JP5136056B2 - 半導体装置 - Google Patents

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Description

本発明は、ＬＳＩチップを積層してなる半導体装置に関し、特に、コイル（インダクタンス）の誘導によって信号伝送、および／または、電力供給を行う半導体装置に関する。
現在の集積回路は、プレーナ技術で製造されるのが主流であるが、個別半導体チップ上に達成できる回路集積度は飽和しつつある。近年、集積化効率を高めるために、半導体チップの複数の層を垂直方向に集積化する、即ち、上下に重畳して電気接続することが行なわれている。
垂直方向に集積化された回路の場合、夫々３次元の回路構造は、相互に独立して処理加工して製造された各個別チップ層（一般に、接着張り合わせ用の層で結合されている）の積層体から構成されている。垂直方向の接続部の電気的特性を良好にして、接続密度を高くするために、組立ての前に、各個別チップ層を相応の厚みになるように薄膜化されることも多い。
例えば、特開２００２−３０５２８２号公報などによって、垂直方向に集積化された回路の接続構造として各チップ層間を直接接続する構成が公知である（以下、第１の従来例という）。図１に、第１の従来例に開示された半導体装置の断面図を示す。
この第１の従来例では、図１に示すように、回路面１０２を有する半導体素子１０１上にはＡｌパッド１０３が設けられ、そしてこれらを貫通してビアホール１１０が開設されている。ビアホール１１０の内壁面は導電性被膜１１２によって被覆されており、Ａｌパッド１０３上にはＡｕバンプ１０４が設置されている。ある半導体素子の裏面のビアホール１１０に他の半導体素子のＡｕバンプ１０４を当接させることによって、半導体素子間の接続を達成している。
この構造では、多数で微細な電極同士を接続する場合には、積層構造を製作する時点で、各電極での接続が同時に可能なように位置決めを極めて正確にする必要がある。また、この構造では、組立て時における電極同士の接触不良の発生や薄型化によってチップに大きなそりが発生するので、直接接続が困難などの歩留まりが低下する問題がある。したがって、高精度な位置決め装置の必要性や歩留まりの低下などによって製造コストがかさむという著しい欠点がある。
このような欠点を改善する手法として非接触信号伝送法があり、例えば、特開平８−２３６６９６号公報などに開示されている（以下、第２の従来例という）。図２に、第２の従来例に開示された積層型半導体装置の構成図を示す。
図２に示すように、チップ層Ｌnには、送信装置Ｓと、この送信装置Ｓに接続された送信コイルＳＰＳが設けられている。チップ層Ｌn+xには、受信装置Ｅと、この受信装置Ｅに接続された受信コイルＳＰＥが設けられている。送信コイルＳＰＳと受信コイルＳＰＥとの間は、結合インダクタンスＭによって結合されている。各チップ層は、給電装置ＶＳＳ、ＶＤＤから給電されている。この半導体装置において、送信装置Ｓの入力側から電圧Ｕ１が入力されたとき、その出力側から電圧Ｕ２が出力され、この電圧Ｕ２が送信コイルＳＰＳに入力される。これによって、受信コイルＳＰＥの出力側に電圧Ｕ３が誘起され、受信装置Ｅの出力側から電圧Ｕ４が出力される。
この構成では、一方のチップ層内の回路に接続されたコイルと別のチップ層内の回路に接続されたコイルが設けられており、両コイルが電磁的に結合されているので、チップ層間相互の位置合わせ(整合)およびそれぞれのチップ層の表面の平坦度に対する条件は、図１に示した第１の従来例の場合に比べて高くなくてもよい。
第２の従来例では、垂直方向に各チップ層間の信号接続路を形成する際に、多数の信号についての伝送を行なう場合には、限られた領域で信号伝送路を形成するためにコイル同士を接近させる必要があり、コイル間の干渉が起こりまた隣接コイル間への影響が大きくなって、信号品質が低下する可能性が高まるという欠点がある。
また、第２の従来例では、信号伝達を非接触で行っているものの、給電のために信号伝達路とは全く構成の異なる、直接接続型の給電路を設ける必要があり、そのためには、ワイヤボンディング方式や第１の従来例の手法を用いる必要がある。ワイヤボンディング接続によって各ＬＳＩチップへの電力供給を行う構造では、ＬＳＩチップ上にワイヤを配置するためのスペースが必要となる。このため、この構造には、各ＬＳＩチップの面積増大を招く外、ＬＳＩチップの積層が困難で歩留まりが低下するという問題と、積層した際の半導体装置としての厚さが増大するという問題点がある。
また、第１の従来例によって電力供給を行う方式を採用した場合には、上述した微細な電極同士を接触させる際の問題点が起こる。
そこで、本発明は、複数のＬＳＩチップ間でコイルによって信号伝送を行なうＬＳＩ間の相互信号伝送方式において、相互のコイル位置のずれによる各ＬＳＩチップ間の信号伝送効率の低下や高密度化した際の信号伝送経路間の漏洩ノイズの増加などによる信号伝送品質の低下を防止することができる半導体装置を提供することを第１の目的とする。
また、本発明は、ＬＳＩチップへの電力供給を非接触方式で可能にすることを第２の目的とし、信号伝送路と電力供給路とを類似の手段によって実現できるようにして、構成の簡素化と製造コストの低減を達成することができる半導体装置を提供することを第３の目的とする。
上述の目的を達成するため、本発明に係る半導体装置によれば、複数のＬＳＩチップが積層され、ＬＳＩチップ間の信号の伝達がコイルを介して行われる半導体装置において、
ＬＳＩチップのコイルの内側には、ＬＳＩチップを貫いて貫通孔が形成され、この貫通孔に、磁性材料を含む磁性体ピンが挿入されている。
また、本発明に係る他の半導体装置は、表面に垂直に磁性材料を含む磁性体ピンが設置され、該磁性体ピンを囲んで表面にコイルが形成されているインターポーザ上に１つまたは積層された複数のＬＳＩチップが搭載され、少なくとも１つのＬＳＩチップには、インターポーザ上に形成されたコイルと電磁的に結合されたコイルが形成されている半導体装置であって、
ＬＳＩチップのコイルの中心部には、このＬＳＩチップを貫いて貫通孔が形成され、この貫通孔に前記磁性体ピンが挿入されている。
また、上述のように構成された本発明の半導体装置において、積層されたＬＳＩチップのコイル間、またはインターポーザ上のコイルとＬＳＩチップのコイルとの間で信号の授受が行われる。また、本発明の半導体装置において、インターポーザ上のコイルからＬＳＩチップに形成された回路に対して、ＬＳＩチップに形成されたコイルを介して電力の供給が行われる。
また、本発明に係る他の半導体装置は、表面にコイルが形成されているインターポーザ上に１つまたは積層された複数のＬＳＩチップが搭載され、ＬＳＩチップには、インターポーザ上に形成されたコイルと電磁的に結合されたコイルが形成されている半導体装置であって、
前記インターポーザ上に形成されたコイルからＬＳＩチップに形成された回路に対して、ＬＳＩチップ上に形成されたコイルを介して電力の供給が行われる。前記インターポーザ上および前記ＬＳＩチップには信号用コイルが形成され、前記インターポーザと前記ＬＳＩチップとの間、または、前記ＬＳＩチップ間の信号の授受が前記信号用コイルを介して行われる。前記信号用コイルは、前記ＬＳＩチップを貫通して前記インターポーザ上に設置された磁性体ピンを囲んで形成されている。
上述したように、本発明によれば、各ＬＳＩチップのコイルの内部に磁性体ピンが挿入されていることで、信号伝送したいコイル間の信号効率を向上し、かつ信号を通したくない他のコイルへの信号漏洩を低減することができる。また、各ＬＳＩチップへの給電もコイルを介して行うことができる。そして、コイルを用いて非接触の信号／電力伝送を行っているので、ＬＳＩチップ製造時のパターン形成とＬＳＩチップ積層時の位置合わせとに高精度な条件が不要になり、かつＬＳＩチップの表面の平坦度に対する要求も低減でき、ＬＳＩチップの製造コストおよび組み立てコストを低減することができる。
なお、本発明において、電源ラインは、接地ラインを含めて指している。
第１の従来例を示す断面図である。 第２の従来例の複数チップの積層状態を示す模式図である。 第１の実施形態の概略を示す断面図である。 第１の実施形態のＬＳＩチップ表面およびインターポーザ表面のコイル部の概略を示す平面図である。 第１の実施形態のＬＳＩチップ表面およびインターポーザ表面のコイル部の概略を示す平面図である。 第１の実施形態のＬＳＩチップ表面およびインターポーザ表面のコイル部の概略を示す平面図である。 第２の実施形態の概略を示す断面図である。 第３の実施形態の概略を示す断面図である。 第４の実施形態の概略を示す断面図である。 第５の実施形態の概略を示す断面図である。 第６の実施形態の概略を示す断面図である。 第７の実施形態の概略を示す断面図である。 第８の実施形態の概略を示す断面図である。 実施例１を示す断面図である。 実施例１の導電性ピンによる接続構造例を示す断面図である。 実施例１の導電性ピンによる接続構造例を示す断面図である。 実施例１の導電性ピンによる接続構造例を示す断面図である。 実施例１の導電性ピンによる接続構造例を示す平面図である。 実施例１の導電性ピンによる接続構造例を示す断面図である。 実施例１の導電性ピンによる接続構造例を示す断面図である。 実施例１の製造方法を示す断面図である。 実施例１の製造方法を示す断面図である。 実施例１の製造方法を示す断面図である。 実施例１の製造方法を示す断面図である。 実施例１の製造方法を示す断面図である。 