JP5077404B2 - 回折素子及び光学装置 - Google Patents
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Description
図1は、本例の分光回折素子の構成を示す側面図である。本例では、厚さ2.0mmの石英ガラス基板を透明基板101とし、透明基板の一方の面に、TiO2およびSiO2を用いた50度の入射角度に対して最も反射率が低くなる4層の反射防止膜102を施した。その後、フォトリソグラフィーおよびドライエッチングの技術を用いて矩形状の回折格子を形成した。すなわち、まず、格子の凹部に対応する反射防止膜の部分をエッチングにより除去した後に、石英ガラスの加工深さが900nmのエッチングを実施し、石英ガラスの凸部の上に多層膜が形成された格子の周期が1000nmの矩形回折格子103を形成した。凹部と凸部の幅の比は1:1であった。
図2は、本例の分光回折素子の構成を示す側面図である。本例では、厚さ2.0mmの石英ガラス基板を透明基板201とした。透明基板201上にフォトレジストを塗布し、開口部が格子の周期の1/3となる図示しないフォトマスクを用いてフォトリソグラフィー法を用い、凸部と凹部の幅の比率が2:1のフォトレジストマスクを形成した。その後、ドライエッチングの技術を用いて深さ3400nmの矩形回折格子を形成した。すなわち、格子の周期が1500nmであり、格子は1000nm幅の凸部と500nm幅の凹部からなり、石英ガラスの加工深さが3600mの矩形回折格子202を形成した。
図9は、本例の分光回折素子の構成を示す側面図である。本例では、厚さ2.0mmの白板ガラス基板を透明基板901とし、透明基板の一方の面に、スパッタ法によりTa2O5を厚さ1.3μmおよびSiO2を0.35μm成膜した。その後、フォトリソグラフィーおよびドライエッチングの技術を用いて膜を選択的に除去し、Ta2O5層903とSiO2層902からなる矩形状の回折格子904を形成した。このとき、露光に用いる図示しないフォトマスクの開口の最適化により露光部と未露光部の割合を調整し、格子凹凸部の格子周期に対する割合を6:4すなわち600nmの凸部に対して400nmの凹部となるようにした。
図11は、本例の分光回折素子の構成を示す側面図である。本例では、厚さ2.0mmの石英ガラス基板を透明基板1101とし、透明基板の一方の面に、スパッタ法によりTa2O5を厚さ1300nmおよびSiO2を450nm成膜した。その後、フォトリソグラフィーおよびドライエッチングの技術を用いて膜を選択的に除去し、Ta2O5層1103とSiO2層1102からなる回折素子110を形成した。このとき、露光に用いる図示しないフォトマスクの開口およびエッチング条件の最適化により回折格子の凸部の壁面を傾斜させることで周期が1000nmであり、テーパー付き格子1104とした。作製した回折格子の格子上端での、凸部と凹部の幅の割合はほぼ1:1であり、格子凸部の壁面のテーパー角は、約6度であった。
図12は、本例の分光回折素子の構成を示す側面図である。本例では、厚さ2.0mmの石英ガラス基板を透明基板1201とした。透明基板1201上にフォトレジストを塗布し、図示しないフォトマスクを用いてフォトリソグラフィー法を用い、フォトレジストマスクを形成した。その後、ドライエッチングの技術を用いて深さ3600nm、格子周期1500nmの回折格子1202を形成した。このとき、露光に用いる図示しないフォトマスクの開口およびエッチング条件の最適化により回折格子の凸部の壁面を傾斜させることで、テーパー付き格子1202とした。作製した回折格子の格子上端での、凸部と凹部の幅の割合はほぼ1:1であり、格子凸部の壁面のテーパー角θは、約4度であった。
Claims (12)
- 透明基板上に成膜した層に形成された格子を有し、前記格子は、断面形状が凹凸状でかつ、凸部上面が実質的に平坦であり、前記凸部が対称である回折素子において、
前記格子は、前記格子の1周期に占める、前記凸部上面の幅の割合が、前記凸部の底部の幅の割合以下であり、
前記凸部を構成する材料として前記透明基板よりも高屈折率の材料が用いられ、さらに、前記凸部上部のみに前記凸部の材料とは異なる1層以上の光学材料が積層されてなる低反射コーティングを有し、
前記格子の1周期が、入射する光の波長の0.55〜1.45倍の範囲にあり、かつ、前記光が格子形成面の法線に対して、15°〜80°までの角度で入射して、透過型として用いられる回折素子。 - 前記格子は、前記凸部の壁面と格子形成面の垂線とがなす角度で表されるテーパー角が3〜6°の範囲にある請求項1に記載の回折素子。
- 前記凸部の材料が、SiO 2 、TiO 2 、Ta 2 O 5 、Si 3 N 4 、Siからなる群より選ばれた1つを主成分とするかまたは、これらの混合物からなる請求項1または2に記載の回折素子。
- 前記光学材料が、TiO 2 、SiO 2 、Ta 2 O 5 、Al 2 O 3 から選ばれたものからなる請求項1から3いずれか1項に記載の回折素子。
- 前記光学材料は、1層のSiO 2 からなる請求項4に記載の回折素子。
- 請求項1から5いずれか1項に記載の回折素子の1つの面に、他の光学素子が積層され一体化されている回折素子。
- 入射する前記光は、1520から1620nmの範囲である請求項1から6いずれか1項に記載の回折素子。
- 入射する前記光は、1520から1570nmの範囲である請求項7に記載の回折素子。
- 透明基板上に成膜した層に形成された格子を有し、前記格子は、断面形状が凹凸状でかつ、凸部上面が実質的に平坦であり、前記凸部が対称であるとともに、前記格子の1周期に占める、前記凸部上面の幅の割合が、前記凸部の底部の幅の割合以下であり、
