層複合体を示し、51はセラミック材料
の粒子を示し、52は51と反応して所望の親油性で疎水性
の反応生成物を形成する浸透した物質を示す。最大の有
効寿命をえるためには着いたセラミック層によって形成
された空隙のすべての連通ネットワークが層の全容積に
亘って実質的に完全に浸透されていることが好ましい。
空隙に浸透する方式を図解している。第6図において50
は一般的に耐磨耗層複合体を示し、51はセラミック材料
の粒子を示し、52は51と反応して所望の親油性で疎水性
の反応生成物を形成する浸透した物質を示す。最大の有
効寿命をえるためには着いたセラミック層によって形成
された空隙のすべての連通ネットワークが層の全容積に
亘って実質的に完全に浸透されていることが好ましい。
この発明の実施に好適な、ある一般的な又は特定の試剤
の開示にも拘らず、リトグラフインキングローラとして
得られたローラの使用に対する重要な基準が、処理され
たローラの表面にインキオイル及び水の滴が自然に拡が
る程度を測定することによって大なり小なり予測するこ
とができる。標準の表面化学の教科書に記載されている
ような無柄滴(sessile drop)の技術はこの性質の測定
に有用である。一般的に、親油性で疎水性のローラ材料
はインキオイル(Flint Ink Co.)の接触角ほぼ0゜を
もち、蒸留水の接触角約90゜又はそれ以上をもち、この
値は親油性で疎水性の材料を定義するのに役立つ。
の開示にも拘らず、リトグラフインキングローラとして
得られたローラの使用に対する重要な基準が、処理され
たローラの表面にインキオイル及び水の滴が自然に拡が
る程度を測定することによって大なり小なり予測するこ
とができる。標準の表面化学の教科書に記載されている
ような無柄滴(sessile drop)の技術はこの性質の測定
に有用である。一般的に、親油性で疎水性のローラ材料
はインキオイル(Flint Ink Co.)の接触角ほぼ0゜を
もち、蒸留水の接触角約90゜又はそれ以上をもち、この
値は親油性で疎水性の材料を定義するのに役立つ。
例えば下記のルールはこの原理に従って材料を選ぶため
に建設的ではあるが限定的ではないということを発見し
た。
に建設的ではあるが限定的ではないということを発見し
た。
最高 水接触角90゜又はそれ以上 インキオイル接触角10゜又は それ以下で拡散 受入れ可 水接触角80゜又はそれ以上 インキオイル接触角10゜又はそれ以下で拡散 受入れ不可 水接触角80゜未満 インキオイル接触角10゜又は以上 及び/又は非拡散 この親油性と疎水性をここに定義したようにもつ材料は
リトグラフ印刷プレス版の実施において、インキと水の
両者がその表面に存在するか押し込まれたときに水又は
湿し剤に優先してその表面にリトグラフインキを受入
れ、保有し、維持するであろう。そしてリトグラフ印刷
インキングローラ列に用いられるローラを、ひとつ又は
それ以上のインキングローラから水によってインキを離
脱させることにより印刷インキの比重調整の低下なしに
印刷される基板に対しインキ溜からインキを移し替える
のを助長するように仕向けることができるのは、この親
油性と疎水性の組合せによるものである。
リトグラフ印刷プレス版の実施において、インキと水の
両者がその表面に存在するか押し込まれたときに水又は
湿し剤に優先してその表面にリトグラフインキを受入
れ、保有し、維持するであろう。そしてリトグラフ印刷
インキングローラ列に用いられるローラを、ひとつ又は
それ以上のインキングローラから水によってインキを離
脱させることにより印刷インキの比重調整の低下なしに
印刷される基板に対しインキ溜からインキを移し替える
のを助長するように仕向けることができるのは、この親
油性と疎水性の組合せによるものである。
第1図はこの発明のインキメータリングロールを組みこ
んだリトグラフ印刷の配列を説明するキーレスリトグラ
フ印刷システムの輪郭の側面系統図である。 第2図はこの発明のロールの部分断面図でインキを保持
するために備えられた窪みをもつ滲透した耐磨耗性表面
を示す。 第3図は第2図と同様の断面図であるが、個々に形成さ
れたインキを受ける窪みのないローラをもつ。 第4図は第2図と同様の断面図であるが、個々に形成さ
れたインキを受ける窪みの変形を示す。 第5図は第4図の平面図で、そして 第6図は微孔性セラミック層の拡大説明断面図で親油性
で疎水性の反応生成物の配置を示す。
んだリトグラフ印刷の配列を説明するキーレスリトグラ
フ印刷システムの輪郭の側面系統図である。 第2図はこの発明のロールの部分断面図でインキを保持
するために備えられた窪みをもつ滲透した耐磨耗性表面
を示す。 第3図は第2図と同様の断面図であるが、個々に形成さ
れたインキを受ける窪みのないローラをもつ。 第4図は第2図と同様の断面図であるが、個々に形成さ
れたインキを受ける窪みの変形を示す。 第5図は第4図の平面図で、そして 第6図は微孔性セラミック層の拡大説明断面図で親油性
で疎水性の反応生成物の配置を示す。
Claims (14)
- 【請求項1】印刷を形成する媒体として油ベースインキ
と水との混合物を用いる印刷に使用されるインキメータ
リングローラであって、 a.実質的に円筒形の外表面をもち予め選ばれた強度と直
径と長さをもつベースローラ、 b.前述のベースローラの表面に密着結合した連続の微孔
性セラミック層であって、前述の微孔性層がセラミック
層の実質的に全容積に亘って透過している空隙が相互に
結び合わされたネットワークを形づくるもの、及び c.前述の微孔性セラミックと、有機チタネートカプリン
グ剤及び有機シランカプリング剤からなるグループから
選ばれた有機材料との親油性で疎水性の反応生成物、か
らなるインキメータリングローラ。 - 【請求項2】チタネートカプリング剤が a.イソプロピル トリ(ジオクチルホスファト)チタネ
ート、 b.チタンジ(オクチルピロホスファト)オキシアセテー
ト、 c.イソプロピル トリイソステロイルチタネート; d.テトラジアリルオキシ−メチル 1−1ブトキシチタ
ンジ(ジトリデシル)ホスファイト、及び e.ジ(ジオクチルホスファト)エチレンチタネート、 からなるグループから選ばれる請求項(1)に記載のイ
ンキメータリングローラ。 - 【請求項3】シランカプリング剤が、(a)イソブチル