実施例１の製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられるインターポーザの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられるインターポーザの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられるインターポーザの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられるインターポーザの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられるインターポーザの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられるインターポーザの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられるインターポーザの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられるインターポーザの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられるインターポーザの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられるインターポーザの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられるインターポーザの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられるインターポーザの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられるインターポーザの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられるインターポーザの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられるインターポーザの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられるインターポーザの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられるインターポーザの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられるインターポーザの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられるインターポーザの製造方法を示す断面図である。 実施例１で用いられるインターポーザの製造方法を示す断面図である。 実施例２を示す断面図である。 実施例２の導電性ピンによる接続構造例を示す断面図である。 実施例２の導電性ピンによる接続構造例を示す断面図である。 実施例２の導電性ピンによる接続構造例を示す断面図である。 実施例２の導電性ピンによる接続構造例を示す断面図である。 実施例２の導電性ピンによる接続構造例を示す平面図である。 実施例２の導電性ピンによる接続構造例を示す断面図である。 実施例２で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例２で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例２で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例２で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例２で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例２で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例２で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例２で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例２で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例２で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例２で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例２で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例２で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例２で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例２で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例２で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例２で用いられる磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法を示す断面図である。 実施例２の製造方法を示す断面図である。 実施例２の製造方法を示す断面図である。 実施例２の製造方法を示す断面図である。 実施例２の製造方法を示す断面図である。 実施例２の製造方法を示す断面図である。 実施例３の製造方法を示す断面図である。 実施例３の製造方法を示す断面図である。 実施例３の製造方法を示す断面図である。 実施例３の製造方法を示す断面図である。 実施例３の製造方法を示す断面図である。 実施例３の製造方法を示す断面図である。 実施例３の製造方法を示す断面図である。 実施例４を示す断面図である。 実施例４におけるインターポーザのコイル部の概略を示す平面図である。 実施例４におけるインターポーザのコイル部の概略を示す平面図である。 実施例４におけるインターポーザのコイル部の概略を示す平面図である。 実施例４の製造方法を示す断面図である。 実施例４の製造方法を示す断面図である。 実施例４の製造方法を示す断面図である。 実施例４の製造方法を示す断面図である。 実施例４の製造方法を示す断面図である。 実施例４の製造方法を示す断面図である。 実施例４の製造方法を示す断面図である。 実施例４の製造方法を示す断面図である。 実施例４の製造方法を示す断面図である。 実施例４の製造方法を示す断面図である。 実施例４の製造方法を示す断面図である。 実施例４の製造方法を示す断面図である。 実施例４の製造方法を示す断面図である。 実施例４の製造方法を示す断面図である。 実施例４の製造方法を示す断面図である。 実施例４の製造方法を示す断面図である。
以下、本発明の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。
図３は、第１の実施形態を示す半導体装置の概略を示す断面図であり、図４Ａは、各ＬＳＩチップの信号入出力部に形成されたコイルの周辺領域の概略を示す平面図、図４Ｂ，図４Ｃは、インターポーザのコイルの周辺領域の概略を示す平面図である。
ＬＳＩ（Large‐Scale Integration）チップ１は、Ｓｉ基板１ａを用いて形成されており、その回路形成面には信号伝送のために用いられる信号用コイル１ｂが形成されている。信号用コイル１ｂは、引出し配線１ｃ〔図４Ａ参照〕を介してＬＳＩチップ１内部に形成された回路と電気的に接続されている。Ｓｉ基板１ａの信号用コイル１ｂの中心部にはそれぞれ貫通孔１ｄが形成されている。
インターポーザ２は、例えばＳｉからなる基板２ａを用いて形成されており、基板２ａの表裏面および貫通孔の内壁面が、絶縁膜２ｂによって被覆されている。基板表面側の絶縁膜２ｂ上には、上部に積層されたＬＳＩチップ１との信号伝送のための信号用コイル２ｃが形成されており、この信号用コイル２ｃは、引出し配線２ｕ〔図４Ｂ参照〕を介して基板の貫通孔上にまで引き延ばされており、貫通孔に充填された貫通導電体２ｄを介して基板裏面に形成された電極パッド２ｅに接続されている。電極パッド２ｅの下面には、外部接続端子となるはんだボール５が形成されている。これらの配線では、配線長による損失を低減するために、コイルと貫通導電体間の配線長を極力短くし、また配線幅を太くするなどによってインピーダンスを小さくすることが望ましい。
インターポーザ２上には、複数（図示された例では４枚）のＬＳＩチップ１が積層されており、各信号用コイル１ｂ，２ｃの中心部に、磁性材料からなる磁性体ピン３が挿入されている。
そして、インターポーザ２とＬＳＩチップ１との間、ＬＳＩチップ１間、最上層のＬＳＩチップ１上およびＬＳＩチップ１の貫通孔１ｄ内には樹脂膜４が形成され、ＬＳＩチップが樹脂材で封止されている。
