JP2005150185A - 電子装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電子装置を、熱伝導性基材2の一方の面に複数のフィンを備えるヒートシンクと、上記の熱伝導性基材の他方の面に形成された多層配線部とを備えるものとし、この多層配線部は、電子部品8を内蔵するとともに上下導通ビアポストを備えた電子部品内蔵層5A、5Bと、配線層と、電気絶縁層とを所望の積層順序で有し、電気絶縁層に設けた上下導通ビアにて配線層、電子部品内蔵層5A、5Bの電子部品8、上下導通ビアポストとの所望の導通がなされたものとし、さらに、多層配線部の表面に入出力端子10eを備えたものとする。
【選択図】図1
Description
これに対応するために、半導体チップを実装した薄い基板と、上下導通ビアを備えた穴明きの枠基板を、それぞれ複数個作製しておき、電子装置の作製時に、この実装基板と枠基板とを1つのモジュールとして一括で積層することにより、面方向の広がりを抑えて小型化された電子装置が開発されている。
しかし、上述のような電子装置の小型、高密度化や、実装される電子部品数の増大にしたがって、電子装置の発熱による温度上昇が重要な問題となる。そこで、動作時の電子部品の温度を所定の温度以下に保つために、ヒートシンクを備えた電子装置が開発されている(特許文献1)。
本発明は、上記のような実情に鑑みてなされたものであり、電子部品を内蔵し小型化、高密度化が可能で、信頼性の高い多層構造の電子装置を提供することを目的とする。
本発明の好ましい態様として、前記入出力端子上に外部電極部材を備えているような構成とした。
本発明の好ましい態様として、前記電子部品は、LSIチップ、ICチップ、LCR電子部品、センサ部品のいずれか1種または2種以上であるような構成とした。
[第1の実施形態]
図1は、本発明の電子装置の一実施形態を示す概略縦断面図である。図1において、本発明の電子装置1は、熱伝導性基材2′の一方の面に複数のフィン3を備えるヒートシンク2と、熱伝導性基材2′の他方の面に形成された多層配線部4とを備えたものである。
多層配線部4は、電子部品を内蔵するとともに上下導通ビアポストを備えた電子部品内蔵層と、配線層と、電気絶縁層とを所望の積層順序で有している。図示例では、多層配線部4は、2層の電子部品内蔵層5A、5Bを有している。すなわち、熱伝導性基材2′の一方の面2′bに配設された1層目の配線層10a上に電子部品内蔵層5Aを備えている。この電子部品内蔵層5Aは、絶縁樹脂層6と、この絶縁樹脂層6に設けられた切欠き部6aに内蔵された電子部品8と、上下導通ビアポスト7を有している。尚、図示例では、説明を容易にするために、配線層10a、上下導通ビアポスト7や電子部品8の個数、後述する配線層や電気絶縁層の数は簡略化して示している。
上記の配線層10c上には、電子部品内蔵層5Bが形成されている。この電子部品内蔵層5Bも、電子部品内蔵層5Aと同様に、絶縁樹脂層6と、この絶縁樹脂層6に設けられた切欠き部6aに内蔵された電子部品8と、上下導通ビアポスト7を有している。
そして、5層目の配線層(入出力端子)10eには、はんだボール等の外部電極部材(図示例では2点鎖線で示している)が設けられている。
また、電気絶縁層9a,9b,9c,9dの材質は、エポキシ樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂、カルド樹脂、ポリイミド樹脂等の絶縁材料とすることができる。
また、本発明の電子装置は、上述の実施例における1層目の配線層10aを備えないものであってもよい。
図2は、本発明の電子装置の他の実施形態を示す概略縦断面図である。図2において、
本発明の電子装置11は、熱伝導性基材12′の一方の面に複数のフィン13を備えるヒートシンク12と、熱伝導性基材12′の他方の面に形成された多層配線部14とを備えている。
ヒートシンク12は、熱伝導性基材12′の一方の面12′a(多層配線部14が形成されている面12′bの反対面)に複数のフィン13が設けられている。この熱伝導性基材12′、ヒートシンク12は、上述の熱伝導性基材2′、ヒートシンク2と同様とすることができ、ここでの説明は省略する。