前記凸部を構成する材料として前記透明基板よりも高屈折率の材料が用いられ、さらに、前記凸部上部のみに低反射コーティングを有し、前記格子の1周期が入射する光の波長の0.55〜1.45倍の範囲にある回折素子の使用方法であって、
前記光が前記回折素子の格子形成面の法線に対して、15°〜80°までの角度で入射して、透過型として用いられる回折素子の使用方法。 - 入射する前記光と前記回折素子により生成される回折光とが、前記格子形成面に対してほぼ鏡像の関係にある請求項9に記載の回折素子の使用方法。
- 請求項1から8のいずれか1項に記載の回折素子が用いられている光学装置。
- 請求項1から8のいずれか1項に記載の回折素子が用いられている分光装置。
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Cited By (2)
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---|---|---|---|---|
JP2013024625A (ja) * | 2011-07-19 | 2013-02-04 | Seiko Epson Corp | 分光装置、検出装置及び分光装置の製造方法 |
JP2018146624A (ja) * | 2017-03-01 | 2018-09-20 | Agc株式会社 | 透過型回折素子および反射防止構造 |
Families Citing this family (52)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003025633A1 (fr) * | 2001-09-13 | 2003-03-27 | Asahi Glass Company, Limited | Dispositif de diffraction |
US9040090B2 (en) | 2003-12-19 | 2015-05-26 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Isolated and fixed micro and nano structures and methods thereof |
US7420735B2 (en) * | 2004-07-26 | 2008-09-02 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Transmission type diffraction grating |
CN1989441A (zh) * | 2004-07-29 | 2007-06-27 | 旭硝子株式会社 | 偏振性衍射型滤光片及叠层偏振性衍射型滤光片 |
US20080055719A1 (en) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Perkins Raymond T | Inorganic, Dielectric Grid Polarizer |
US7961393B2 (en) | 2004-12-06 | 2011-06-14 | Moxtek, Inc. | Selectively absorptive wire-grid polarizer |
US7800823B2 (en) | 2004-12-06 | 2010-09-21 | Moxtek, Inc. | Polarization device to polarize and further control light |
US7570424B2 (en) | 2004-12-06 | 2009-08-04 | Moxtek, Inc. | Multilayer wire-grid polarizer |
JP2006350126A (ja) * | 2005-06-17 | 2006-12-28 | Sharp Corp | 波長選択素子 |
US8092723B2 (en) | 2005-11-18 | 2012-01-10 | Nanocomp Oy Ltd | Method of producing a diffraction grating element |
JP2007264013A (ja) * | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Konica Minolta Opto Inc | 光学素子及び双方向光通信モジュール |
US7554734B1 (en) * | 2006-04-28 | 2009-06-30 | Johan Christer Holm | Polarization independent grating |
US8755113B2 (en) | 2006-08-31 | 2014-06-17 | Moxtek, Inc. | Durable, inorganic, absorptive, ultra-violet, grid polarizer |
JP5280654B2 (ja) * | 2006-09-21 | 2013-09-04 | 日本板硝子株式会社 | 透過型回折格子、並びに、それを用いた分光素子及び分光器 |
JP5146317B2 (ja) * | 2006-10-10 | 2013-02-20 | 旭硝子株式会社 | 回折素子およびこれを備えた光ヘッド装置 |
JP5181552B2 (ja) * | 2007-07-04 | 2013-04-10 | 株式会社リコー | 回折光学素子および光ビーム検出手段および光走査装置および画像形成装置 |