図３の構造の一例として、厚さ０．２μｍのＳｉＯ２薄膜を形成した厚さ１００μｍの２枚のＳｉチップ表面に内径１００μｍ、幅１０μｍのコイル配線を形成し、そのコイル配線の内部に直径８０μｍの貫通孔を形成し、貫通孔を合わせながら貼り合わせて、各Ｓｉ基板間の距離を１０μｍとして積層したモデルを作製した。各チップの貫通孔部に比透磁率２０、比誘電率２０の磁性材料のピンを挿入した構造にし、それぞれの基板表面に作製したコイル配線間に信号を伝送するモデルを作製し、３次元電磁界解析を行なった。その結果、本発明の構成であるコイル配線内部の貫通孔に磁性体ピンがある場合には、磁性体ピンがない場合（つまり、コイルのみ）に比べて、信号透過が１５ｄＢ以上向上し、隣接配線間の信号漏洩を約５ｄＢ低減することができた。
本発明によれば、ＬＳＩチップ間の位置合わせは、ＬＳＩチップ１の貫通孔１ｄと磁性体ピン３との相対的サイズによって決まり、位置決め精度が直接接続の場合に比べて低くてもよいことになる。一方、貫通孔に磁性体ピンが挿入されることによって、位置決めしない場合に比べて信号コイル同士の位置ずれを小さくすることができる。合わせて、磁性体ピンを用いることによって、コイル間信号伝送における信号伝達効率が向上し、隣接コイル間の干渉が更に低減される。また、磁性体ピンがコイル中に挿入された構造のために、コイル間距離による余裕が従来法に比べて大きくなる。
なお、図３に示した本実施形態では、１ターンのコイルの場合を記載しているが、要求性能に応じて、ターンが多数のコイルを用いることも可能である。また、図４Ａ，図４Ｂに示したコイルのリターン配線をこれらと異なる構造で、一方の配線をグランドに接地する構成も可能である。インターポーザにおいてコイルの一端を接地した例を図４Ｃに示す。なお、磁性体ピンは全体が金属やセラミックスの磁性材料でも、表面に磁性材料が被覆されたピンでも同様の効果が得られる。
また、本発明におけるインターポーザの基材としてはＳｉが有利に採用されるが、セラミックス等の無機材や樹脂積層板等の有機材料を用いることも可能である。
図５は、第２の実施形態の半導体装置の概略を示す断面図である。図５において、図３に示される第１の実施形態と同等の部分には同一符号を付している。図５に示すように、第２の実施形態では、ＬＳＩチップ１上に形成される信号用コイル１ｂやインターポーザ２等の構成が図３に示した構成とほぼ同じであるが、信号伝送に必要な部分のみに対応した長さの磁性体ピン３がインターポーザ２上に設けられている。また、貫通孔を設けたチップにおいて、ある信号を伝送する必要がない場合には、ＬＳＩチップ１の磁性体ピン３が通る部分にコイルを設けずに貫通孔のみを設けるようにすることによって、ＬＳＩチップ間の信号の伝送を意図した信号のみに限定することができる。さらに、この構成にすることによって、意図しない信号間の漏洩も低減することができる。
図６は、第３の実施形態の半導体装置の概略を示す断面図である。図６において、図３に示した第１の実施形態と同等の部分には同一符号を付している。図６に示すように、第３の実施形態において、薄型化されたＬＳＩチップ１の構成は図３に示した構成と同様である。本実施形態のインターポーザ２では、磁性体ピン３を設置した部分は図３に示した構成と同様であるが、積層したＬＳＩチップの外側でかつ積層されたＬＳＩチップと同一面上に、外部端子用の電極パッド２ｅが形成されており、その上にはんだボール５が設置されている。各ＬＳＩチップの積層方法は磁性体ピンを貫通孔に挿入していく方法や一部のピンのみ貫通孔に挿入してＬＳＩチップを積層した後に、ダミー基板に形成された磁性体ピンを残りの貫通孔に上面から挿入する方法（使用したダミー基板は必ずしも取り除かなくてもよい）などがある。
図７は、第４の実施形態の半導体装置の概略を示す断面図である。図７において、図３に示した第１の実施形態と同等の部分には同一符号を付している。図７に示すように、第４の実施形態では、例えば図３に示した半導体装置の信号伝送部に加えて電源とグランドに関する接続構造が設けられている。本実施形態おいて、信号伝送に関する部分は、図３に示した第１の実施形態の場合と同様である。
図７に示すように、各ＬＳＩチップ１には、電源とグランドに接続される導電性ピン６が挿入さるべき貫通孔が形成されている。導電性ピン６が挿入される貫通孔の内壁面には壁面導電膜１ｅが形成されている。また、基板表面の各貫通孔の周囲には壁面導電膜１ｅに接続されたランド１ｆが形成されている。このランド１ｆは、ＬＳＩチップ１の電源ラインまたはグランドラインに接続されており、壁面導電膜１ｅは導電性ピン６と接触している。導電性ピン６は、インターポーザ２の貫通導電体２ｄ上に形成された導電膜に当接されており、その貫通導電体２ｄは、電極パッド２ｅを介してはんだボール５に接続されている。導電性ピン６は、磁性体ピン３が導電性を有するものである場合にはこれと同一構成のものであってもよく、また磁性体ピン３にＡｕめっきなどの導電性被膜を施したものであってもよい。
組み立てに際しては、ＬＳＩチップの電源とグランドの貫通孔に対して位置合わせを行なった後に、導電性ピン６をＬＳＩチップの電源とグランド用の貫通孔に挿入してその壁面導電膜１ｅに接触させる。同様の工程を繰り返して所望枚数のＬＳＩチップを積層した後、導電性ピン６をインターポーザ２の貫通導電体２ｄ上の導電膜に接触させる。あるいは、この方法に代え、インターポーザ２の電源とグランドの電極の位置に予め導電性ピン６を作製しておき、その導電性ピンにＬＳＩチップの電源とグランド用の貫通孔を挿通させて積層する方法でもよい。
本実施形態によれば、電力供給のためにＬＳＩチップへのワイヤボンディングやバンプを介しての相互接続を行う必要がなくなる。そして、導電性ピンや磁性体ピンによってＬＳＩチップ間の位置決めが自動的に行われるようになるため、チップ製造時やチップ積層時に高い位置精度が要求されることがなくなる。
図８は、第５の実施形態の半導体装置の概略を示す断面図である。図８において、図７に示した第４の実施形態と同等の部分には同一符号を付している。図８に示すように、第５の実施形態では、樹脂膜４が、各ＬＳＩチップ１の中央部から除かれている。本実施形態では、ＬＳＩチップの信号用コイル１ｂや電源やグランドのための貫通孔が周辺配置のみの場合、ピン近傍の導体が存在する部分のみを樹脂材で封止することで、中央部分のＬＳＩチップ間に間隙を設け、この間隙に冷却用流体を流通させることによって、各ＬＳＩチップの中央部の最高温度スポットを並列冷却するマイクロギャップ冷却の手法を採ることができるので、非常に効率的な放熱構造を実現することが可能である。
図９は、第６の実施形態の半導体装置の概略を示す断面図である。図９において、図３に示した第１の実施形態と同等の部分には同一符号を付している。図９に示すように、第６の実施形態では、ＬＳＩチップ１とインターポーザ２とにそれぞれ信号用コイル１ｂ，２ｃが設けられ、これら信号用コイル１ｂ，２ｃを介して信号伝送が行われるように構成されている。また、第６の実施形態では、ＬＳＩチップ１とインターポーザ２とにそれぞれ電源用コイル１ｇ，２ｇが設けられ、電源用コイル２ｇ、磁性体ピン３および電源用コイル１ｇを介して、インターポーザ２から各ＬＳＩチップ１へ電力の供給が行なわれるように構成されている。ＬＳＩチップ１に設けられた電源用コイル１ｇは整流器に接続されており、交流電力が直流電力に変換されてＬＳＩチップ１内の回路へ給電される。図９に示した第６の実施形態では、電源用コイル１ｇと電源用コイル２ｇの組が２組設けられているが、１組だけでもよく、また３組以上であってもよい。
図９に示した第６の実施形態では、電源用コイルと信号用コイルの両方に磁性体ピン３が挿入されていたが、回路配置などの関係により磁性体用ピンを配置し難いような場合には、例えば電源用コイルについては磁性体ピンを挿入しないように構成されてもよい。
図１０は、第７の実施形態の半導体装置の概略を示す断面図である。図１０において、図９に示した第６の実施形態と同等の部分には同一符号を付している。図１０に示すように、第７の実施形態では、電源用コイル１ｇの中心部と電源用コイル２ｇの中心部とを通るように磁性体ピン３が設けられているが、信号用コイル１ｂ，２ｃには磁性体ピンが設けられていない。本実施形態は、磁性体ピンが設けられない構成であっても、信号伝送がノイズ、干渉が少なく高品質で行われる場合に有効である。電源用コイル１ｇと電源用コイル２ｇについては、電力伝送効率の面から磁性体ピンを設けることが望ましい。しかし、チップ中央部に電力を供給するような場合は、電源用コイルの真下に回路が配置されていると、磁性体ピンを通す貫通孔を設けることができない。この場合には、磁性体ピンを設けずに電源用コイルのみを介して電力伝送を行う構造が有効である。
図１１は、第８の実施形態の半導体装置の概略を示す断面図である。図１１において、図１０に示した第７の実施形態と同等の部分には同一符号を付している。図１１に示すように、第８の実施形態においては、ＬＳＩチップ１とインターポーザ２とにそれぞれ電源用コイル１ｇと電源用コイル２ｇが設けられ、電源用コイル２ｇ、磁性体ピン３および電源用コイル１ｇを介してインターポーザ２からＬＳＩチップ１へ電力の供給が行なわれるように構成されているが、信号用コイルが除去されている。代わりに、ＬＳＩチップ１の表面ないし裏面には信号用容量電極１ｈが設けられ、またインターポーザ２の表面には信号用容量電極２ｈが設けられている。そして、これらの容量電極間の容量結合によって、ＬＳＩチップ間ないしインターポーザ−ＬＳＩチップ間の信号の授受が行われるように構成されている。第８の実施形態は、インターポーザとこのインターポーザ上に積層した複数のチップとの間で容量結合を用いた信号伝送を行う場合に有効な構造である。
（実施例１）