上記の2層目の配線層20b上には、電子部品内蔵層15Aが形成されている。この電子部品内蔵層15Aは、絶縁樹脂層16と、この絶縁樹脂層16に内蔵された電子部品18と、上下導通ビアポスト17を有している。尚、図示例では、説明を容易にするために、上下導通ビアポスト17や電子部品18の個数、配線層や電気絶縁層の数は簡略化して示している。
上記の電子部品内蔵層15Aの上には、2層目の電気絶縁層19bを介し上下導通ビア17bにて電子部品内蔵層15Aの上下導通ビアポスト17や電子部品18の端子部18aに接続されるように形成された3層目の配線層20cと、この3層目の配線層20c上に3層目の電気絶縁層19cを介し上下導通ビア17cにて所定の3層目配線層20cに接続されるように形成された4層目の配線層20dとが形成されている。尚、配線層は必要に応じて更に多層にしてもよい。
電子部品内蔵層15Bは、下層である3層目の電気絶縁層19c上に電子部品18を載置し、この電子部品18を内蔵するように電気絶縁層19c上に、上下導通ビアポスト17を備えた絶縁樹脂層16を直接形成することにより設けた層である。そして、上下導通ビアポスト17は、それぞれ所定の4層目の配線層20dに接続されている。電子部品18は、LSIチップ、ICチップ、LCR電子部品、センサ部品のいずれか1種または2種以上とすることができ、また、複数個の電子部品18を内蔵してもよく、電子部品内蔵層15Aに内蔵される電子部品18と別種のものであってもよい。
上記の5層目の配線層(入出力端子)20eには、はんだボール等の外部電極部材(図示例では2点鎖線で示している)が設けられている。
また、ヒートシンク12と電子部品内蔵層15Aとの間に配線層、電気絶縁層の層数は図示例に限定されるものではなく、配線層、電気絶縁層を備えないものであってもよい。
本発明の電子装置は、上述の第1および第2の実施形態に示されるものに限定されるものではなく、形成する配線層、電気絶縁層、および、電子部品内蔵層の積層数等には制限はない。また、上述の電子部品内蔵層に代えて、電子部品を実装した薄い基板と、上下導通ビアを備えた穴明きの枠基板とを1つのモジュールとして一括で積層して電子部品内蔵層とした層を備えるものであってもよい。
(製造方法の第1の例)
図3乃至図5は、本発明の電子装置の製造方法の一例を図1に示される電子装置1を例として説明する工程図である。
まず、熱伝導性基材2′の一方の面2′b上に1層目の配線層10aを形成し、この配線層10aを覆うように給電層31を形成する(図3(A))。
1層目の配線層10aの形成方法には、特に制限はなく、例えば、以下のように形成することができる。すなわち、熱伝導性基材2′の一方の面2′b上に真空成膜法により導電層を形成し、この導電層上にレジスト層を形成し、所望のパターン露光、現像を行うことによりレジストパターンを形成する。その後、このレジストパターンをマスクとして電解めっきにより導電材料を析出させて配線層10aを形成し、レジストパターンと導電層を除去する。導電材料としては、銅、銀、金、アルミニウム等を挙げることができる。
次に、給電層31上にめっき用マスク32を形成する(図3(B))。めっき用マスク32は、例えば、給電層31上にドライフィルムレジストをラミネートして所望のパターン露光、現像を行うことにより形成することができる。このめっき用マスク32は、後述する導電性柱状凸部37を形成する部位に開口部32a、ブロック体38を形成する部位に開口部32bを有するものである。めっき用マスク32の厚みは、導電性柱状凸部37の高さ、ブロック体38の厚みを規定するものであり、例えば、25〜400μmの範囲で適宜設定することができる。
この電解めっきにより形成する導電性柱状凸部37、ブロック体38は、銅、銀、金、クロム、アルミニウム等の金属材料等でよく、後述する給電層31の除去が可能なように、給電層31の材料を考慮して選択することが好ましい。
次いで、導電性柱状凸部37とブロック体38を覆うように絶縁樹脂層6を形成し、その後、導電性柱状凸部37の頂部とブロック体38の上面のみが露出するように絶縁樹脂層6を研磨する(図4(A))。これにより、導電性柱状凸部37は上下導通ビアポスト7となる。絶縁樹脂層6の形成は、エポキシ樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂、カルド樹脂、ポリイミド樹脂等の有機絶縁性材料、あるいは、これらの有機材料とガラス繊維等を組み合わせたもの等の電気絶縁性樹脂を含有する塗布液を公知の塗布方法で塗布し、その後、加熱、紫外線照射、電子線照射等の所定の硬化処理を施すことにより行うことができる。
