JP6007830B2 - 透過型回折素子 - Google Patents
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- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 title claims description 35
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 105
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 68
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 21
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 24
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 19
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 8
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 238000013461 design Methods 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- -1 Si 3 N 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000028161 membrane depolarization Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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- G02B5/00—Optical elements other than lenses
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Description
また、本発明は、透明基板と、前記透明基板の一方の面に周期的に備えられた凸部と、を有する前記透明基板に入射した光を回折する透過型回折素子であって、前記凸部は、前記透明基板側より、第1の層、第2の層、第3の層、第4の層を有し、前記第1の層と前記第3の層は、高屈折率材料であり、前記第2の層と前記第4の層は、前記高屈折率材料よりも屈折率の低い低屈折率材料であり、前記第1の層、前記第2の層、前記第3の層および前記第4の層のうち、前記第3の層の膜厚が最も厚く、λを入射光の波長、Pを複数の凸部の格子周期、θを入射光の入射角とし、(2λ/P-sinθ)>1を満足するときの、1525〜1575nm、または、1570〜1610nmの波長範囲でのp偏光およびs偏光の透過の1次回折効率が99%以上であることを特徴とする。
(透過型回折素子の構造)
本実施の形態における透過型回折素子について説明する。図1は、本実施の形態における透過型回折素子10の断面図であり、透明基板11の一方の面に、周期的、即ち、周期Pの周期で凸部12を形成することにより、凹凸状の回折格子が形成されている。本実施の形態においては、図2に示されるように、凸部12は低屈折率材料と高屈折率材料の2種類の材料を用いて4層構造が形成されている。具体的には、透明基板11の一方の面より、厚さd1の高屈折材料により形成された第1の層21、厚さd2の低屈折材料により形成された第2の層22、厚さd3の高屈折材料により形成された第3の層23、厚さd4の低屈折率材料により形成された第4の層24を積層して形成することにより凸部12が形成されている。この凸部12の形状は、下辺の長さがXb、上辺の長さがXt、高さがD、側辺の傾き(テーパー角)が鉛直から角度φ傾いている台形となっている。尚、透明基板11の他方の面には、反射防止膜13が形成されている。また、格子凹部に相当する凸部12の間の領域には、空気等の周辺媒質が存在しているものとする。
次に、本実施の形態における透過型回折素子10の作製方法について説明する。最初に、石英ガラスあるいは低膨張石英ガラス等の透明基板11の表面に、第1の層21、第2の層22、第3の層23、第4の層24を順次真空蒸着やスパッタリングにより成膜する。具体的には、第1の層21は、厚さd1の高屈折率材料により形成されており、第2の層22は、厚さd2の低屈折率材料により形成されており、第3の層23は、厚さd3の高屈折率材料により形成されており、第4の層24は、厚さd4の低屈折率材料により形成されている。これにより、基板11の表面に高屈折率材料層と低屈折率材料層とが交互に積層されている多層膜を形成する。尚、高屈折率材料としては、Si3N4、TiO2、Nb2O5、Ta2O5等の誘電体を使用でき、低屈折率材料としては、SiO2、SiON等の誘電体を使用できる。具体的には、高屈折率材料は、Si3N4、TiO2、Nb2O5及びTa2O5のうちから選ばれる1又は2以上の材料であってもよく、低屈折率材料は、SiO2、SiONのいずれかであってもよい。
(透過型回折素子の構造)
次に、第2の実施の形態における透過型回折素子について説明する。図4は、本実施の形態における透過型回折素子50の断面図であり、透明基板51の一方の面に反射防止膜53が形成されており、一方の面とは反対側の他方の面に反り調整膜54が形成されている。本実施の形態においては、このような反り調整膜54を形成することによって、反射防止膜53によって生じる透明基板51の反りを相殺することができる。反り調整膜54を形成する材料としては、透明基板51との屈折率差が±0.1以内となる材料を選択した場合には、光学的な特性が殆ど損なわれないため好ましい。また、透明基板51として石英ガラスあるいは低膨張石英ガラスを用いる場合には、SiO2、SiONといった誘電体材料を使用することができる。また、反り調整膜54の厚さは、反射防止膜53の厚さの0.5〜1.5倍であって、透過型回折素子における反り量に基づき適宜調整して定めることができる。反り調整膜54の厚さが反射防止膜53の厚さの0.5倍未満、あるいは1.5倍を超えると、反りを相殺することが難しい。本実施の形態においては、反射防止膜53が引張り応力の生じる膜である場合は、反り調整膜54も引張り応力の生じる膜を成膜する。反射防止膜53が圧縮応力の生じる膜である場合は、反り調整膜54も圧縮応力の生じる膜を成膜する。
最初に、第1の実施の形態に係る実施例1における透過型回折素子について説明する。本実施例における透過型回折素子10は、図1に示される断面構造のものであり、反射防止膜13が成膜された透明基板11上に、周期が1040nmである凸部12を形成することにより回折格子が形成されている。尚、本実施例における透過型回折素子10には、波長1525nm〜1575nmの光が、凸部12が形成されている面の法線に対し、48°の角度から入射させるものである。