図１２は、実施例１の半導体装置を示す断面図である。本実施例では、インターポーザ２上に４枚の厚さ１００μｍ以下のＬＳＩチップ１が積層されている。ＬＳＩチップ１は、Ｓｉ基板１ａを用いて形成されており、その回路形成面には内部回路に接続された、信号伝送のために用いられる信号用コイル１ｂが形成されている。信号用コイル１ｂは、引出し配線を介してＬＳＩチップ1内部に形成された回路と接続されている。Ｓｉ基板１ａの信号用コイル１ｂの中心部には貫通孔１ｄが形成されており、その貫通孔１ｄには磁性体ピン３が挿入されている。
また、各ＬＳＩチップ１には、電源とグランドに接続される導電性ピン６が挿入された貫通孔が形成されており、その貫通孔の内壁面に形成された壁面導電膜１ｅが導電性ピン６と接触されている。そして、導電性ピン６が挿入された貫通孔の基板表面周囲には、壁面導電膜１ｅに接続されたランド１ｆが形成されている。このランド１ｆは、ＬＳＩチップ１内の電源ラインまたはグランドラインに接続されている。本実施例では、磁性体ピン３がＮｉ−Ｆｅ合金（パーマロイ）によって形成されており、導電性ピン６も同一材料によって形成されている。
インターポーザ２は、Ｓｉからなる基板２ａを用いて形成されており、基板２ａの表裏面および貫通孔の内壁面が、絶縁膜２ｂによって被覆されている。基板２ａの表面側の絶縁膜２ｂ上には、上部に積層されたＬＳＩチップ１との信号伝送のための信号用コイル２ｃが形成されており、この信号用コイル２ｃの中心部には磁性体ピン３が配置されている。
また、インターポーザ２の表面側の絶縁膜２ｂ上には、電極パッド２ｆが形成されており、この電極パッド２ｆには導電性ピン６が当接されている。電極パッド２ｆは、インターポーザ２の貫通導電体２ｄ上に形成されて、この貫通導電体２ｄと直接接続されており、また信号用コイル２ｃは、貫通導電体２ｄ上にまで引き延ばされて、この貫通導電体２ｄに接続されている。
これらの信号用コイル２ｃ、電極パッド２ｆおよび貫通導電体２ｄは、絶縁膜２ｂ上に形成されたバリア／シード層２ｉと、バリア／シード層２ｉ上に形成されたＣｕめっき層２ｊとの積層膜によって形成されている。貫通導電体２ｄは、基板裏面にバリア／シード層２ｋとＣｕめっき層２ｍとの積層膜によって形成された電極パッド２ｅに電気的に接続されている。電極パッド２ｅの下面には、外部接続端子となるはんだボール５が形成されている。
はんだボールとしては、Ｓｎ−３７ＰｂやＰｂフリー組成であるＳｎ−３Ａｇ−０．５ＣｕやＳｎ−８Ｚｎ−３Ｂｉのはんだ材のものが用いられる。ピッチは、ピン数とサイズに依存するが、現状のＣＳＰの外部端子電極と同レベルの０．５ｍｍ以下に形成される。インターポーザ２の表裏面は、導電性ピン６の当接個所およびはんだボール５の形成個所を除いて保護膜２ｖによって被覆されている。
この構成において、ＬＳＩチップに形成される信号用コイルは、ＬＳＩチップの回路部と配線接続されていれば、回路面と同一面、裏面どちらにも形成することが可能である。また、電源、グランド用に用いる導電性ピンは、磁性材料によって形成されたが、この表面にＮｉ／Ａｕめっきを被膜することも可能である。また、ＬＳＩチップ間の相互干渉を低減する目的で、絶縁被覆金属あるいは電磁吸収体を各々のＬＳＩチップの間に挿入した構造を採ることも可能である。また、ＬＳＩチップ間の間隙は、５０μｍ以下で極力小さく維持することが、信号伝送品質を確保する上で望ましい。また、ＬＳＩチップ間に、高熱伝導体であるサーマルグリスの塗布や高熱伝導シートを挿入することによって、放熱を促進することも可能である。
次に、図１３Ａ〜図１３Ｆを参照して導電性ピン６とＬＳＩチップとの接続構造の変形例について説明する。ＬＳＩチップ１の回路形成面の絶縁膜１ｊ内には、内部回路に接続された内部配線１ｋが形成されている。この内部配線１ｋは、ＬＳＩチップ１の表面のランド１ｆを介して貫通孔内面の壁面導電膜１ｅに接続されている。
図１３Ａは、図１２に示したように垂直に貫通孔が形成されその貫通孔の内面に最表面がＡｕめっき層である壁面導電膜１ｅが形成された例である。導電性ピンの外周部分と、ＬＳＩチップの壁面導電膜１ｅのＡｕめっき層とが擦り合い、延性、展性に優れるＡｕめっき層が塑性変形することで、導電性接触を得る構造である。
図１３Ｂに示す構造は、ピンが差し込まれる一端側の直径を他端側よりも大きくしたテーパ形状の貫通孔を有している。この構造によって、ピンと貫通孔の位置ずれに対する許容度が大きくなり、さらに両金属層の擦れ合う面積が小さくなり、貫通穴内に対してピンを容易に挿入することが可能にされている。
図１３Ｃに示す構造は、ＬＳＩチップの回路形成面と反対側のランド上に金属製のバンプ１ｍが形成されたものである。サイズは、孔径を４６μｍ、ランド径を６０μｍに設定した場合、直径３μｍ、高さ３μｍとし、Ｎｉ系合金をコアとして表面にＡｕコートした構造に形成する。この構造は、ＬＳＩチップの積層工程で、バンプ１ｍとＬＳＩチップ表面のランドとの間で金属接合を形成することができるので、Ａｕめっき層の塑性変形による面接触以上の導電性接触の信頼性を確保することができる。この構造は、図１３Ｃに示したように、貫通孔がテーパ形状を有するように形成されてもよく、また貫通孔がストレート形状で形成されてもよい。
図１３Ｄ、図１３Ｅおよび図１３Ｆに示す構造は、ＬＳＩチップの貫通孔にめっき層を形成する(プレーテッドスルーホールを形成する)代わりに、ＬＳＩチップ表面に内部配線１ｋに接続された電極１ｎが形成され、この電極１ｎと導電性プレート１ｐを接続し、導電性プレート１ｐに導電性ピン６を挿入して、接触させたものである。導電性プレート１ｐは、弾性材料からなる四角形状のコア材の中央に、円形状の中心穴が貫通して形成され、この中心穴から十文字状のスリットが放射状に切られており、コア材の表面に、Ａｕめっきが施されて構成されている。
本実施例の構造によれば、プレーテッドスルーホールを形成することが不要になるので、製造コストの低減が可能である。また、導電性ピンの先端部分を鋭利に尖らせることによって、導電性ピンを導電性プレートへ容易に挿入することが可能になる。この構造では、導電性プレートの中央の中心穴に導電性ピンを差し込むことによって、導電性プレートのめっき層と導電性ピンの外周面とが擦れて、導電性接触が得られる。
（半導体装置の製造方法）
次に、工程順に示す図１４Ａ〜図１４Ｆを参照して本実施例の半導体装置の製造方法(組み立て工程)について説明する。組み立てに先立って、図１４Ａに示すように、貫通孔の周囲に信号用コイル１ｂが形成され、別の貫通孔に壁面導電膜１ｅとランド１ｆが形成されたＬＳＩチップ１を用意し、これとは別に、仮基板７上にシード層７ａを介して磁性体ピン３と導電性ピン６とが形成された部材を準備する。
ここで、壁面導電膜１ｅおよびランド１ｆと導電性ピンの寸法関係について説明する。壁面導電膜１ｅおよびランド１ｆは、拡大図で示すように、貫通孔が設けられたＳｉ基板１ａにＳｉＯ２膜１ｑを形成し、そのＳｉＯ２膜１ｑ上に、バリアメタル層としてのＴｉＮ膜１ｒ、シード層およびめっき層であるＣｕ膜１ｓおよびめっき層であるＡｕ膜１ｔを順次形成したものである。ＬＳＩチップ１の壁面導電膜１ｅおよびランド１ｆの形状（ランド径、孔径、金属層の厚さ）と導電性ピンの形状（直径、長さ）は、使用するＬＳＩチップの電極ピッチと積層数に依存する。
一例としてＬＳＩチップ１の電極ピッチが１００μｍで、４枚のＬＳＩチップ１を積層する場合について説明する。ＬＳＩチップ１の電源／グランド用貫通孔のランド径は、ショートの発生を防止し、かつ基材との確実な密着性を得るために６０μｍとし、孔径は４６μｍ、孔内壁の構成材料と厚さは、絶縁膜（ＳｉＯ２）を厚さ０．２μｍ、バリアメタル層（ＴｉＮ）を厚さ１０ｎｍ、シード層（Ｃｕ）を厚さ０．１５μｍ、Ｃｕめっき層を厚さ２μｍ、Ａｕめっき層を厚さ２μｍにそれぞれ形成する。
この結果、壁面導電膜１ｅの内径は３７．２８μｍとなる。これに挿入される導電性ピンの直径は、３８．７μｍ〜３９．２μｍに形成する。この寸法関係を採ることによって、壁面導電膜１ｅのＡｕめっき層と導電性ピンの外周部とが、０．５μｍ〜１μｍ重なり合う。この部分を活用してＬＳＩチップ１の貫通孔に導電性ピンを差し込むときに、壁面導電膜のＡｕが導電性ピンの金属材料層と擦れ合って塑性変形することで、確実な導電性接触を得ることができる。
なお、貫通孔部分の接続構造は、上述したように製品に必要とされる接触信頼性に応じて様々な構造を採ることが可能である。ＬＳＩチップ１の信号用コイルの形成される貫通孔１ｄは、一辺または内径が５０μｍの四角形状または円形状に形成する。磁性体ピン３は、導電性ピン６と同じく直径が３８．７μｍ〜３９．２μｍに形成する。
磁性体ピン、導電性ピンの高さは、ＬＳＩチップと樹脂層の各厚さに依存する。１枚のＬＳＩチップ１の厚さが５０μｍ、樹脂膜４の層間の厚さが１０μｍである場合を一例とすれば、４枚のＬＳＩチップ１の厚さである２００μｍと、５層分の樹脂膜４の厚さである５０μｍとを合計した高さ２５０μｍに形成する。
図１４Ａに示したように、磁性体ピン３、導電性ピン６を有する仮基板７の中央部分に、樹脂（例えば、熱硬化性エポキシ樹脂）４ａを塗布する。この状態で、ＬＳＩチップ１をチップ搭載装置のツールで真空吸着して固定し、ＬＳＩチップ１上の貫通孔と磁性体ピン３、導電性ピン６の両者の画像をカメラで撮像して、位置補正を行った後に、ＬＳＩチップ１を搭載して加熱、加圧することによって固定する〔図１４Ｂ〕。このプロセスを繰り返して磁性体ピン３、導電性ピン６が形成された仮基板７上に３次元ＬＳＩ積層構造体を製作する〔図１４Ｃ〕。