その後、切欠き部6aに電子部品8を嵌着することにより、電子部品内蔵層5Aを形成する(図4(C))。電子部品8は、商品名エイブルボンド3230等の耐熱性の高い導電性または絶縁性接着剤により切欠き部6a内(熱伝導性基材2′上)に固着してもよい。
次に、2層目の電子部品内蔵層5Bを形成する。この電子部品内蔵層5Bの形成は、上述の電子部品内蔵層5Aの形成と同様に行うことができる。
次いで、電子部品内蔵層5Bを覆うように電気絶縁層9c,9dを介して各配線層10d,10e(入出力端子)を形成して、熱伝導性基材2′上への多層配線部4の形成が完了する(図5(A))。上下導通ビア7c,7dを有する電気絶縁層9c,9dと配線層10d,10eの形成は、上述の上下導通ビア7aを有する電気絶縁層9aと配線層10bの形成と同様に行うことができる。
フィン3の形成は、例えば、機械的研削、化学的エッチング等の方法により行うことができ、また、面2′aにマスクを設けた後、サンドブラストによりフィン3を形成することができる。その後、配線層10e(入出力端子)上に外部電極部材(図示せず)を配設することにより、図1に示されるような電子装置1を得ることができる。外部電極部材は、例えば、各種はんだ、めっきバンプ(突起)、ならびに、めっきバンプ上へのはんだコート等により形成することができる。
本発明では、上記のフィン3の形成と、配線層10e(入出力端子)上への外部電極部材の形成の工程順は特に制限はない。
図6および図7は、本発明の電子装置の製造方法の他の例を図2に示される電子装置11を例として説明する工程図である。
まず、熱伝導性基材12′の一方の面12′b上に1層目の配線層20aを形成し、この配線層20aを覆うように電気絶縁層19aを介して2層目の配線層20bを形成する(図6(A))。1層目の配線層20aは、上述の例における1層目の配線層10aと同様にして形成することができ、上下導通ビア17aを有する電気絶縁層19aと配線層20bの形成は、上述の例における上下導通ビア7aを有する電気絶縁層9aと配線層10bの形成と同様に行うことができる。
このように電解めっきにより形成する導電性柱状凸部57は、上述の例における導電性柱状凸部37と同様の材料を用いて形成することができる。
次に、露出している給電層51を除去し、電気絶縁層19a上に電子部品18を載置する(図6(D))。給電層51の除去は、導電性柱状凸部57をマスクとしたウエットエッチング、ドライエッチング等により行うことができる。また、電子部品18の載置では、商品名エイブルボンド3230等の耐熱性の高い導電性または絶縁性接着剤により電気絶縁層19a上に固着してもよい。
絶縁樹脂層16の形成は、感光性を有するエポキシ樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂、カルド樹脂、ポリイミド樹脂等の有機絶縁性材料、あるいは、これらの有機材料とガラス繊維等を組み合わせたもの等を含有した塗布液を公知の塗布方法で塗布し、その後、紫外線照射、電子線照射等を用いて露光し現像することにより行うことができる。
上下導通ビア17b,17c,17dを有する電気絶縁層19b,19c,19dと配線層20c,20d,20eの形成は、上述の例の上下導通ビア7aを有する電気絶縁層9aと配線層10bの形成と同様に行うことができる。
本発明の電子装置は、構成する2層以上の電子部品内蔵層が、上述の製造例で挙げた異なる方法で形成されたものであってもよい。
[実施例1]
熱伝導性基材として、直径200mm、厚み625μmのシリコンウエハを準備した。このシリコンウエハのXY方向(シリコンウエハの表面に平行な平面)の熱膨張係数は、2.5ppmであった。
このシリコンウエハの一方の面にスパッタリング法によりクロムと銅からなる導電層を形成し、この導電層上に液状レジスト(東京応化工業(株)製LA900)を塗布した。次いで、1層目の配線層形成用のフォトマスクを介し露光、現像して配線形成用のレジストパターンを形成した。このレジストパターンをマスクとして電解銅めっき(厚み4μm)を行い、その後、レジストパターンと導電層を除去した。これにより、1層目の配線層をシリコンウエハ上に形成した。