次に、第1の本実施の形態に係る実施例2における透過型回折素子について説明する。本実施例における透過型回折素子10は、図1に示される断面構造のものであり、反射防止膜13が成膜された透明基板11上に、周期が1070nmである凸部12を形成することにより回折格子が形成されている。尚、本実施例における透過型回折素子10は、波長1570nm〜1610nmの光が、凸部12が形成されている面の法線に対し、48°の角度から入射するものである。
次に、第2の実施の形態に係る実施例3における透過型回折素子について説明する。本実施例における透過型回折素子50は、図4に示される断面構造のものであり、透明基板51の一方の面に反射防止膜53が成膜され、一方の面とは反対側の他方の面に反り調整膜54が成膜されている。また、反り調整膜54の上には、周期が1040nmとなる凸部52を形成することにより回折格子が形成されている。尚、本実施例における透過型回折素子50は、波長1525nm〜1575nmの光を凸部52が形成されている面の法線に対し、48°の角度より入射させて使用するものである。
次に、比較例1における透過型回折素子について説明する。本比較例における透過型回折素子910は、図10に示される断面構造のものであり、反射防止膜913が成膜された透明基板911上に、周期が1040nmである凸部912を形成することにより回折格子が形成されているものである。尚、本比較例における透過型回折素子910は、波長1525nm〜1575nmの光が、凸部912が形成されている面の法線に対し、48°の角度から入射させるものである。
11 透明基板
12 凸部
13 反射防止膜
21 第1の層
22 第2の層
23 第3の層
24 第4の層
Claims (10)
- 透明基板と、
前記透明基板の一方の面に周期的に備えられた凸部と、
を有する前記透明基板に入射した光を回折する透過型回折素子であって、
前記凸部は、前記透明基板側より、第1の層、第2の層、第3の層、第4の層を有し、
前記第1の層と前記第3の層は、高屈折率材料であり、
前記第2の層と前記第4の層は、前記高屈折率材料よりも屈折率の低い低屈折率材料であり、
前記第1の層、前記第2の層、前記第3の層および前記第4の層のうち、前記第3の層の膜厚が最も厚く、
λを入射光の波長、Pを複数の凸部の格子周期、θを入射光の入射角とし、(2λ/P-sinθ)>1を満足するときの、1500〜1590nm、または、1545〜1610nmの波長範囲でのp偏光およびs偏光の透過の1次回折効率が98%以上であることを特徴とする透過型回折素子。 - 透明基板と、
前記透明基板の一方の面に周期的に備えられた凸部と、
を有する前記透明基板に入射した光を回折する透過型回折素子であって、
前記凸部は、前記透明基板側より、第1の層、第2の層、第3の層、第4の層を有し、
前記第1の層と前記第3の層は、高屈折率材料であり、
前記第2の層と前記第4の層は、前記高屈折率材料よりも屈折率の低い低屈折率材料であり、
前記第1の層、前記第2の層、前記第3の層および前記第4の層のうち、前記第3の層の膜厚が最も厚く、
λを入射光の波長、Pを複数の凸部の格子周期、θを入射光の入射角とし、(2λ/P-sinθ)>1を満足するときの、1525〜1575nm、または、1570〜1610nmの波長範囲でのp偏光およびs偏光の透過の1次回折効率が99%以上であることを特徴とする透過型回折素子。 - 前記高屈折率材料は、Si3N4、TiO2、Nb2O5及びTa2O5のうちから選ばれる1又は2以上の材料であって、
前記低屈折率材料は、SiO2、SiONのいずれかである請求項1または2に記載の透過型回折素子。 - 前記高屈折率材料は、前記入射する光の波長における屈折率が1.9〜2.3の範囲内の材料であって、
前記低屈折率材料は、前記入射する光の波長における屈折率が1.4〜1.6の範囲内の材料である請求項1から3のいずれかに記載の透過型回折素子。 - 前記高屈折率材料における屈折率と、前記低屈折率材料における屈折率との差が、0.5以上である請求項1から4のいずれかに記載の透過型回折素子。
- 前記低屈折率材料は、前記入射する光の波長における屈折率が1.5以下である請求項1から5のいずれかに記載の透過型回折素子。
- 前記第1の層の膜厚と前記第3の層の膜厚の和が、前記第2の層の膜厚と前記第4の層の膜厚の和よりも大きい請求項1から6のいずれかに記載の透過型回折素子。
- 前記透明基板の他方の面には、反射防止膜を有する請求項1から7のいずれかに記載の透過型回折素子。
- 前記反射防止膜は、前記高屈折率材料によりなる層と、前記低屈折率材料によりなる層とが交互に備えられる請求項8に記載の透過型回折素子。
- 前記p偏光の透過の1次回折効率と、前記s偏光の透過の1次回折効率との差が0.5%以内である請求項1から9のいずれかに記載の透過型回折素子。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013048926A JP6007830B2 (ja) | 2012-03-26 | 2013-03-12 | 透過型回折素子 |
US13/832,728 US9360602B2 (en) | 2012-03-26 | 2013-03-15 | Transmission diffraction element |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012070442 | 2012-03-26 | ||
JP2012070442 | 2012-03-26 | ||
JP2013048926A JP6007830B2 (ja) | 2012-03-26 | 2013-03-12 | 透過型回折素子 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016164806A Division JP2017004004A (ja) | 2012-03-26 | 2016-08-25 | 透過型回折素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013228688A JP2013228688A (ja) | 2013-11-07 |
JP6007830B2 true JP6007830B2 (ja) | 2016-10-12 |
Family
ID=49211568
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013048926A Active JP6007830B2 (ja) | 2012-03-26 | 2013-03-12 | 透過型回折素子 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9360602B2 (ja) |
JP (1) | JP6007830B2 (ja) |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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R250 | Receipt of annual fees |
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