この後、インターポーザ２上面の中央部分に、樹脂４ａ（例えば、熱硬化性エポキシ樹脂）を塗布し、ＬＳＩチップ１が積層された基板をチップ搭載装置のツールで真空吸着して固定し、ＬＳＩチップ１をインターポーザと対向させる〔図１４Ｄ〕。この状態でインターポーザ上の貫通導電体２ｄ、電極パッド２ｆと磁性体ピン３、導電性ピン６の画像をカメラで撮像して、位置補正を行った後に、ＬＳＩチップが積層された仮基板７をインターポーザ２上に搭載して加熱、加圧することによって固定する〔図１４Ｅ〕。
次に、上面の仮基板７を、シード層７ａをエッチングすることによって剥離して除去する。最後に、貫通導電体の裏面の電極パッド２ｅにフラックスを供給してはんだボール５を搭載し、リフローによってはんだ付けする〔図１４Ｆ〕。以上のプロセスによって、本発明の半導体装置を製造することができる。
（磁性体ピンの製造方法）
次に、工程順に示す図１５Ａ〜図１５Ｉを参照して磁性体ピンおよび導電性ピンの製造方法について説明する。高輝度、高透過性（短波長）で指向性が良いＸ線の特徴を利用し、等倍転写型Ｘ線マスクを用いて高アスペクト比の構造体を加工する技術を適用する。まず、仮基板７を準備する〔図１５Ａ〕。仮基板７としては、Ｓｉやガラスあるいは金属などの材料が用いられる。Ｓｉ基板やガラス基板を使用する場合には、基板の上面にＣｕ、Ｔｉ、Ａｌあるいはこれらの金属を用いた合金を全面にスパッタリングしてシード層７ａを成膜する〔図１５Ｂ〕。この基板の材質は、基本的に、積層するＬＳＩチップと同等の熱膨張係数を有するＳｉやガラス基板を用いることが望ましい。出力が比較的に高く発熱が大きいデバイスを使用する場合は、基板にＣｕ等の金属を用いてＣｕを最後に剥ぎ取らずに残すことによって、放熱板として使用することが可能である。但し、この構成の場合は、基板上に熱伝導性が良い絶縁膜（ＳｉＮ）およびシード層を形成する必要があり、また、絶縁膜表面に形成したシード層は、磁性体ピン（導電性ピン）の形成後に、ショートを防止するために不要部を除去しておく必要がある。これらのプロセスが以下に示す製法に加わることになる。この表面にはレジスト膜８ａが、ピンの所望の高さよりも１０μｍ〜５０μｍ程度大きな厚さで形成される〔図１５Ｃ〕。
レジスト膜を形成した後、Ｘ線露光を行う。露光の手法は、マスク１１ａを介してレジスト膜８ａの表面に、高エネルギー電子が磁場によって制動を受けることによるシンクロトン放射光装置から発生するＸ線を照射する〔図１５Ｄ〕。露光源としては、Ｘ線以外にもＥＵＶ（極端紫外光）を照射することも可能である。次に、現像を行って、露光部分のレジスト膜を除去する〔図１５Ｅ〕。続いて、電気めっき法を用いて磁性材料めっき層３ａを、レジスト膜を除去したシード層７ａ上に形成する〔図１５Ｆ〕。この金属層の材質は、磁性材料であり、めっきによって金属層を形成することが可能であるという観点から、主にＮｉを３５〜８０重量％含むＮｉ−Ｆｅ合金（パーマロイ）、Ｆｅ−Ｃｏ合金、マグネタイト（Ｆｅ３Ｏ４）を用いる。
また、他の材料として、フェライトの埋め込みも、次に示す製法によって形成することが可能である。最初に、レジスト膜表面を親水化処理してＯＨ基を形成し、金属イオンを含む溶液に浸漬して金属イオンを吸着させる。この状態で、亜硝酸イオン、空気等の酸化剤を導入することによって、２価鉄イオンの一部が３価に酸化される。この表面にさらに金属イオンが吸着することによって、スピネル型結晶構造を有するフェライトを生成することができる。
図１５Ｆの工程に続いて、研削、研磨あるいはドライエッチングを行って所望の均一な厚みに加工する〔図１５Ｇ〕。続いて、平坦化された表面にめっき層を形成することにより、ピン上部のみに金属突起を形成する〔図１５Ｈ〕。この後、磁性体ピン３の形成領域にレジスト膜でマスクしウエットエッチングを行うことで、導電性ピン６のみの先端部を尖らせる。そして、レジスト膜を除去する〔図１５Ｉ〕。
（インターポーザの製造方法）
次に、工程順に示す図１６Ａ〜図１６Ｔを参照して、インターポーザの製造方法について説明する。工業的に市販されている厚さ５２５μｍ〜７２５μｍのＳｉ製の基板２ａを準備し、基板２ａの表面にＣＶＤによって、ＳｉＯ２膜を厚さ５μｍ〜７μｍで堆積することで絶縁膜２ｂを形成する〔図１６Ａ〕。次いで、レジストを全面に塗布して絶縁膜２ｂ上にレジスト膜８ｂを形成し、露光、現像、エッチングを行って、貫通導電体の形成領域のレジスト膜８ｂ、絶縁膜２ｂを除去する〔図１６Ｂ〕。次に、ＲＩＥ（Reactive Ion Etching）によって基板を掘り下げて、深さ１００μｍの孔を形成する〔図１６Ｃ〕。
次に、ＣＶＤによって、ＳｉＯ２膜を厚さ０．２μｍで堆積して孔内壁面に絶縁膜２ｂを形成する(図では、先に形成した絶縁膜と新たに形成した絶縁膜とを合体して図示している)〔図１６Ｄ〕。引き続いて、バリア層となるＴｉＮ膜を厚さ１０ｎｍ、シード層となるＣｕ膜を厚さ０．１５μｍでそれぞれ堆積してバリア／シード層２ｉを形成する〔図１６Ｅ〕。次に、電解めっきを行って孔内を完全に埋め込み、基板上に延在するＣｕめっき層２ｊを形成する〔図１６Ｆ〕。
次いで、ウエットエッチやＣＭＰ法を用いて研磨、平坦化処理を行うことで、表面に堆積したＣｕめっき層を厚さ２μｍ〜５μｍに均一化する〔図１６Ｇ〕。フォトリソグラフィによって電極パッド、配線層、コイル形成領域に選択的にレジスト膜８ｃを形成し〔図１６Ｈ〕、レジスト膜８ｃをマスクとしてＣｕをエッチング除去してＣｕめっき層２ｊを所定のパターンに加工する〔図１６Ｉ〕。レジスト膜８ｃを除去した後、ＣＶＤによってＳｉＮまたはＳｉＯ２を全面に堆積して保護膜２ｖを形成する〔図１６Ｊ〕。
次いで、導電性ピン当接個所以外をレジスト膜８ｄで覆い〔図１６Ｋ〕、不要な保護膜２ｖをドライエッチングで除去し、レジスト膜８ｄを剥離して除去する〔図１６Ｌ〕。続いて、ガラス等からなる支持体９とウエハを接着層１０で貼り合わせる〔図１６Ｍ〕。その後、ＣＭＰにより孔底面よって、厚さ１０μｍ〜３０μｍ程度のＳｉが残るまで裏面から研削処理を行った後〔図１６Ｎ〕、ドライエッチングを行って貫通導電体２ｄの頭出しを行う〔図１６Ｏ〕。
続いて、ＣＶＤを用いてＳｉＮまたはＳｉＯ２を堆積して裏面に絶縁膜２ｂを形成する〔図１６Ｐ〕。次に、裏面の絶縁膜２ｂをＣＭＰあるいはドライエッチングによって一部を除去して貫通導電体２ｄの表面を露出させた後、裏面の電極形成のため、スパッタ法によってＴｉＮとＣｕを堆積してバリア／シード層２ｋを形成し、電解めっきを行ってＣｕめっき層２ｍを形成する〔図１６Ｑ〕。次いで、不要な部分をミリングによって除去し、電源パッド２ｅを形成する〔図１６Ｒ〕。続いて、ＣＶＤによってＳｉＮまたはＳｉＯ２を全面に堆積して保護膜２ｖを形成し、外部接続端子の形成領域の保護膜２ｖをエッチングによって除去する〔図１６Ｓ〕。最後に、支持体９を剥離して除去して、本実施例のインターポーザが完成する〔図１６Ｔ〕。
（実施例２）
図１７は、本発明の実施例２の半導体装置を示す断面図である。本実施例では、インターポーザが、ＳＯＩ(Silicon On Insulator)基板を利用して形成されている。すなわち、ＳＯＩ層(Ｓｉ層)を利用してＳｉコアピンを形成するとともに、配線層、信号用コイルおよび電極パッドが形成されている。この構造を採ることによって、ＳＯＩ基板を用いて全ピンを一括形成できるので、実施例１と比較して製造プロセスを削減できるという効果を有している。また、外部接続端子(はんだボール)を配線層、コイルと同一面に形成するため、ピンが少ないデバイスに適した構造となっており、薄型化が可能な実施例となっている。
図１７に示すように、本実施例の半導体装置は、磁性体ピン３と導電性ピン６とが設置されたインターポーザ２上に、これらのピン３，６が挿入された貫通孔が設けられた４枚のＬＳＩチップ１が搭載されている。磁性体ピン３を中心として、ＬＳＩチップ１上にはその内部回路に接続された信号用コイル１ｂが形成されており、インターポーザ２の絶縁膜２ｂ上には信号用コイル２ｃが形成されている。信号用コイル２ｃは、その拡大図を示すように、Ｓｉ層２ｎと、表面がＡｕ層である導電性めっき層２ｔとから形成されている。
また、ＬＳＩチップ１の導電性ピン６が挿入されている貫通孔の周囲および内壁面には、ランド１ｆおよび壁面導電膜１ｅが形成されている。ランド１ｆはＬＳＩチップ１の電源ラインまたはグランドラインと接続されており、壁面導電膜１ｅは導電性ピン６と接触されている。インターポーザ２とＬＳＩチップ１との間およびＬＳＩチップ１間は、樹脂膜４によって充填されている。インターポーザ２の周辺部には、Ｓｉ層２ｎと、表面がＡｕ層である導電性めっき層２ｔとからなる電極パッド２ｅが形成されており、電極パッド２ｅ上には外部接続端子としてはんだボール５が形成されている。インターポーザ２の絶縁膜２ｂ上に形成された導電性ピン６と信号用コイル２ｃは、同じく絶縁膜２ｂ上に形成された配線を介して電極パッド２ｅに接続されている。なお、本実施例で用いられる磁性体ピン３と導電性ピン６は、Ａ部拡大図に示すように、Ｓｉコアピン２ｑの表面をＮｉ／Ｎｉ−Ｆｅ合金めっき層２ｓで被覆したものであり、同一の構成を有している。
次に、図１７を参照して各部の構成について更に詳細に説明する。インターポーザ２上のピンの形成方法としては、全ピンの一括形成が可能であり、製造コストの低減が比較的容易である、棒状単結晶体の形成方法であるＶＬＳ（Vapor-Liquid-Solid）成長法を活用する。