US8040607B2 (en) * | 2008-04-25 | 2011-10-18 | Jds Uniphase Corporation | Surface-relief diffraction grating |
US7821900B2 (en) * | 2008-05-15 | 2010-10-26 | Northrop Grumman Systems Corporation | Diffractive optical element and method of designing the same |
US8248696B2 (en) | 2009-06-25 | 2012-08-21 | Moxtek, Inc. | Nano fractal diffuser |
CN103097925B (zh) * | 2010-08-06 | 2016-04-13 | 旭硝子株式会社 | 衍射光学元件和计测装置 |
US8913321B2 (en) | 2010-09-21 | 2014-12-16 | Moxtek, Inc. | Fine pitch grid polarizer |
US8611007B2 (en) | 2010-09-21 | 2013-12-17 | Moxtek, Inc. | Fine pitch wire grid polarizer |
US8873144B2 (en) | 2011-05-17 | 2014-10-28 | Moxtek, Inc. | Wire grid polarizer with multiple functionality sections |
US8913320B2 (en) | 2011-05-17 | 2014-12-16 | Moxtek, Inc. | Wire grid polarizer with bordered sections |
US8922890B2 (en) | 2012-03-21 | 2014-12-30 | Moxtek, Inc. | Polarizer edge rib modification |
JP6007830B2 (ja) * | 2012-03-26 | 2016-10-12 | 旭硝子株式会社 | 透過型回折素子 |
JP2017004004A (ja) * | 2012-03-26 | 2017-01-05 | 旭硝子株式会社 | 透過型回折素子 |
KR102117138B1 (ko) * | 2012-07-27 | 2020-06-01 | 시리얼 테크놀로지즈 에스.에이. | 경사 입사각을 위한 편광 격자 |
JP2014092730A (ja) * | 2012-11-06 | 2014-05-19 | Canon Inc | 回折格子、それを用いた光学装置 |
US9948053B2 (en) | 2013-01-31 | 2018-04-17 | Shimadzu Corporation | Diffraction grating for laser pulse compression and laser device |
JP2015028528A (ja) * | 2013-07-30 | 2015-02-12 | キヤノン株式会社 | 透過型回折光学素子及び計測装置 |
JP6356557B2 (ja) * | 2013-09-30 | 2018-07-11 | 株式会社豊田中央研究所 | レンズおよびその製造方法 |
US9632223B2 (en) | 2013-10-24 | 2017-04-25 | Moxtek, Inc. | Wire grid polarizer with side region |
US9720147B2 (en) | 2014-03-28 | 2017-08-01 | Lumentum Operations Llc | Reflective diffraction grating and fabrication method |
JP6510231B2 (ja) * | 2014-08-27 | 2019-05-08 | 京セラ株式会社 | 携帯電子機器 |
JP2017142465A (ja) * | 2016-02-12 | 2017-08-17 | 古河電気工業株式会社 | 光操作装置および光源装置 |
CN106094087B (zh) * | 2016-08-02 | 2019-07-23 | 中国科学院微电子研究所 | 一种单级衍射光栅 |
JP2018061155A (ja) * | 2016-10-06 | 2018-04-12 | レノボ・シンガポール・プライベート・リミテッド | 情報処理装置、情報処理装置の制御方法、及び情報処理装置の制御プログラム |
JP2017033019A (ja) * | 2016-10-28 | 2017-02-09 | 株式会社島津製作所 | レーザ装置におけるチャープパルス増幅方法 |
EP4122897A1 (en) | 2017-01-05 | 2023-01-25 | Magic Leap, Inc. | Patterning of high refractive index glasses by plasma etching |
US10802185B2 (en) * | 2017-08-16 | 2020-10-13 | Lumentum Operations Llc | Multi-level diffractive optical element thin film coating |
US10712475B2 (en) | 2017-08-16 | 2020-07-14 | Lumentum Operations Llc | Multi-layer thin film stack for diffractive optical elements |
