DE4235586C2 - Verfahren zur Übertragung flüssiger Medien von einer Anspülwalze auf einen Tiefdruckzylinder sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens - Google Patents
Verfahren zur Übertragung flüssiger Medien von einer Anspülwalze auf einen Tiefdruckzylinder sowie Vorrichtung zur Durchführung des VerfahrensInfo
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Description
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren
zur Übertragung flüssiger Medien von einer Anspülwalze
auf einen zweiten Festkörper, der eine Oberflächenstruk
tur aufweist sowie eine Anspülwalze zur Durchführung
dieses Verfahrens.
Zur Auftragung von flüssigen Medien auf Festkörper werden
üblicherweise Bürsten und Pinsel verwendet. Im Bereich
der Drucktechnik werden zur Übertragung von flüssigen
Medien, insbesondere Druckfarben, auf die Druckwalzen
auch andere walzenförmige Körper verwendet, so zum Bei
spiel im Tiefdruckverfahren sogenannte Anspülwalzen.
Dabei wird das flüssige Druckmedium, üblicherweise Druck
farbe, aus dem Farbbehälter durch die Anspülwalze aufge
nommen und auf den Tiefdruckzylinder übertragen. Der so
genannte Tiefdruckzylinder enthält Oberflächenstrukturen
wie beispielsweise "Näpfchen", die mit der betreffenden
Druckfarbe gefüllt werden. Sofern im Tiefdruckverfahren
die Druckfarbe durch die Anspülwalze an den Tiefdruck
zylinder verbracht wird, werden dafür plüschbezogene
Walzen oder gummierte Walzen mit in Umfangsrichtung ein
geschliffenem Rillenprofil eingesetzt. Bei den plüschbe
zogenen Walzen zieht die Druckfarbe in den Plüschbezug
ein und überschüssige Farbe wird dann durch Abrollen auf
dem Tiefdruckzylinder in die Näpfchen gebracht. Ähnlich
verhält es sich mit den Gummiwalzen, die Profile in Um
laufrichtung aufweisen. In den Rillen des Profils wird
Farbe auf den Tiefdruckzylinder transportiert.
Als Nachteil der bisher eingesetzten Anspülwalzen wirkt
sich beispielsweise das Ausflusen der plüschbezogenen
Walzen aus. Gravierender ist jedoch der Nachteil, daß
plüschbezogene Walzen durch den Flüssigkeitsdruck vor dem
Walzenspalt durchrutschen. Dadurch ist eine gleichmäßige
Anspülung nicht gewährleistet. Außerdem ist das Reinigen
und Neubeziehen der Walzen mit Plüschbezügen relativ
aufwendig. Bei geschliffenen Profilwalzen, zum Beispiel
solchen mit Rillenprofilen, kann das Rillenprofil das
Druckbild überlagern, so daß in den Druckerzeugnissen das
Rillenprofil abgebildet werden kann.
Aus der DE 37 06 011 A1 geht ein Kurzfarbwerk hervor, bei
dem die auf einem Plattenzylinder zu übertragende Farbe
entsprechend dem jeweiligen Farbbedarf gesteuert werden
kann, indem eine Rasterwalze mit einer kompressiblen Träger
schicht verwendet wird. Dabei erfolgt durch Deformierung der
Näpfchentiefe der Trägerschicht eine Volumenveränderung und
somit eine Veränderung der zu übertragenden Farbmenge. Dabei
handelt es sich um eine sogenannte Rasterwalze, die nur eine
definierte Farbmenge zu übertragen hat. Es handelt sich
hierbei um eine Dosiereinrichtung.
Die GB-PS 729 561 betrifft Verbesserungen in Druckverfahren
durch Verwendung einer Walze mit stochastischer Oberfläche,
wodurch das Entstehen eines Übermuster durch Überlagerung
zweier gleichmäßiger Muster verhindert werden soll. Anspül
walzen für das Tiefdruckverfahren werden jedoch nicht
erwähnt.
