JP5414839B2 - リソグラフィック装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
−放射ビームB(たとえばUV放射若しくはDUV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
−パターン化デバイス(たとえばマスク)MAを支持するように構築された、特定のパラメータに従ってパターン化デバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(たとえばマスク・テーブル)MTと、
−基板(たとえばレジスト被覆ウェハ)Wを保持するように構築された、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(たとえばウェハ・テーブル)WTと、
−パターン化デバイスMAによって放射ビームBに付与されたパターンを基板Wの目標部分C(たとえば1又は複数のダイからなる)に投影するように構成された投影システム(たとえば屈折型投影レンズ系)PSと
を備えている。
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターン全体が目標部分Cに1回の照射(すなわち単一静止露光)で投影される。次に、基板テーブルWTがX及び/又はY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で画像化される目標部分Cのサイズが制限される。
2.走査モードでは、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが同期走査される(すなわち単一動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの倍率(縮小率)及び画像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光における目標部分の幅(非走査方向の)が制限され、また、走査運動の長さによって目標部分の高さ(走査方向の)が左右される。
3.他のモードでは、プログラム可能パターン化デバイスを保持するべくマスク・テーブルMTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、基板テーブルWTが移動若しくは走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルWTが移動する毎に、或いは連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターン化デバイスが更新される。この動作モードは、上で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターン化デバイスを利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
11、47 液体(液浸液)
12 シール部材
13 入口/出口ダクト
14、OUT 第1の出口
15、102、IN 入口
16 シール・デバイス
20 投影システムの最終エレメント(最終光学エレメント)
25 第1のコンポーネント
27 第2のコンポーネント
40 保護コーティング(保護層)
45 溶融シリカプレート(保護プレート)
46 シール
48 保護コーティングの内部層(第1のSiO層)
49 保護コーティングの外部層(第2のSiO層)
50 膜
70 第1の液浸液
75 第2の液浸液
80 犠牲ユニット
85 犠牲体
90 アブシュラススプラット
100 液体供給システム
104 ドレン
AD 調整器
B 放射ビーム
BD ビーム引渡しシステム
C 目標部分
CO コンデンサ
IF 位置センサ
IL 照明システム(イルミネータ)
IN インテグレータ
M1、M2 マスク位置合せマーク
MA パターン化デバイス
MT 支持構造
P1、P2 基板位置合せマーク
PM 第1のポジショナ
PL、PS 投影システム(投影レンズ)
PW 第2のポジショナ
SO 放射源
W 基板
WT 基板テーブル(基板ステージ)
Claims (8)
- パターン化された放射ビームを基板に投影する投影システムと、
前記投影システムの最終エレメントと前記基板の間の空間の少なくとも一部を液体で満たす液体供給システムとを備え、
前記投影システムは、前記投影システムの最終エレメントと前記基板の間に液体リザーバを形成し、且つ該液体リザーバに液体を閉じ込めるシール部材を備え、
前記シール部材は、前記投影システムの最終エレメントの上方に伸び、該最終エレメントの上方に液体が上昇し、液体のバッファが提供され、
前記投影システムの最終エレメントは、その表面上に少なくともSiとOとからなる層を備える、リソグラフィック投影装置。 - 前記シール部材は、非接触シールを形成する、請求項1に記載のリソグラフィック投影装置。
- 前記層は、少なくともSiとOとからなり且つ前記最終エレメントを前記液体から保護するシールを備える、請求項1又は2に記載のリソグラフィック装置。
- 前記層は、保護コーティングを形成する、請求項1乃至3のいずれかに記載のリソグラフィック投影装置。
- 前記保護コーティングは、液体と小さい接触角度を有する、請求項4に記載のリソグラフィック投影装置。
- 前記保護コーティングの屈折率が部分的に変化されている、請求項4又は5に記載のリソグラフィック投影装置。
- 前記投影システムの最終エレメントは石英である、請求項1乃至6のいずれかに記載のリソグラフィック投影装置。
- パターン化された放射ビームを投影システムを用いて基板上へ投影するステップ、
前記投影システムの最終エレメントと前記基板の間の空間の少なくとも一部を液体で満たすステップ、
前記投影システムが備えるシール部材を用いて、前記投影システムの最終エレメントと前記基板の間に液体リザーバを形成し、且つ該液体リザーバに液体を閉じ込めるステップ、及び
前記投影システムの最終エレメントの上方に伸びた前記シール部材を用いて、該最終エレメントの上方に液体を上昇させ、液体のバッファを提供するステップを含み、
前記投影システムの最終エレメントの表面上に少なくともSiとOとからなる層が提供される、デバイス製造方法。
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