US10845596B2 (en) | 2018-01-23 | 2020-11-24 | Facebook Technologies, Llc | Slanted surface relief grating for rainbow reduction in waveguide display |
US10761330B2 (en) * | 2018-01-23 | 2020-09-01 | Facebook Technologies, Llc | Rainbow reduction in waveguide displays |
US10914954B2 (en) | 2018-08-03 | 2021-02-09 | Facebook Technologies, Llc | Rainbow reduction for waveguide displays |
JP7327907B2 (ja) * | 2018-04-25 | 2023-08-16 | デクセリアルズ株式会社 | 偏光板及び偏光板の製造方法 |
CN109581570B (zh) * | 2018-11-23 | 2021-09-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 金属线栅及其制造方法、显示面板、显示装置 |
US11150394B2 (en) * | 2019-01-31 | 2021-10-19 | Facebook Technologies, Llc | Duty cycle range increase for waveguide combiners |
US11487053B2 (en) | 2019-02-26 | 2022-11-01 | Ii-Vi Delaware, Inc. | Partially etched phase-transforming optical element |
US11608558B2 (en) | 2019-04-11 | 2023-03-21 | Applied Materials, Inc. | Multi-depth film for optical devices |
US12019252B2 (en) | 2019-11-26 | 2024-06-25 | Analog Devices, Inc. | Optical element with diffractive focusing features and diffractive anti-reflection features |
US20230359031A1 (en) * | 2022-05-09 | 2023-11-09 | Visera Technologies Company Limited | Waveguide structure and display device using the same |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01213599A (ja) * | 1988-02-23 | 1989-08-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 反射型回折格子 |
JPH0527108A (ja) * | 1991-07-18 | 1993-02-05 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | ラミナーグレーテイングの製造方法 |
DE19502727A1 (de) * | 1995-01-28 | 1996-08-01 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Phasengitter |
JP3407477B2 (ja) * | 1995-06-08 | 2003-05-19 | 松下電器産業株式会社 | 位相格子とその作製方法並びに光学式エンコーダ |
US5907436A (en) * | 1995-09-29 | 1999-05-25 | The Regents Of The University Of California | Multilayer dielectric diffraction gratings |
JPH09145922A (ja) * | 1995-11-20 | 1997-06-06 | Sankyo Seiki Mfg Co Ltd | 回折用光学素子およびこれを用いた光ピックアップ装置 |
BE1010069A6 (nl) * | 1996-03-29 | 1997-12-02 | Imec Inter Uni Micro Electr | Optisch systeem met hoge reflectiviteitsrooster. |
JPH10148707A (ja) * | 1996-11-18 | 1998-06-02 | Nikon Corp | 回折格子及び分光装置 |
DE19652563A1 (de) * | 1996-12-17 | 1998-06-18 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Lichtelektrische Positionsmeßeinrichtung |
JPH10177107A (ja) * | 1996-12-17 | 1998-06-30 | Hitachi Koki Co Ltd | 回折格子及び光記録装置 |
JP3978821B2 (ja) * | 1997-08-20 | 2007-09-19 | 旭硝子株式会社 | 回折素子 |