Die für das Beispiel der Druckindustrie beschriebenen
Nachteile ergeben sich für alle entsprechenden Anwen
dungsbereiche, in denen flüssige Medien von einem Fest
körper auf einen zweiten Festkörper übertragen werden.
Die der Erfindung zugrundeliegende Aufgabe besteht darin,
ein Verfahren bereitzustellen und eine Vorrichtung zu
schaffen, die die eingangs genannten Nachteile des Stan
des der Technik vermeidet und eine bessere Übertragung
eines flüssigen Mediums von einer Anspülwalze auf den
Tiefdruckzylinder ermöglicht.
Erfindungsgemäß gelöst wird diese Aufgabe durch ein Ver
fahren gemäß den Merkmalen des Anspruchs 1. Der Anspruch 2
betrifft eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungs
gemäßen Verfahrens, wobei die folgenden Unteransprüche
bevorzugte
Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Vorrichtung dar
stellen.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Übertragung flüssiger
Medien in eine Anspülwalze auf einen Tiefdruckzylinder
nutzt in vorteilhafter Weise die Effekte, die sich aus
der stochastischen Oberflächenstruktur der Anspülwalze,
die das flüssige Medium auf den Tiedruckzylinder über
trägt, ergeben. Durch die Vertiefungen in der Oberfläche
der Anspülwalze wird ausreichend flüssiges Medium an den
Tiefdruckzylinder mit einer Rauhtiefe < 20 µm herange
bracht, so daß dieser mit flüssigem Medium ausreichend
benetzt wird. Durch das elastische Verhalten der Oberflä
che der Anspülwalze wird das durch die Vertiefungen ge
bildete Profil der Anspülwalze im Spalt zwischen der An
spülwalze und dem Tiefdruckzylinder zusammengedrückt. Da
durch entsteht ein hydrostatischer Druck in diesem Spalt,
da das angespülte flüssige Medium nach außen gedrückt
wird. Das flüssige Medium wird durch den hydrostatischen
Druck in die Vertiefungen des Tiefdruckzylinders gedrückt.
Die Voraussetzung dabei ist jeweils, daß das Gesamtvo
lumen der Vertiefungen des Tiefdruckzylinders geringer
ist als dasjenige der Anspülwalze. Dann kann soviel Flüs
sigkeit übertragen werden, daß sämtliche Vertiefungen
gefüllt werden.
Dies bedeutet, daß durch die Vertiefung in den Profilen
der Anspülwalze immer ausreichende Mengen an Druckfarbe
an den Tiefdruckzylinder gebracht werden, so daß ein
zwangsweises Befüllen der Näpfchen des Tiefdruckzylinders
gewährleistet wird. Dabei sorgen die hochstehenden Pro
filteile der Anspülwalze für ein ausreichendes kraft
schlüssiges Mitnahmeverhalten der Anspülwalze durch den
Tiefdruckzylinder. Das elastische Verhalten der elasti
schen aber formstabilen Oberfläche gewährleistet das Zu
sammendrücken des Profils im Walzenspalt. Dadurch ent
steht ein hydrostatischer Druck im Walzenspalt, da die
angespülte Farbe nach außen gedrückt wird. Die Druckfarbe
wird durch den hydrostatischen Druck in das Näpfchen ge
preßt. Vorteilhaft wirkt sich dabei aus, daß Restfarbe,
die im Näpfchen verblieben ist und nicht auf die Druck
vorlage übertragen wurde, ausgespült wird. Die Anspül
walze läßt sich leicht mit entsprechenden Lösemitteln
reinigen.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung, die zur Durchführung
des erfindungsgemäßen Verfahrens besonders geeignet ist,
besteht entweder vollständig aus einem nachgiebigen aber
formstabilen Material oder besteht mindestens aus einer
Oberflächenschicht aus einem nachgiebigen aber formstabi
len Material. Dieses Material weist in der Oberfläche
Vertiefungen auf, die ein unregelmäßiges, zufälliges
(stochastisches) Muster bilden und eine Rauhtiefe Rz <
20 µm aufweist. Der Rz Wert ist gemäß DIN 4768 definiert.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung bildet einen zylindri
schen Körper wie eine ein- oder mehrschichtige Walze oder
Hülse. Dabei ist mindestens die äußerste Schicht des
zylindrischen Körpers aus dem nachgiebigen aber formsta
bilen Material geformt. Als Oberflächenmaterialien haben
sich insbesondere elastomere Werkstoffe wie Polyuretha
ne, Gummis auf synthetischer und natürlicher Basis sowie
Blockcopolymerisate bewährt.