ピン材料となる、ＶＬＳ法による棒状単結晶体は、Ｓｉ、ＬａＢ６、ＧａＡｓ、ＧａＰ、ＷＯ２、ＳｉＣ等が形成可能であるが、積層するＬＳＩチップと熱膨張係数が同一であるＳｉを用いることが、長期信頼性を維持する観点から好ましい。インターポーザの基材としては、Ｓｉ基板の上面に絶縁膜であるＳｉＯ２膜が形成され、その上面にＳｉ単結晶膜が形成されたＳＯＩ（Silicon On Insulator）基板を用いる。各々の厚さは、Ｓｉ基板が厚さ４００μｍ〜８００μｍ、ＳｉＯ２膜が厚さ０．５μｍ〜２μｍ、Ｓｉ単結晶膜が厚さ３μｍ〜４０μｍの範囲の基材を使用する。
磁性体(導電性)ピンの形状（Ｓｉコアピンの直径、金属層の厚さ）と、ＬＳＩチップの貫通電極の形状（ランド径、孔径、金属層の厚さ）と、貫通孔の直径は、使用するＬＳＩチップの電極ピッチと積層数に依存する。一例としてＬＳＩチップの電極ピッチが、１００μｍ、４枚のＬＳＩチップを積層する場合について説明する(図１４Ａの部分拡大図および図１７参照)。
ＬＳＩチップの電源／グランド用貫通孔でのランド径は、ショートの発生を防止し、かつ基材との確実な密着性を得るために、直径６０μｍとし、孔径は、直径４６μｍ、孔内壁の構成材料と厚さは、絶縁膜（ＳｉＯ２）が厚さ０．２μｍ、バリアメタル層（ＴｉＮ）が厚さ１０ｎｍ、シード層（Ｃｕ）が厚さ０．１５μｍ、Ｃｕめっき層が厚さ２μｍ、Ａｕめっき層が厚さ２μｍで形成される。この結果、貫通電極の内径は、３７．２８μｍとなる。これに対応する導電性ピンは、Ｓｉコアピンの直径が３４．５μｍ〜３５μｍ、無電解Ｎｉ層が厚さ０．１μｍの上に磁性材料(Ｎｉ−Ｆｅ合金)を厚さ２μｍでめっきする。
この結果、金属層を含むピンの外径は３８．７μｍ〜３９．２μｍとなる。この寸法関係を採ることによって、壁面導電膜１ｅのＡｕめっき層と導電性ピンの外周部の磁性体層とが０．５μｍ〜１μｍ重なり合う。この重なる部分を活用して、ＬＳＩチップの貫通孔にピンを差し込んだ際に、壁面導電膜１ｅのＡｕが磁性材料層と擦れ合って塑性変形することで、確実な導電性接触を得ることができる。なお、導電膜ピンとＬＳＩチップとの接続構造としては、後述するように様々な態様を採ることが可能である。
ＬＳＩチップ１上の信号用コイル１ｂの中心に形成される貫通孔１ｄは、一辺または内径が５０μｍの四角形状あるいは円形状に形成する。磁性体ピン３は、導電性ピン６と同じく直径が３８．７μｍ〜３９．２μｍに形成する。なお、ＬＳＩチップの貫通孔１ｄの内壁と磁性体ピンとの間隔は、極力小さくすることが、信号伝送効率を高める上で望ましい。
Ｓｉコアピンの高さは、ＬＳＩチップと樹脂膜４の各層間の厚さに依存する。１枚のＬＳＩチップが厚さ５０μｍ、各層間の樹脂膜４が厚さ１０μｍの場合を一例とすれば、４枚のＬＳＩチップの厚さである２００μｍ、４層分の樹脂膜４の厚さである４０μｍ、突き出し量の１０μｍとを合計した高さ２５０μｍに形成する。
外部接続端子には、Ｓｎ−ＰｂやＰｂフリーの組成であるＳｎ−３Ａｇ−０．５ＣｕやＳｎ−８Ｚｎ−３Ｂｉのはんだボールまたは金属ピンが用いられる。はんだボールのインターポーザ基板への取付け高さは、ＬＳＩチップの積層数に依存するが、マザーボードに実装したときにピンの先端とマザーボードとの接触を防止することを目的として、ピンの高さよりも０．０５ｍｍ程度高い寸法に設定することが好ましい。
なお、マザーボードに、積層ＬＳＩチップに対する逃げまたは開口が形成されている場合には、このような条件を緩和する、または解消される。外部接続端子(はんだボール等)のピッチは、端子数とサイズに依存するが、現状のＣＳＰの外部接続端子と同レベル以下と考えて、０．５ｍｍ以下に形成する。
次に、図１８Ａ〜図１８Ｆを参照して、導電性ピン６（Ｎｉ／Ｎｉ−Ｆｅめっき層２ｓを有するＳｉコアピン２ｑ）とＬＳＩチップとの接続構造の変形例について説明する。ＬＳＩチップの回路形成面の絶縁膜１ｊ内には、内部回路に接続された内部配線１ｋが形成されており、内部配線１ｋはチップ表面のランド１ｆを介して貫通孔内面の壁面導電膜１ｅに接続されている。
図１８Ａは、図１７に示した垂直に貫通孔が形成され、その貫通孔の内面に最表面がＡｕめっき層である壁面導電膜１ｅが形成された例である。導電性ピンの外周部分に形成されたＮｉ／Ｎｉ−Ｆｅめっき層２ｓと、ＬＳＩチップの壁面導電膜１ｅのＡｕめっき層とが擦り合い、延性、展性に優れるＡｕめっき層が塑性変形することで、導電性接触を得る構造である。
図１８Ｂに示す構造は、ピンが差し込まれる一端側(回路形成面側)の直径を他端側よりも大きくしたテーパ形状の貫通孔を有している。この構造によって、ピンと貫通孔の位置ずれに対する許容度が大きくなり、さらに両金属層の擦れ合う面積が小さくなり、貫通穴内に対してピンを容易に挿入することが可能にされている。
図１８Ｃに示す構造は、貫通孔をＬＳＩチップの回路形成面側の直径が大きくなるテーパ形状に形成すると共に、ＬＳＩチップの回路形成面のランド１ｆ上に金属製のバンプ１ｍが形成されたものである。そのサイズは、孔径が４６μｍ、ランド径が６０μｍに設定された場合、直径を３μｍ、高さを３μｍとし、Ｎｉ系合金をコアとして表面にＡｕコートした構造に形成する。図１８Ｃに示した構造は、ＬＳＩチップの積層工程において、バンプ１ｍとＬＳＩチップ表面のランドと間で金属接合を形成することができるので、Ａｕめっき層の塑性変形による面接触以上の電気的接続の信頼性を確保することができる。
図１８Ｄ、図１８Ｅおよび図１８Ｆに示す構造は、ＬＳＬチップの貫通孔にプレーテッドスルーホールを形成する代わりに、ＬＳＩチップ表面に内部配線１ｋに接続された電極１ｎを形成し、この電極１ｎと導電性プレート１ｐとを接続し、導電性プレート１ｐに導電性ピン６を挿入、接触させたものである。導電性プレート１ｐは、弾性材料からなる四角形状のコア材の中央に、円形状の中心穴が貫通して形成され、この中心穴から十文字状のスリットが放射状に切られており、コア材の表面に、Ａｕめっきが施されて構成されている。
本実施例の構造によれば、プレーテッドスルーホールを形成することが不要になるので、製造コストの低減が可能である。また、導電性ピンの先端部分を鋭利に尖らせることによって、導電性ピンを導電性プレートへ容易に挿入することが可能になる。この構造では、導電性プレートの中央の中心穴に導電性ピンを差し込むことによって、導電性プレートのめっき層と導電性ピンの外周面のめっき層とが擦れて、導電性接触が得られる。
（インターポーザおよび磁性体(導電性)ピンの製造方法）
次に、工程順に示す図１９Ａ〜図１９Ｑを参照して、本実施例で用いられるインターポーザの製造方法について説明する。まず、図１９Ａに示すように、Ｓｉ基板２ａ上にＳｉＯ２からなる絶縁膜２ｂと、主面が（１１１）面である単結晶のＳｉ層２ｎとが形成されたＳＯＩ基板を準備する。なお、ＳＯＩ技術としては、単結晶Ｓｉ基板に酸素イオンを打ち込んで単結晶領域直下に酸化領域を形成する方法、表面酸化された単結晶Ｓｉ支持基板の酸化面に単結晶Ｓｉ基板を熱処理によって貼り合わせる方法等を用いる。ＳＯＩ基板の金属イオン、有機物の除去を目的として、アンモニア・過酸化水素水洗浄と塩酸・過酸化水素水洗浄を基本とするＳｉ基板のウエット洗浄法であるＲＣＡ洗浄を行って、蒸着あるいはスパッタ法によってＡｕ膜２ｏをＳｉ層２ｎ上に厚さ０．０３μｍ程度で成膜する〔図１９Ｂ〕。
次に、レジストを塗布してＡｕ膜２ｏ上にレジスト膜８ｅを形成し〔図１９Ｃ〕、描画、現像を行って、配線層(電極パッド、コイルを含む)、ピン形成領域以外のレジスト膜を除去する〔図１９Ｄ〕。次いで、レジスト膜８ｅをマスクとしてＡｕ膜２ｏのエッチングを行い〔図１９Ｅ〕、レジスト膜をすべて除去した後にＩＰＡ(イソプロピルアルコール)洗浄を実施する〔図１９Ｆ〕。
続いて、新たにレジストを塗布してＡｕ膜２ｏよりも高くなるようにレジスト膜８ｆを形成し〔図１９Ｇ〕、描画、現像を行って、ピン形成領域のレジスト膜を除去する〔図１９Ｈ〕。次に、レジスト膜の除去された凹部分にＡｕを無電解めっきして、厚さ２μｍのＡｕバンプ２ｐを形成する〔図１９Ｉ〕。そして、レジスト膜８ｆを剥離した後、ＩＰＡ洗浄を実施する〔図１９Ｊ〕。Ａｕバンプ２ｐの形成工程と、図１９Ｅに示したＡｕ膜２ｏのエッチング工程とは順序を逆にしてもよい。
次に、Ａｕ膜２ｏをマスクとしてフッ酸と硝酸の混合液を用いた等方性エッチングによってＳｉ層２ｎをパターニングして、配線層、ピン形成領域にＳｉ層を残す〔図１９Ｋ〕。その後、Ａｕバンプ２ｐ直下以外の部分のＡｕ膜２ｏをエッチングによって除去する〔図１９Ｌ〕。そして、Ａｕバンプをマスクとしてフッ酸、硝酸、酢酸の混合液を用いた等方性エッチングによって、Ａｕバンプ下面にメサ（台地）形状を形成する〔図１９Ｍ〕。
そして、この状態で反応炉の中で９００℃以上に加熱して、原料である四塩化珪素と水素ガスの混合ガスを導入する。この処理によって、Ａｕ−Ｓｉの合金融液とガスの間で気液界面反応が発生し、融液と基板の界面にシリコンが析出して、単結晶シリコンが垂直方向に成長しＳｉコアピン２ｑが形成される。成長後のピン先端部は、Ａｕ−Ｓｉの合金層が形成された状態であり、ピンの高さにばらつきが生じている状態である。そこで、合金部の除去とピン高さの均一化を目的として、ピン先端部分のトリミング処理を行う。具体的には、微細研磨粒子を含有するラッピングシートを回転させ、このシートにピン先端部を垂直に接触させることによって、トリミング工程を実施する〔図１９Ｎ〕。