トリメトキシシラン及び(b)n−オクチルトリエトキ
シシランからなるグループから選ばれる請求項(1)に
記載のインキメータリングローラ。 - 【請求項4】微孔性セラミック層が、約0.76から2.03mm
(3から8ミル)の厚さである請求項(1)に記載のイ
ンキメータリングローラ。 - 【請求項5】親油性と疎水性をもつ耐摩耗性インキメー
タリングローラの製造方法において、 a.微孔性層の全容量に亘って透過している空隙が相互に
結び合わされたネットワークを形づくる微孔性セラミッ
ク材料で形成される実質的に円筒形表面層をもつロール
を用意する工程、及び b.相互に結び合わされたネットワークに、予め選ばれた
溶剤中のチタネートカプリング剤及びシランカプリング
剤で構成するグループから選ばれた有機材料を浸透し、
セラミックと結合させて親油性と疎水性をもつ反応生成
物を形成する工程、 を含むことを特徴とするインキメータリングローラの製
造方法。 - 【請求項6】微孔性セラミック層が、ベースロール上に
逐増方式で着けられ、そしてそれぞれの増分層が次のセ
ラミック層の増分が着けられる前に浸透される請求項
(1)に記載のインキメータリングローラの製造方法。 - 【請求項7】印刷形成媒体として油ベースのインキと水
との混合物を用いる、複数のインキングローラを含む印
刷に使われるインキングシステムであって、前述のイン
キングローラのひとつが a.実質的に円筒形の外表面をもつ予め選ばれた強度と直
径と長さをもつベースローラ、 b.前記ベースローラの表面に密着結合する連続微孔性セ
ラミック層であって、前記微孔性層が実質的に前述のセ
ラミック層の全容積に亘って透過している空隙が相互に
結び合わされたネットワークを形づくるもの、 c.前記微孔性セラミックと、チタネートカプリング剤及
びシランカプリング剤からなるグループから選ばれた有
機材料との親油性で疎水性の反応生成物、及び d.前記浸透微孔性セラミック被覆ベースロールと逆角度
の関係に接触するように取つけられ、それから余剰のイ
ンキを取り除く掻きとり手段、からなるインキメータリ
ングローラであるインキングシステム。 - 【請求項8】チタネートカプリング剤がイソプロピル
トリ(ジオクチルホスファト)チタネートである請求項
(7)に記載のインキングシステム。 - 【請求項9】チタネートカプリング剤がチタンジ(オク
チルピロホスファト)オキシアセテートである請求項
(7)に記載のインキングシステム。 - 【請求項10】チタネートカプリング剤がイソプロピル
トリイソステロイルチタネートである請求項(7)に
記載のインキングシステム。 - 【請求項11】チタネートカプリング剤がテトラジアリ
ルオキシ−メチル 1−1ブトキシチタンジ(ジトリデ
シル)ホスファイトである請求項(7)に記載のインキ
ングシステム。 - 【請求項12】チタネートカプリング剤が、ジ(ジオク
チルホスファト)エチレンチタネートである請求項
(7)に記載のインキングシステム。 - 【請求項13】シランカプリング剤が、イソブチルトリ
メトキシシランである請求項(7)に記載のインキング
システム。 - 【請求項14】シランカプリング剤が、n−オクチルト
リエトキシシランである請求項(7)に記載のインキン
グシステム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/343,556 US4977830A (en) | 1989-04-27 | 1989-04-27 | Hydrophobic and oleophilic microporous inking rollers |
US343556 | 1989-04-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02299890A JPH02299890A (ja) | 1990-12-12 |
JPH07427B2 true JPH07427B2 (ja) | 1995-01-11 |
Family
ID=23346598
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2054792A Expired - Lifetime JPH07427B2 (ja) | 1989-04-27 | 1990-03-06 | 疎水性で親油性の微孔性インキメータリングローラ |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4977830A (ja) |
EP (1) | EP0394561B1 (ja) |
JP (1) | JPH07427B2 (ja) |
AU (1) | AU633535B2 (ja) |
CA (1) | CA2005577C (ja) |
DE (2) | DE394561T1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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FI83439C (fi) * | 1989-08-24 | 1991-07-10 | Valmet Paper Machinery Inc | Vals i pappersmaskin och foerfarande foer framstaellning av denna. |
US5111568A (en) * | 1989-08-24 | 1992-05-12 | Valmet Paper Machinery Inc. | Paper machine roll |
NO179801C (no) * | 1990-10-08 | 1996-12-18 | Yamauchi Corp | Pressvalse for en papirmaskin |
US5207158A (en) * | 1991-02-19 | 1993-05-04 | Rockwell International | Long lived, variable-delivery ink metering method, system and roller for keyless lithography |