Insbesondere kommen die folgenden elastomeren Materialien
in Betracht wie Polyacrylat-Kautschuk (Kurzbezeichnung
nach ASTM D-1418-79 ACM), Chlorpolyethylen-Kautschuk
(CM), Chlorsulphonyl-Polyethylen-Kautschuk (CSM), Ethy
len-Propylen-Dien-Kautschuk (EPDM), Ethylen-Propylen-
Kautschuk (EPM) und Fluor-Kautschuk (FKM). Neben den
vorgenannten Kautschuken der sogenannten M-Gruppe mit
gesättigten Kohlenstoff-Hauptketten kommen insbesondere
solche der sogenannten O-Gruppe mit Sauerstoff in der
Hauptkette in Betracht wie Epichlorhydrin-Kautschuk (CO),
Epichlorhydrin-Copolymer-Kautschuk (ECO) und Propylen
oxid-(Copolymer-Kautschuk (GPO); weiterhin kommen Kautschu
ke der sogenannten R-Gruppe in Betracht, die eine unge
sättigte Kohlenwasserstoffkette aufweisen wie Butadien-
Kautschuk (BR), Chlorpren-Kautschuk (CR). Isobuten-Iso
pren-Kautschuk (IIR), Brombutyl-Kautschuk (BIIR), Chlor
butyl-Kautschuk (CIIR), Isopren-Kautschuk (IR), Nitril-
Butadien-Kautschuk (NBR), Natur-Kautschuk (NR) und Sty
rol-Butadien-Kautschuk (SBR). Des weiteren kommen. Kaut
schukarten der sogenannten- Q-Gruppe in Betracht, die
Silicon in der Hauptkette aufweisen. Dies sind Fluor-
Silicon-Kautschuk (FVMQ), Methyl-Phenyl-Silicon-Kautschuk
(PMQ), Methyl-Phenyl-Vinyl-Silicon-Kautschuk (PVMQ),
Methyl-Silicon-Kautschuk (MQ) und Methyl-Vinyl-Silicon-
Kautschuk (VMQ); daneben kommen aus der sogenannten U-
Gruppe der Kautschukarten, die Kohlenstoff, Sauerstoff
und Stickstoff in der Hauptkette aufweisen, die folgenden
in Betracht wie Polyester-Urethane (AU) sowie Polyether-
Urethane (EU).
Sofern nur die äußerste Schicht aus den genannten Mate
rialien aufgebaut ist, ist es vorteilhaft, daß die Dicke
dieser Schicht größer ist als die Rauhtiefe.
Die Oberflächenstrukturen bilden ein unregelmäßiges zu
fälliges (stochastisches) Muster. Dabei können Oberflä
chenstrukturen hinsichtlich der Größe der Vertiefungen
und Erhebungen sowie hinsichtlich deren Anordnung auf der
Oberfläche unterschieden werden. Von geschlossenen Profi
len ist dann die Rede, wenn die Erhebungen quasi im Sinne
von Höhenlinien in sich nicht unterbrochen sind, während
von offenen Profilen gesprochen wird, wenn die Erhebungen
grundsätzlich durch Vertiefungen unterbrochen sind. So
hat sich herausgestellt, daß zur Übertragung von Flüssig
keiten mit geringer Oberflächenspannung geschlossene
Profilstrukturen besser geeignet sind, wohingegen offene
Feinprofile für Flüssigkeiten mit höherer Oberflächen
spannung günstiger sind. Geschlossene Profilstrukturen
bauen auch den Druck zur Übertragung des flüssigen Me
diums in den zweiten Festkörper besser auf, da das flüs
sige Medium aus den Rillen nicht ohne weiteres entweichen
kann. Auf der anderen Seite findet sich bei offenen Ril
lenstrukturen ein besserer Mitnahmeeffekt des flüssigen
Mediums.
