JP4391460B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
パターン形成した放射ビームを基板上に投影するように構成された投影系を備え、この投影系は、基板に隣接し、液体を介して、パターン形成した放射ビームを基板上に合焦するように構成された最終要素を含み、
この最終要素と基板との間の空間に液体を供給するように構成された液体供給システムを備え、この液体は最終要素の屈折率よりも大きい屈折率を有する。
投影ビームPB(例えば、紫外放射又は遠紫外放射)を調整するように構成された照明系(照明器)ILと、
パターン形成装置(例えば、マスク)MAを支持するように作製され、且ついくつかのパラメータに従ってパターン形成装置を正確に位置決めするように構成された第1の位置決め装置PMに連結されている支持構造(例えば、マスク・テーブル)MTと、
基板(例えば、レジスト塗布ウェハ)Wを保持するように作製され、且ついくつかのパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2の位置決め手段PWに連結されている基板テーブル(例えば、ウェハ・テーブル)WTと、
パターン形成装置MAによって放射ビームPBに付与されたパターンを基板Wの標的部分C(例えば、1個又は複数のダイを含む)の上に投影するように構成された投影系(例えば、屈折投影レンズ系)PLとを備える。
1.ステップ方式では、放射ビームに付与されたパターン全体を1回で標的部分Cの上に投影する間、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTを基本的に静止状態に保持する(即ち、単一静的露光)。次いで、異なる標的部分Cを露光できるように、基板テーブルWTをX方向及び/又はY方向に移動する。ステップ方式では、露光域の最大の大きさが、単一静的露光で描画される標的部分Cの大きさを限定する。
2.走査方式では、放射ビームに付与されたパターンを標的部分Cの上に投影する間、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTを同期して走査する(即ち、単一動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影系PLの(縮小/)拡大率と像反転特性によって決定可能である。走査方式では、露光域の最大の大きさが単一動的露光における標的部分の幅(非走査方向における)を限定する一方で、走査の移動長さが標的部分の高さ(走査方向における)を決定する。
3.別の方式では、放射ビームに付与されたパターンを標的部分Cの上に投影する間、マスク・テーブルMTを基本的に静止状態に保ってプログラム可能なパターン形成装置を保持し、且つ基板テーブルWTを移動又は走査する。この方式では、一般にパルス放射源が使用され、基板テーブルWTの移動後毎に又は走査時の連続的な放射パルスの合間に、プログラム可能なパターン形成装置を必要に応じて更新する。このような動作方式は、上で言及した種類のプログラマブル・ミラー・アレイなどのプログラム可能なパターン形成装置を利用するマスクレス・リソグラフィに容易に応用可能である。
nレジストsinθレジスト=n液体sinθ液体=nレンズsinθレンズ (1)
上式でn=屈折率である。
NA=nレンズsinθレンズ (2)
IL 照明系(照明器)
MA パターン形成装置(マスク)
MT 支持構造(マスク・テーブル)
PB 投影ビーム
PL 投影系
W 基板
WT 基板テーブル(ウェハ・テーブル)
10 液溜め
11 液体
12 封止部材
16 気体シール
20 最終要素
21 湾曲したレンズ
Claims (16)
- パターン形成装置からのパターン形成した放射ビームを基板上に投影するリソグラフィ装置であって、
前記パターン形成した放射ビームを前記基板上に投影するように構成された投影系を備え、前記投影系は、前記基板に隣接し、液体を介して、前記パターン形成した放射ビームを前記基板上に合焦するように構成された最終要素を含み、
前記最終要素と前記基板との間の空間に液体を供給するように構成された液体供給システムを備え、前記液体は前記最終要素の屈折率よりも大きい屈折率を有し、
前記最終要素は前記液体との境界面が湾曲しており、
前記最終要素は2つの対向面を有する形状のレンズを含み、前記2つの対向面は入射するパターン形成した放射ビームに対して正の曲率半径を有する、装置。 - 前記液体は1.56よりも大きい屈折率を有する、請求項1に記載の装置。
- 前記最終要素は正のレンズを含む、請求項1に記載の装置。
- 前記レンズは1.56の屈折率を有する石英ガラスから作製される、請求項3に記載の装置。
- 前記液体は水を含む、請求項1に記載の装置。
- 前記レンズはメニスカス凸形状である、請求項1に記載の装置。
- 前記最終要素の曲率は前記液体の屈折率を補償するように調整可能である、請求項1に記載の装置。
- 前記最終要素は複数のレンズを含み、それぞれのレンズが特定の液体の屈折率に対して構成される、請求項1に記載の装置。
- デバイス製造方法であって、
投影系の最終要素と基板との間の空間に液体を供給するステップを含み、前記液体は前記最終要素の屈折率よりも大きい屈折率を有し、前記最終要素は前記基板に隣接して位置決めされ、液体を介して、パターン形成した放射ビームを合焦するように構成され、
前記最終要素を使用し、液体を介して、パターン形成した放射ビームを前記基板上に投影するステップを含み、
前記最終要素は前記液体との境界面が湾曲しており、
前記最終要素は2つの対向面を有する形状のレンズを含み、前記2つの対向面は入射するパターン形成した放射ビームに対して正の曲率半径を有する、方法。 - 前記液体は1.56よりも大きな屈折率を有する、請求項9に記載の方法。
- 前記最終要素は正のレンズを有する、請求項9に記載の方法。
- 前記レンズは1.56の屈折率を有する石英ガラスから作製される、請求項11に記載の方法。
- 前記液体は水を含む、請求項9に記載の方法。
- 前記レンズはメニスカス凸形状である、請求項9に記載の方法。
- 前記液体の屈折率を補償するように前記最終要素の曲率を調整するステップを含む、請求項9に記載の方法。
- 前記最終要素を調整するステップは、複数のレンズの1つ又は複数のレンズを出し且つ/又は入れて置き換えるステップを含み、前記複数のレンズの各レンズは特定の液体の屈折率に対して構成される、請求項9に記載の方法。
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