次に、ブロック体をエッチングにより除去し、切欠き部を絶縁樹脂層に形成し、この切欠き部に残存する給電層をエッチングにより除去した。次いで、この切欠き部にLSIチップ(15mm×15mm)を接着剤(エイブルスティック(株)製 エイブルボンド3230)を用いて嵌着することにより、電子部品内蔵層を形成した。
次に、露光、現像を行って、電子部品内蔵層の上下導通ビアポストおよびLSIチップの端子部が露出するように小径の穴部(内径20μm)を電気絶縁層の所定位置に形成した。そして、洗浄後、穴部内および電気絶縁層上にスパッタリング法によりクロムと銅からなる導電層を形成し、この導電層上に液状レジスト(東京応化工業(株)製LA900)を塗布した。次いで、2層目の配線層形成用のフォトマスクを介し露光、現像して配線形成用のレジストパターンを形成した。このレジストパターンをマスクとして電解銅めっき(厚み4μm)を行い、その後、レジストパターンと導電層を除去した。これにより、上下導通ビアにより電子部品内蔵層の所定部位と接続された2層目の配線層を電気絶縁層を介して電子部品内蔵層上に形成した。上記の上下導通ビアの径は20μmであった。
次に、3層目の配線上に、上記の電子部品内蔵層の形成工程と同様の工程により、第2の電子部品内蔵層を形成した。その後、上記の配線層の形成工程と同様にして、電気絶縁層を介して4層目の配線層、5層目の配線層(入出力端子)を第2の電子部品内蔵層上に形成した。これにより、シリコンウエハの一方の面に多層配線部を設けた。
次いで、多層配線部の5層目の配線層(入出力端子)上に、はんだボールを形成して、図1に示されるような構成の本発明の電子装置(実施例1)を得た。
熱伝導性基材として、150mm×150mm、厚み200μmのFe−Ni42合金基材を準備し、このFe−Ni42合金基材の一方の面に電気絶縁層として、厚み10μmのAlNを溶射により形成した。
次に、上記の電気絶縁層上にスパッタリング法によりクロムと銅からなる導電層を形成し、この導電層上に液状レジスト(東京応化工業(株)製LA900)を塗布した。次いで、1層目の配線層形成用のフォトマスクを介し露光、現像して配線形成用のレジストパターンを形成した。このレジストパターンをマスクとして電解銅めっき(厚み4μm)を行い、その後、レジストパターンと導電層を除去した。これにより、1層目の配線層をFe−Ni42合金基材(電気絶縁層)上に形成した。
次に、露光、現像を行って、1層目の配線層の所定部位が露出するように小径の穴部(内径20μm)を電気絶縁層の所定位置に形成した。そして、洗浄後、穴部内および電気絶縁層上にスパッタリング法によりクロムと銅からなる導電層を形成し、この導電層上に液状レジスト(東京応化工業(株)製LA900)を塗布した。次いで、2層目の配線層形成用のフォトマスクを介し露光、現像して配線形成用のレジストパターンを形成した。このレジストパターンをマスクとして電解銅めっき(厚み4μm)を行い、その後、レジストパターンと導電層を除去した。これにより、上下導通ビアにより1層目の配線層の所定部位と接続された2層目の配線層を電気絶縁層を介して形成した。上記の上下導通ビアの径は20μmであった。
次いで、露出している給電層をエッチングにより除去し、電気絶縁層上の所定位置にLSIチップ(15mm×15mm、厚み50μm)を接着剤(エイブルスティック(株)製 エイブルボンド3230)を用いて固着載置した。
次いで、上記の電子部品内蔵層上に、上記の配線層の形成工程と同様にして、電気絶縁層を介して3層目の配線層を形成し、さらに、電気絶縁層を介して4層目の配線層を3層目配線層上に形成した。
次に、上記の配線層の形成工程と同様にして、電気絶縁層を介して5層目の配線層(入出力端子)を第2の電子部品内蔵層上に形成した。これにより、Fe−Ni42合金基材の電気絶縁層形成面に多層配線部を設けた。
次に、Fe−Ni42合金基材の他方の面にエッチングにより冷却用のフィンを形成して、ヒートシンクとした。形成したフィンは、厚み0.2mm、高さ0.1mm、長さ10mmの板形状であり、形成ピッチは0.4mmとした。
