BE1010069A6 - Optisch systeem met hoge reflectiviteitsrooster. - Google Patents
Optisch systeem met hoge reflectiviteitsrooster. Download PDFInfo
- Publication number
- BE1010069A6 BE1010069A6 BE9600280A BE9600280A BE1010069A6 BE 1010069 A6 BE1010069 A6 BE 1010069A6 BE 9600280 A BE9600280 A BE 9600280A BE 9600280 A BE9600280 A BE 9600280A BE 1010069 A6 BE1010069 A6 BE 1010069A6
- Authority
- BE
- Belgium
- Prior art keywords
- optical system
- grid
- sep
- refractive index
- grating
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/18—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
- H01S5/183—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
- H01S5/18355—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL] having a defined polarisation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1809—Diffraction gratings with pitch less than or comparable to the wavelength
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1866—Transmission gratings characterised by their structure, e.g. step profile, contours of substrate or grooves, pitch variations, materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/18—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
- H01S5/183—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
- H01S5/18308—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL] having a special structure for lateral current or light confinement
- H01S5/18319—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL] having a special structure for lateral current or light confinement comprising a periodical structure in lateral directions
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/18—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
- H01S5/183—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
- H01S5/18386—Details of the emission surface for influencing the near- or far-field, e.g. a grating on the surface
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
Optische systeem omvattende een hoge reflectiviteitsrooster (3) (voor orde o) bestemd als interface tussen een opwaarts, en respectievelijk een afwaarts midden (1,2) met respectievelijke brekingsindex (n1,n2), waarbij (n2) strikt kleiner is dan (n1) en het rooster trefbaar opgesteld is voor invallende golven, in het bijzonder vlakke golven (S1), met vacuüm golflengte via het opwaartse midden (1), en waarbij het rooster (3) gevormd is door een gekarteld oppervlak met een bepaalde periode, merkwaardig doordat de periode van het rooster (3) ten minste kleiner is dan de verhouding van de vacuüm golflengte tot de brekingsindex (n2) van het opwaartse midden (2) en dat het verschil tussen beide brekingsindexen n1 en n2 een zodanige minimum drempelwaarde overschrijdt dat ten minste twee voortplantingsmodes opgewekt zijn door de telkens invallende vlakke golf (s1).
Description
<Desc/Clms Page number 1> OPTISCH SYSTEEM MET HOGE REFLECTIVITEITSROOSTER Onderhavige uitvinding betreft een optisch systeem omvattende een hoge reflectiviteitsrooster (voor orde o) bestemd als interface tussen een opwaartse, en respectievelijk een afwaartse midden met respectievelijk brekingsindexen, waarbij de afwaartse index strikt kleiner is dan de opwaartse en het rooster trefbaar opgesteld is voor invallende golven, i. h. b. vlakke golven, met vacuüm golflengte via het opwaartse midden, en waarbij het rooster gevormd is door een gekarteld oppervlak met een bepaalde periode. Dergelijke optische systemen omvattende roosters van het bovenvermelde type zijn reeds bekend doch heeft deze uitvinding als doel een bijzonder hoge reflectiviteit te bekomen voor nulde orde reflecterende vlakke golven met hieraan gekoppeld een uiterst lage koppeling voor de nulde orde transmissie vlakke golf en ook voor de hogere orde reflecterende vlakke golven. Voor het bewerkstelligen hiervan is volgens de uitvinding een bijzondere combinatie voorzien van de roosterparameters, zoals periode, diepten en vorm, en van brekingsindexen van de respectievelijke middens, invalshoeken van de invallende golven, polarisatie en golflengte. Aldus is volgens de uitvinding