DE4210529A1 (de) * | 1991-12-11 | 1993-10-07 | Kochsmeier Hans Hermann | Dosiervorrichtung für flüssige Auftragsmittel |
DE4442235C2 (de) * | 1993-12-01 | 2002-12-05 | Roland Man Druckmasch | Verfahren zur Herstellung einer Druckform für einen Formzylinder einer Druckmaschine und danach hergestellte Druckform |
DE10104164B4 (de) * | 2001-01-30 | 2005-11-10 | Nanogate Coating Systems Gmbh | Gegenstand mit Versiegelung und dessen Verwendung in einer Druckmaschine |
US6673391B1 (en) * | 2002-08-09 | 2004-01-06 | Alcoa Inc. | Ceramic applicator device and method of use |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3163534A (en) * | 1961-03-13 | 1964-12-29 | Harris Intertype Corp | Lithographic plate including a hydrophilic barrier layer comprising a silane, an acrylic compound, and an organic metal ester |
US3694251A (en) * | 1964-02-27 | 1972-09-26 | Eastman Kodak Co | Coated article having a layer of boehmite and alkyl titanate |
DE1299661B (de) * | 1964-02-27 | 1969-07-24 | Eastman Kodak Co | Verfahren zur Verbesserung der hydrophilen Eigenschaften der Traeger von fuer Flachdruckverfahren geeigneten Druckplatten |
US4301730A (en) * | 1977-09-29 | 1981-11-24 | Pamarco Incorporated | Anilox roll and method of making the same |
US4179537A (en) * | 1978-01-04 | 1979-12-18 | Rykowski John J | Silane coupling agents |
GB2049102A (en) * | 1979-05-03 | 1980-12-17 | Csi Corp | Transfer roll |
JPS5856855A (ja) * | 1981-09-30 | 1983-04-04 | Tokyo Kikai Seisakusho:Kk | オフセツト印刷用メツシユロ−ル |
DE3316348C2 (de) * | 1983-05-05 | 1985-03-07 | PTG Plasma-Oberflächentechnik GmbH, 7240 Horb | Verfahren zum Beschichten eines Werkstückes |
JPS6044394A (ja) * | 1983-08-22 | 1985-03-09 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | インキロ−ラ |
-
1989
- 1989-04-27 US US07/343,556 patent/US4977830A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-12-14 CA CA002005577A patent/CA2005577C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-12-28 EP EP89124065A patent/EP0394561B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-12-28 DE DE198989124065T patent/DE394561T1/de active Pending
- 1989-12-28 DE DE68922211T patent/DE68922211T2/de not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-01-09 AU AU47834/90A patent/AU633535B2/en not_active Ceased
- 1990-03-06 JP JP2054792A patent/JPH07427B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE394561T1 (de) | 1991-02-28 |
EP0394561A3 (en) | 1991-01-30 |
AU633535B2 (en) | 1993-02-04 |
EP0394561A2 (en) | 1990-10-31 |
AU4783490A (en) | 1990-11-01 |
CA2005577A1 (en) | 1990-10-27 |
JPH02299890A (ja) | 1990-12-12 |
US4977830A (en) | 1990-12-18 |
DE68922211T2 (de) | 1995-11-02 |
CA2005577C (en) | 1993-10-19 |
DE68922211D1 (de) | 1995-05-18 |
EP0394561B1 (en) | 1995-04-12 |
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