次いで、多層配線部の5層目の配線層(入出力端子)上に、はんだボールを形成して、図2に示されるような構成の本発明の電子装置(実施例2)を得た。
直径200mm、厚み625μmのシリコンウエハを準備した。このシリコンウエハのXY方向(シリコンウエハの表面に平行な平面)の熱膨張係数は、2.5ppmであった。
このシリコンウエハの一方の面に、実施例1と同様にして、多層配線部を形成した。
次いで、材質がAlからなり、一方の面に複数のフィンを備えたヒートシンクの平坦面側を、上記のシリコンウエハの他方の面に、エポキシ接着剤により接着して配設した。上記のフィンは、厚み0.2mm、高さ0.4mm、長さ10mmの板形状であり、形成ピッチは0.4mmであった。
次いで、多層配線部の5層目の配線層(入出力端子)上に、はんだボールを形成して、電子装置(比較例)を得た。
上述のように作製した電子装置(実施例1、実施例2、比較例)に対して、下記の熱サイクル試験を行った。
(熱サイクル試験方法)
−55℃から125℃の温度サイクルで、それぞれの温度において30分間ずつ熱
処理を行い、これを3000回繰り返した。
上記の熱サイクル試験の結果、実施例1および実施例2の電子装置はヒートシンクの脱落も発生せず、信頼性が高いことが確認された。
これに対して、比較例の電子装置は、ヒートシンクの脱落が発生した。
2,12…ヒートシンク
2′,12′…熱伝導性基材
3,13…フィン
4,14…多層配線部
5A,5B,15A,15B…電子部品内蔵層
6,16…絶縁樹脂層
6a…切欠き部
7,17…上下導通ビアポスト
8,18…電子部品
7a,7b,7c,7d,17a,17b,17c,17d…上下導通ビア
9a,9b,9c,9d,19a,19b,19c,19d…電気絶縁層
10a,10b,10c,10d,10e,20a,20b,20c,20d,20e…配線層
10e,20e…入出力端子
37,57…導電性柱状凸部
38…ブロック体
Claims (7)
- 熱伝導性基材の一方の面に複数のフィンを備えるヒートシンクと、前記熱伝導性基材の他方の面に形成された多層配線部とを備え、該多層配線部は、電子部品を内蔵するとともに上下導通ビアポストを備えた電子部品内蔵層と、配線層と、電気絶縁層とを所望の積層順序で有するものであり、前記電気絶縁層に設けた上下導通ビアにて前記配線層、前記電子部品内蔵層の電子部品、上下導通ビアポストとの所望の導通がなされており、前記多層配線部の表面に入出力端子を備えることを特徴とする電子装置。
- 前記ヒートシンクは、前記多層配線部との接合面内方向の熱膨張係数が2〜20ppmの範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の電子装置。
- 前記入出力端子上に外部電極部材を備えていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電子装置。
- 前記電子部品は、LSIチップ、ICチップ、LCR電子部品、センサ部品のいずれか1種または2種以上であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の電子装置。
- 前記電子部品内蔵層は、電子部品を内蔵するための切欠き部と、上下導通ビアポストを備えた絶縁樹脂層を下層の上に直接形成し、前記切欠き部に電子部品を内蔵させて形成したものであることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の電子装置。
- 前記電子部品内蔵層は、下層の上に電子部品を載置し、該電子部品を内蔵するように前記下層の上に上下導通ビアポストを備えた絶縁樹脂層を直接形成したものであることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の電子装置。
- 前記電子部品内蔵層は、電子部品を内蔵するとともに上下導通ビアポストを備えたモジュールを所望の導通をとるように下層の上に接合したものであることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の電子装置。
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