さらに、Ｓｉコアピンをラッピングシートに接触させ、平面の一方向に力を加えることによって、ピンが一方向に揃った形に座屈させて変形させる。この状態でピン先端部に尖り形状を形成する〔図１９Ｏ〕。Ｓｉコアピンと配線層に導電性を付与するために、無電解めっきによってＳｉが露出している部分のみに選択的にＮｉ下地膜２ｒを厚さ０．５μｍで形成する〔図１９Ｐ〕。次に、Ｎｉ下地膜２ｒの表面に無電解めっきによって、磁性材料であるパーマロイ（Ｎｉ９０％−Ｆｅ１０合金）を厚さ２μｍで形成して、Ｓｉコアピンの表面に磁性体膜であるＮｉ／Ｎｉ−Ｆｅ合金めっき層２ｓを形成する〔図１９Ｑ〕。
なお、上述のＮｉ下地膜２ｒは、Ｎｉ−Ｐ下地膜でもよく、またＮｉ／Ｎｉ−Ｆｅ合金めっき層２ｓに代えてマグネタイト（Ｆｅ３Ｏ４）膜やフェライト膜を形成してもよい。また、必要に応じて、この膜の適宜個所に無電解めっきによって選択的にＡｕ膜を厚さ０．５μｍ〜２μｍで形成することも可能である。また、以上の工程により、磁性体ピン３および導電性ピン６を有するインターポーザ２を作製することができる。
（実施例２の製造方法）
次に、図２０Ａ〜図２０Ｅを参照して、インターポーザ２上にＬＳＩチップ１を積層して、図１７に示した実施例２の半導体装置を製造する方法について説明する。
図２０Ａに示すように、磁性体ピン３と導電性ピン６を有するインターポーザ２の中央部分に、樹脂4a（例えば、熱硬化性エポキシ樹脂）を予め塗布しておく。この状態で、貫通孔１ｄの周囲に信号用コイル１ｂが形成され、他の貫通孔に壁面導電膜１ｅとランド１ｆが形成されたＬＳＩチップ１をチップ搭載装置のツールで真空吸着して固定し、ＬＳＩチップ上の壁面導電膜１ｅが形成された貫通孔と導電性ピン６の両者の画像をカメラで撮像して、位置補正を行う〔図２０Ａ〕。そして、ＬＳＩチップを搭載して加熱、加圧することで、樹脂４によって封止して固定する〔図２０Ｂ〕。
次に、搭載された１枚目のＬＳＩチップ１上に樹脂４ａを塗布し、２枚目のＬＳＩチップ１の位置決めを行う〔図２０Ｃ〕。そして、２枚目のＬＳＩチップ1を搭載し、加熱、加圧することによって固定する。このプロセスを繰り返して４枚のＬＳＩチップの積層構造体を製作する〔図２０Ｄ〕。
この後、Ｓｉ層２ｎ上に導電性めっき層２ｔを形成してなる電極パッド２ｅにフラックスを供給してはんだボール５を搭載し、リフローにより電極パッド２ｅ上にはんだ付けする〔図２０Ｅ〕。以上のプロセスによって、本実施例の半導体装置は製造される。なお、ピンが周辺配置の場合は、ＬＳＩチップの中央部分をチップ搭載装置のツールで真空吸着して保持し、エリアアレイ配置の場合は、ＬＳＩチップの端部を吸着して保持する。
（実施例３）
図２１Ｇは、実施例３の半導体装置を示す断面図であり、図２１Ａ〜図２１Ｆは、実施例３の製造方法を説明するための、工程の順序で製造途中段階の状態を示す断面図である。
図２１Ｇに示すように、実施例３は、図１７に示した実施例２と主に次の３点が異なっている。１点目は、ＬＳＩチップの電源／グランド用に挿入される導電性ピン６として、Ｓｉコアピン２ｑの外周部を磁性材料ではなく、最表面が厚さ１μｍ〜５μｍのＡｕ層である導電性めっき層２ｔで被覆したものとした点である。導電性ピン６の表面をＡｕめっき層で形成することによって、ＬＳＩチップの貫通孔の壁面導電膜１ｅとの接触を、従来のスイッチ等で信頼性の実績があるＡｕ−Ａｕ接触にすることができるので、接触状態の信頼性の向上を図ることができる。
２点目は、ＬＳＩチップの信号用コイル１ｂの中心に形成された貫通孔に挿入される磁性体ピン３が全て磁性材料で形成されており、そして磁性体ピンが接着材によって、インターポーザの信号用コイル２ｃの中心に固定されている点である。ピン自体を完全に磁性材料で製造することによって、磁界を強く引き込むことができるので、信号伝送品質の向上を図ることができる。
３点目は、磁性体ピン３を挿入する領域に樹脂が存在しない点である。もちろん、本構造体を形成した後のプロセスで、上述の樹脂が存在しない領域にＬＳＩチップを積層した後の工程でキャピラリフロー（毛細管現象）によって樹脂を注入することも可能である。
（実施例３の製造方法）
図２１Ａ〜図２１Ｇを参照して、ＬＳＩチップの積層方法について説明する。図２１Ａに示すように、導電性ピン６を有し、配線層(図示なし)、信号用コイル２ｇおよび電極パッド２ｅが形成されたインターポーザ２を準備する。本実施例のインターポーザでは、導電性ピン６、配線層、信号用コイル２ｇおよび電極パッド２ｅはすべて、Ｓｉコアピン２ｑまたはＳｉ層２ｎの表面にＮｉ／Ａｕめっき層からなる導電性めっき層２ｔを形成したものである。このインターポーザのＬＳＩチップが搭載される部分の内、信号用コイル２ｃの形成個所を除く部分に樹脂４ａ（例えば、熱硬化性エポキシ樹脂）を塗布する。この状態で、貫通孔１ｄの周囲に信号用コイル１ｂが形成され、他の貫通孔に壁面導電膜１ｅとランド１ｆが形成されたＬＳＩチップ１をチップ搭載装置のツールで真空吸着して固定し、ＬＳＩチップ１上の壁面導電膜１ｅが形成された貫通孔と導電性ピン６の両者の画像をカメラで撮像して、位置補正を行った後に、ＬＳＩチップ１を搭載して加熱、加圧して樹脂膜４によって固定する〔図２１Ｂ〕。
次に、搭載された１枚目のＬＳＩチップ１上に樹脂４ａを塗布し、２枚目のＬＳＩチップ１の位置決めを行う〔図２１Ｃ〕。そして、２枚目のＬＳＩチップ１を搭載し、加熱、加圧して樹脂４によって固定する〔図２１Ｄ〕。このプロセスを繰り返すことで、インターポーザ３上に４枚のＬＳＩチップの積層構造体を製作する。
この後、磁性体ピン３がシード層７ａを介して形成された仮基板７チップ搭載機のツールで真空吸着して固定し、磁性体ピンの先端に接着剤７ｂをスタンピングにより付着させ、インターポーザ２の電極パッド２ｅと仮基板７に形成した貫通孔との間で位置合わせを行う〔図２１Ｅ〕。そして、磁性体ピン先端部分をインターポーザ上に形成した信号用コイル２ｃの中心に接着固定した後、シード層を選択的にエッチングすることによって、上部の仮基板７をシード層の部分で切り離す〔図２１Ｆ〕。最後に、電極パッド２ｅにフラックスを供給してはんだボール５を搭載し、リフローによって電極パッド２ｅ上にはんだ付けする〔図２１Ｇ〕。
（実施例４）
図２２は、実施例４の半導体装置を示す断面図であり、図２３Ａ〜図２３Ｃは、実施例４のインターポーザのコイル付近の概略を示す平面図である。本実施例では、インターポーザ２上に磁性体膜１２が設けられ、磁性体膜１２上には一対の磁性体ピン３が設置されており、一対の磁性体ピン３はその頂部において磁性体膜１３によって連結されている。すなわち、一対の磁性体ピン３と磁性体膜１２，１３とによって閉磁路が構成されている。インターポーザ２上には、信号用容量電極２ｈが、また各ＬＳＩチップ１上には、信号用容量電極１ｈが形成されており、これらの電極１ｈ，２ｈを介して、ＬＳＩチップ１間、インターポーザ２−ＬＳＩチップ１間で信号の授受が行われるように構成されている。
また、インターポーザ２上の磁性体ピン３の周囲には電源用コイル２ｇが形成され、そして各ＬＳＩチップ１の磁性体ピン３が挿通する貫通孔１ｄの周囲の基板の表裏面には電源用コイル１ｇが形成されている。電源用コイル２ｇは、図２３Ａに示すように、引出し配線２ｕ、貫通導電体２ｄを介して基板裏面の一対の電極パッド（電源用パッドとグランド用パッド）に接続されている。電源用コイル２ｇの両端を電極パッドに接続する構成の代わりに、図２３Ｂに示すように、電源用コイル２ｇの一端のみを直近の電極パッドに接続し他端はグランド配線に接続するように構成してもよい。但し、このグランド配線は、インターポーザ２の不図示の領域で、貫通導電体２ｄを介してグランド用の電極パッドに接続されている。
あるいは、図２３Ｂに示した構成とは逆に、図２３Ｃに示すように、電源用コイル２ｇの一端が直近の電極パッドに接続され他端が電源配線に接続されるように構成されてもよい。この構成の場合も、電源配線は、インターポーザ２の不図示の領域で、貫通導電体２ｄを介して電源用の電極パッドに接続される。これらの電源配線、グランド配線において、配線長による損失を低減するために、コイルと貫通導電体間、およびパッドと貫通導電体間の配線長は極力短くし、また配線幅を太くするなどによって、インピーダンスを小さくすることが望ましい。
なお、図２２には、容量結合を用いて信号授受を行う実施例を示したが、図１０に示したようなコイルによる電磁結合を用いた信号授受、または図９に示したようなコイルと磁性体ピンによる電磁結合を用いた信号授受を行う構造でも良い。
また、図２２、図２３Ａ〜図２３Ｃに示した実施例では、インターポーザ２上の電源用コイル２ｇのターン数、各ＬＳＩチップ１上の電源用コイル１ｇのターン数がそれぞれ１ターンである構成を示したが、この構成に限定されるものではない。例えば、電源用コイル２ｇのターン数をｎ０、各ＬＳＩチップ１の電源用コイル１ｇのターン数をｎ１、ｎ２、ｎ３・・・として、それぞれターン数が異なる電源用コイル１ｇ，２ｇを配置することで、ＬＳＩチップ１毎に異なる電圧の供給が可能となる。同様に、同一のＬＳＩチップ１上でターン数が異なる電源用コイル１ｇを配置することで、１つのＬＳＩチップ１に複数種の電圧を供給することが可能となる。ここでＬＳＩチップ１に供給する電圧値は、電源用コイル２ｇのターン数ｎ０と、各ＬＳＩチップ１の電源用コイル１ｇのターン数をｎ１、ｎ２、ｎ３・・・との比で決定される。
したがって、複数種の電源を必要とする回路を有する半導体装置において、上述のような構成を採ることで、ＤＣ／ＤＣコンバータ等の電圧変換器が不要となり、装置の小型化を実現することができる。