JPH11183249A (ja) * | 1997-12-24 | 1999-07-09 | Ando Electric Co Ltd | 分光器 |
JPH11250483A (ja) * | 1998-03-03 | 1999-09-17 | Sankyo Seiki Mfg Co Ltd | 光ピックアップ装置 |
JPH11271516A (ja) * | 1998-03-26 | 1999-10-08 | Minolta Co Ltd | 回折型カラーフィルター及びそれを用いた液晶表示装置 |
JPH11312329A (ja) * | 1998-04-28 | 1999-11-09 | Asahi Glass Co Ltd | 偏光性回折素子および光ヘッド装置 |
JP2002540446A (ja) * | 1999-03-22 | 2002-11-26 | エムイーエムエス・オプティカル・インコーポレイテッド | 回折選択偏光ビームスプリッタおよびそれにより製造されたビームルーチングプリズム |
JP4157654B2 (ja) * | 1999-08-23 | 2008-10-01 | 独立行政法人 日本原子力研究開発機構 | 円錐回折斜入射分光器及び該分光器用回折格子 |
JP2001235710A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-08-31 | Japan Science & Technology Corp | 回折光学素子及び撮像光学装置 |
JP3443656B2 (ja) * | 2000-05-09 | 2003-09-08 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 光触媒発色部材とその製造方法 |
US8054416B2 (en) * | 2000-08-15 | 2011-11-08 | Reflexite Corporation | Light polarizer |
JP3996760B2 (ja) * | 2000-11-16 | 2007-10-24 | 松下電器産業株式会社 | 回折格子体、光ピックアップ、半導体レーザ装置、及び光情報装置 |
US20020097660A1 (en) * | 2000-11-16 | 2002-07-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Diffraction grating body, optical pick-up, semiconductor laser apparatus and optical information apparatus |
JP2002169010A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-06-14 | Minolta Co Ltd | 回折光学素子 |
US6762880B2 (en) * | 2001-02-21 | 2004-07-13 | Ibsen Photonics A/S | Grating structures and methods of making the grating structures |
JP2002357716A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Mitsubishi Chemicals Corp | 偏光板及び反射型液晶表示装置 |
JP2003014914A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-15 | Sharp Corp | 回折素子およびそれを組み込んだ光ピックアップ装置 |
JP2003255113A (ja) * | 2002-02-28 | 2003-09-10 | Canon Inc | 光分離素子およびそれを用いた光学機器 |
US20040247010A1 (en) * | 2002-10-07 | 2004-12-09 | Makoto Okada | Antireflection diffraction grating |
CN100485424C (zh) * | 2003-02-18 | 2009-05-06 | 住友电气工业株式会社 | 衍射光栅元件及其制造方法和设计方法 |
-
2004
- 2004-03-12 JP JP2005503603A patent/JPWO2004081620A1/ja not_active Withdrawn
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-
2005
- 2005-09-13 US US11/223,936 patent/US7142363B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2010
- 2010-08-26 JP JP2010189874A patent/JP5077404B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013024625A (ja) * | 2011-07-19 | 2013-02-04 | Seiko Epson Corp | 分光装置、検出装置及び分光装置の製造方法 |
JP2018146624A (ja) * | 2017-03-01 | 2018-09-20 | Agc株式会社 | 透過型回折素子および反射防止構造 |
Also Published As
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