Vorteilhafterweise beträgt die Aufnahmefähigkeit der
Oberfläche der erfindungsgemäßen Vorrichtung mit der
stochastischen Oberflächenstruktur etwa das Doppelte
Volumen des letztlich zu übertragenden Mediums. Vorzugs
weise beträgt die Aufnahmefähigkeit der Oberfläche min
destens 10 ml/m2.
Die erfindungsgemäße Anspülwalze wird mit einer elastis
chen Beschichtung,(Gummi oder Kunststoff) bekleidet, die
so dick ist, daß die elastischen Eigenschaften des Mate
rials, die das flexible Ausweichen des Stoffes auf Druck
belastung aus der Anstellung gegen einen härteren Körper
gewährleistet, genutzt werden können. Die Oberfläche der
Anspülwalze wird so strukturiert, daß eine bestimmte
Menge des zu übertragenden flüssigen Mediums in den Ver
tiefungen der Oberfläche der Anspülwalze mitgenommen
werden kann. Vorzugsweise sind die erhabenen Teile in der
Oberflächenstruktur der erfindungsgemäßen Anspülwalze so
dimensioniert, daß sie nicht in die Vertiefungen der
Struktur des Tiefdruckzylinders eindringen können, um die
Näpfchen des Tiefdruckzylinders nicht auszuquetschen.
Der Anstellweg der erfindungsgemäßen Anspülwalze und dem
Tiefdruckzylinder zueinander wird so gewählt, daß die
elastische Oberfläche der erfindungsgemäßen Anspülwalze
flexibel ausweicht und der Anstellspalt zwischen Anspül
walze und Tiefdruckzylinder verbreitert wird.
Durch das Ausweichen der elastischen Beschichtung im An
stellspalt, vor allem der relativ kleinen erhabenen Ele
mente der Oberflächenstruktur der erfindungsgemäßen An
spülwalze gerät das Medium zwangsweise in die Vertiefun
gen der Oberflächenstruktur des Tiefdruckzylinders. Das
mitgeschleppte flüssige Medium erfährt eine Erhöhung des
hydrostatischen Druckes gegenüber dem Normalzustand.
Dadurch wird das zu übertragende flüssige Medium zwangs
weise in die Vertiefungen der Oberflächenstruktur des
Tiefdruckzylinders gepreßt. Durch die Wahl der Oberflä
chenbeschaffenheit, insbesondere der Aufnahmefähigkeit
der Oberfläche der erfindungsgemäßen Anspülwalze, läßt
sich die Menge des zu übertragenden flüssigen Mediums
einstellen. Darüber hinaus gewährleistet die Struktur in
der Oberfläche der erfindungsgemäßen Anspülwalze (Profi
lierung) ein kraftschlüssiges Mitnehmen durch den Tief
druckzylinder.
Die Fig. 1 bis 3 zeigen verschiedene Oberflächenmuster
der erfindungsgemäßen Anspülwalze. Dabei zeigt Fig. 1
ein Grobprofil mit einer Profiltiefe von 0,5 bis 1,0 mm
als geschlossenes stochastisches Oberflächenmuster. Die
Fig. 2 und 3 zeigen hingegen offene Kornmuster als
offene stochastische Oberflächenstruktur. Dabei zeigt das
in Fig. 2 dargestellte offene Kornraster eine feinere
Struktur als dasjenige in Fig. 3.
Die Oberflächenstruktur der erfindungsgemäßen Anspülwalze
wird vorzugsweise mittels laseroptischen Verfahren her
gestellt. Dabei wird eine ein stochastisches Muster auf
weisende Vorlage durch Markieren mittels eines Lasers
trahls auf die Oberfläche der erfindungsgemäßen Anspül
walze übertragen. Alternativ kann die äußere Oberfläche
mit einer stochastischen Oberfläche versehen werden, um
danach mit anderen Teilen zur erfindungsgemäßen Anspül
walze zusammengefügt zu werden.