本実施例においては、電源用の磁路がループ状に形成されることにより、磁性体ピンのみを挿入する場合と比較して電力供給効率を飛躍的に高めることができる。また、ＬＳＩチップ上に信号用容量電極１ｈを設け、これにより信号の授受を行うようにすることで、信号伝送用の貫通孔の形成工程、プレーテッドスルーホールの形成工程が不要になるので、製造コストの低減を図ることができる。また、実施例１では、電源、グランド用に貫通孔の壁面導電膜１ｅと導電性ピン６との間で接触による電気的接続が必要であるため、一定レベルの導電性ピンとＬＳＩチップの位置合わせ精度が必要であるが、本実施例は、位置精度に対する許容度を大きくすることができる。
（実施例４の製造方法）
図２４Ａ〜図２４Ｐを参照して、実施例４の製造方法について説明する。まず、仮基板７上にシード層７ａを形成し、その上にレジスト膜８ｇを形成する〔図２４Ａ〕。レジスト膜８ｇを露光し、現像を行って、磁性体膜形成領域のレジスト膜を除去する〔図２４Ｂ〕。電解めっきにより磁性体膜１３を形成する〔図２４Ｃ〕。レジスト膜を剥離して除去する〔図２４Ｄ〕。
新たにレジストを塗布し、磁性体ピンの所望の高さ以上の膜厚のレジスト膜８ｈを形成する〔図２４Ｅ〕。マスク１１ｂを介してＸ線露光を行う〔図２４Ｆ〕。続いて、現像を行う〔図２４Ｇ〕。電解めっきによって露出したシード層７ａ上にＮｉ−Ｆｅ合金(パーマロイ)を電解めっきによって成長させて磁性体ピン３を形成する〔図２４Ｈ〕。剥離液によってレジスト膜８ｈを除去し、仮基板７の中央部分に樹脂４ａ（例えば、熱硬化性エポキシ樹脂）を塗布する。この状態で、貫通孔の周囲の基板表裏面に電源用コイル１ｇが形成され、基板の回路形成面に信号用容量電極１ｈが形成されたＬＳＩチップ１をチップ搭載装置のツールで真空吸着して固定し、ＬＳＩチップ１上の貫通孔１ｄと磁性体ピン３の両者の画像をカメラで撮像して、位置補正を行った後に、ＬＳＩチップの貫通孔１ｄを磁性体ピン３に通す〔図２４Ｉ〕。そして、ＬＳＩチップ１を仮基板７上に搭載して加熱、加圧することで樹脂４によって封止して固定する〔図２４Ｊ〕。
次に、搭載された１枚目のＬＳＩチップ１上に樹脂４ａを塗布し、２枚目のＬＳＩチップ１の位置決めを行い、２枚目のＬＳＩチップの貫通孔１ｄを磁性体ピン３に通す〔図２４Ｋ〕。そして、２枚目のＬＳＩチップ１を搭載し、加熱、加圧することによって固定する。このプロセスを繰り返すことで、仮基板７上に４枚のＬＳＩチップ１の積層構造体を製作する〔図２４Ｌ〕。次いで、最上層のＬＳＩチップ１上に樹脂４ａを塗布し、磁性体膜１２および電源用コイル２ｇが形成されたインターポーザ２をＬＳＩチップ積層構造体上に位置決めする〔図２４Ｍ〕。
そして、インターポーザ２をＬＳＩチップ積層構造体上に搭載し、加熱、加圧することによって固定する〔図２４Ｎ〕。続いて、仮基板７をその上に形成されたシード層７ａをエッチングすることによって剥離して除去する〔図２４Ｏ〕。最後に、電極パッド２ｅにフラックスを供給してはんだボール５を搭載し、リフローにより電極パッド２ｅ上にはんだ付けする〔図２４Ｐ〕。以上のプロセスによって、本実施例の半導体装置は製造される。

Claims (20)

  1. 複数のＬＳＩチップが積層され、前記ＬＳＩチップ間の信号の伝達がコイルを介して行われる半導体装置において、
    前記ＬＳＩチップの前記コイルの内側には、該ＬＳＩチップを貫いて貫通孔が形成され、該貫通孔に磁性材料を含む磁性体ピンが挿入されていることを特徴とする半導体装置。
  2. 表面に垂直に磁性材料を含む磁性体ピンが設置され、該磁性体ピンを囲んで表面にコイルが形成されているインターポーザ上に１つまたは積層された複数のＬＳＩチップが搭載され、少なくとも１つの前記ＬＳＩチップには、前記インターポーザ上に形成された前記コイルと電磁的に結合されたコイルが形成されている半導体装置であって、
    前記ＬＳＩチップの前記コイルの中心部には、該ＬＳＩチップを貫いて貫通孔が形成され、該貫通孔に前記磁性体ピンが挿入されていることを特徴とする半導体装置。
  3. 前記磁性体ピンは、複数の前記ＬＳＩチップを貫通して設置されている請求項２に記載の半導体装置。
  4. 複数の前記磁性体ピンの一部は、積層された複数の前記ＬＳＩチップの一部を貫通して設置され、複数の前記磁性体ピンの他の一部は、複数の前記ＬＳＩチップをすべて貫通して設置されている請求項２に記載の半導体装置。
  5. 前記インターポーザ上に形成された前記コイルと前記ＬＳＩチップ上に形成された前記コイルとの間、または、前記インターポーザ上に形成された前記コイルと前記ＬＳＩチップ上に形成された前記コイルとの間および前記ＬＳＩチップ上に形成された前記コイル間で、前記磁性体ピンを利用して信号の授受が行われる請求項２ないし４のいずれか１項に記載の半導体装置。
  6. 前記インターポーザ上には、少なくとも表面部分が導電性材料によって形成され電源ラインに接続された導電性ピンが、前記インターポーザの表面に垂直に設置され、
    前記導電性ピンは前記ＬＳＩチップに形成された前記貫通孔に挿入され、前記導電性ピンが前記ＬＳＩチップ上に形成された電源ラインと電気的に接続されている請求項２ないし４のいずれか１項に記載の半導体装置。
  7. 前記導電性ピンが挿入されている前記ＬＳＩチップの前記貫通孔の内壁面には、壁面導電膜が形成され、該壁面導電膜が前記導電性ピンと接触されている請求項６に記載の半導体装置。
  8. 前記導電性ピンが挿入されている前記ＬＳＩチップの前記貫通孔を覆って、放射状にスリットが形成され、前記ＬＳＩチップ上に形成された前記電源ラインに接続された導電性プレートが設置され、該導電性プレートが前記導電性ピンと接触されている請求項６に記載の半導体装置。
  9. 前記インターポーザ上に形成された前記コイルから前記ＬＳＩチップに形成された回路に対して、前記ＬＳＩチップ上に形成された前記コイルを介して電力の供給が行われる請求項２に記載の半導体装置。
  10. 前記インターポーザ上に形成された前記コイルと前記ＬＳＩチップ上に形成された前記コイルとの間、または、前記インターポーザ上に形成された前記コイルと前記ＬＳＩチップ上に形成された前記コイルとの間および前記ＬＳＩチップ上に形成された前記コイル間で、前記磁性体ピンを利用して信号の授受が行われ、かつ、前記インターポーザ上に形成された前記コイルから前記ＬＳＩチップに形成された回路に対して、前記ＬＳＩチップ上に形成された前記コイルを介し前記磁性体ピンを利用して電力の供給が行われる請求項２に記載の半導体装置。
  11. 電力供給用の前記コイルは、前記ＬＳＩチップの表裏面に形成されている請求項９または１０に記載の半導体装置。
  12. 電力供給用の前記コイルは、近接して設置された２本の前記磁性体ピンの周りにそれぞれ形成され、該２本の磁性体ピンは、積層された最上段の前記ＬＳＩチップ上および前記インターポーザ上にそれぞれ形成された磁性体膜と磁気的に結合されている請求項９または１０に記載の半導体装置。
  13. 前記インターポーザ上に形成された回路と前記ＬＳＩチップ上に形成された回路との間、または、前記インターポーザ上に形成された回路と前記ＬＳＩチップ上に形成された回路との間および前記ＬＳＩチップ上に形成された回路間での信号の授受が、前記インターポーザおよび前記ＬＳＩチップにそれぞれに形成された信号伝達用のコイルを介して電磁的に行われる請求項９に記載の半導体装置。
  14. 前記インターポーザ上に形成された回路と前記ＬＳＩチップ上に形成された回路との間、または、前記インターポーザ上に形成された回路と前記ＬＳＩチップ上に形成された回路との間および前記ＬＳＩチップ上に形成された回路間での信号の授受が、前記インターポーザおよび前記ＬＳＩチップにそれぞれに形成された信号伝達用の電極を介して容量結合によって行われる請求項９に記載の半導体装置。
  15. 前記インターポーザには、内部に貫通導体が形成されたスルーホールが形成され、
    前記インターポーザ上に形成された前記コイルは、前記貫通導体を介して裏面に形成された外部接続端子に接続されている請求項２に記載の半導体装置。
  16. 前記インターポーザの前記コイルの形成された面には、該コイルに接続された外部接続端子が形成されている請求項２に記載の半導体装置。
  17. 前記磁性体ピンは、全体が磁性材料によって形成されてなる、または、半導体材料の表面が磁性材料によって被覆されてなる請求項２に記載の半導体装置。
  18. 前記導電性ピンは、前記磁性体ピンと同一の構造である請求項７または８に記載の半導体装置。
  19. 前記導電性ピンは、前記磁性体ピンの表面に導電性被膜が形成されたものである請求項７または８に記載の半導体装置。
  20. 表面にコイルが形成されているインターポーザ上に１つまたは積層された複数のＬＳＩチップが搭載され、前記ＬＳＩチップには、前記インターポーザ上に形成された前記コイルと電磁的に結合されたコイルが形成されている半導体装置であって、
    前記インターポーザ上に形成された前記コイルから前記ＬＳＩチップに形成された回路に対して、前記ＬＳＩチップ上に形成された前記コイルを介して電力の供給が行われ、
    前記インターポーザ上および前記ＬＳＩチップには信号用コイルが形成され、
    前記インターポーザと前記ＬＳＩチップとの間、または、前記ＬＳＩチップ間の信号の授受が前記信号用コイルを介して行われ、
    前記信号用コイルは、前記ＬＳＩチップを貫通して前記インターポーザ上に設置された磁性体ピンを囲んで形成されていることを特徴とする半導体装置。
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