Bei Anwendung der erfindungsgemäßen Anspülwalze in der
Druckindustrie haben sich die folgenden Kriterien als
positiv herausgestellt: Im Lichterbereich ist die Menge
der fehlenden Rasterpunkte im Vergleich zu Anspülwal
zen mit regelmäßiger Oberflächenstruktur geringer; die
Verwendung der Anspülwalzen führen zu einer höheren Farb
dichte (durch Reflektion gemessene Schichtdicke der Far
be) des Drucks, die bis zu 20% höher liegt als bei der
Verwendung ohne erfindungsgemäße Anspülprofil; die erfin
dungsgemäßen Vorrichtungen als Anspülwalzen können bei
Druckwerken mit oder ohne elektrostatischer Druckunter
stützung eingesetzt werden. Weiterhin wirkt sich die
geringere Spritzneigung der mit der erfindungsgemäßen
Oberfläche versehenen Anspülwalze und die damit erziel
baren höheren Druckgeschwindigkeiten vorteilhaft aus.
Claims (6)
1. Verfahren zur Übertragung flüssiger Medien mittels einer
Anspülwalze auf einen Tiefdruckzylinder, wobei die Anspül
walze eine nachgiebige, aber formstabile Oberfläche auf
weist, dadurch gekennzeichnet, daß das flüssige Medium
zunächst in unregelmäßige, zufällige, stocha
stische Muster bildende Vertiefungen der Oberfläche der
Anspülwalze mit einer Rauhtiefe < 20 µm transportiert wird,
wobei das Gesamtvolumen der Vertiefungen des Tiefdruck
zylinders geringer ist als das der Anspülwalze, und dann,
durch aus Berührung mit dem Tiefdruckzylinder resultieren
den Druck, die Oberfläche der Anspülwalze derart verformt
wird, daß das flüssige Medium aus den Vertiefungen der
Anspülwalze in die Vertiefungen der Oberfläche des Tief
druckzylinders verbracht wird.
2. Farbwerk für eine Tiefdruckmaschine mit einem Tiefdruck
zylinder und einer Anspülwalze zur Durchführung des Verfah
rens nach Anspruch 1, wobei die mit Vertiefungen ausgestat
tete Anspülwalze entweder vollständig aus einem nachgiebi
gen, aber formstabilen Material besteht oder oberflächlich
ein solches Material aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß
die Vertiefungen in der Oberfläche der Anspülwalze ein
unregelmäßiges, zufälliges, stochastisches Muster
mit einer Rauhtiefe von Rz < 20 µm, insbesondere von Rz <
50 µm bilden, wobei das Gesamtvolumen der Vertiefungen des
Tiefdruckzylinders geringer ist als das der Anspülwalze.
3. Farbwerk nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die
Oberfläche der Anspülwalze aus einem nachgiebigen aber
formstabilen Material geformt ist, dessen Dicke größer ist
als die Rauhtiefe der Vertiefungen.
4. Farbwerk nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der
zylindrische Körper eine ein- oder mehrschichtig aufgebaute
Walze oder Hülse ist.
5. Farbwerk nach mindestens einem der Ansprüche 2 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, daß die nachgiebige, aber formsta
bile Oberfläche aus elastischen Werkstoffen wie elastomeren
Kunststoffen, Kautschuken mit gesättigten Kohlenstoff-
Hauptketten (M-Gruppe), Kautschuken mit Sauerstoff in der
Hauptkette (O-Gruppe), Kautschuken, die eine ungesättigte
Kohlenwasserstoffkette aufweisen (Q-Gruppe) und Kautschu
ken, die Kohlenstoff, Sauerstoff und Stickstoff in der
Hauptgruppe aufweisen (U-Gruppe), besteht.
6. Farbwerk nach mindestens einem der Ansprüche 2 bis 5,
dadurch gekennzeichnet, daß die Oberflächenstruktur aus
einem offenen oder geschlossenen stochastisch verteilten
Muster der Vertiefungen besteht.
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OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
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