voorzien dat de periode van het rooster ten minste kleiner is dan de verhouding van de vacuüm golflengte tot de brekingsindex van het opwaartse midden en dat het verschil tussen beide brekingsindexen een zodanige minimum drempelwaarde overschrijdt dat ten minste twee voortplantingsmodes opgewekt zijn door de telkens invallende vlakke golf. Doordat de periode van het rooster kleiner is <Desc/Clms Page number 2> dan de verhouding van de vacuüm golflengte tot de brekingsindex van het opwaartse midden kunnen enkel transmissie orden van de nulde orde bestaan. Verder worden, dankzij genoemd minimum verschil tussen beide brekingsindexentenminstetweevoortplantingsmodesopge- wekt door de invallende vlakke golf. Volgens een verdere uitvoeringsvorm van de EMI2.1 uitvinding vertoont het rooster periodiciteit. Deze uitvoeringsvorm blijkt aangewezen te zijn wanneer een TM polarisatie mode is ingesteld. Ook is de instelling van een TE polarisatie mode mogelijk waarbij de roosterparameters voor optimale TM- of TE-werking verschillend zijn, hetgeen toelaat een ruime polarisatie selectiviteit voor de nulde orde reflectiviteit te verwezenlijken, zelfs voor een zogenaamde normale invalshoek. Volgens een specifieke uitvoeringsvorm van de uitvinding vertoont het rooster een dwarssectie met rechthoekige structuur. Meer in het bijzonder vertoont het rooster een zogenaamde vullingsfactor die begrepen is tussen 40 en 60 %, bij voorkeur nagenoeg 50 %. Meer in het bijzonder nog is genoemd afwaarts midden gevormd door lucht of vacuüm met als afwaartse brekingsindex n2 nagenoeg de eenheid en verder is de opstelling van de optische inrichting zodanig dat de invalshoek nagenoeg normaal is ten opzichte van het rooster. Hiermee zijn volgens een bijzonder voordelige uitvoeringsvorm van de uitvinding de roosterparameters gekozen voor een minimale nulde orde transmissie of een maximale nulde orde reflectie <Desc/Clms Page number 3> of tussen beide, waarbij deze voortvloeien uit de hierna volgende uitdrukkingen EMI3.1 met 11. 0, eff = effectieve brekingsindex van de eerste voortplantingsgolf in de roosterzone ; d = de roosterdiepte. Deze vormen benaderingsuitdrukkingen die uiterst waardeerbaar zijn als startpunt voor de optimisatie van de roosterparameters in de eerder vermelde omstandigheden. Deze uitdrukkingen leveren een minimale waarde op voor de brekingsindex van het opwaartse midden in het boven omschreven specifiek geval waarbij deze minimale waarde V5 bedraagt. Volgens een bijzonder voordelige uitvoeringsvorm van de uitvinding is de opwaartse brekingsindex n. gekozen binnen een interval begrepen tussen 3 en 4, bij voorkeur rond 3. Het hoge reflectiviteitseffect voor orde 0 is immers voor deze waarde van n1 geoptimiseerd met uiteraard als verdere specificaties hetzelfde als hierboven. Deze uitvinding heeft ook nog betrekking op een laserinrichting die een optische inrichting omvat van het bovenvermeld type dat hierin specifiek gebruikt <Desc/Clms Page number 4> is als enkelvoudige spiegel ter gedeeltelijke of zelfs volledige vervanging van de zogenaamde Bragg kwart golflengte stapeling van meerdere reflecterende lagen. In een bijzonder voordelige toepassing is de laserinrichting gevormd door een zogenaamde VCSEL (vertical cavity surface emitting laser). Dit biedt immers uitgesproken voordelen aangaande performantie en fabricageëenvoud van dergelijke inrichtingen. Verdere voordelen en bijzonderheden zullen blijken uit het hierna volgend beschrijvingsvoorbeeld met de bijgevoegde tekeningen. - Figuur 1 is een dwarssectie van een eerste uitvoe- ringsvoorbeeld van de roosterstructuur volgens de uitvinding. Figuur 2 stelt een dwarssectie voor van een tweede uitvoeringsvoorbeeld van de roosterstructuur voor- gesteld in figuur 1. Hierna volgend is een tabel opgegeven waarin enkele resultaten voor verschillende parameterwaarden zijn voorgesteld. De vullingsfactor f is gekozen op 50 % in alle gevallen. De optimale waarden dopt en A opt in deze tabel zijn geoptimiseerd middels numerieke berekeningen voor het bekomen van een maximale reflectiviteit, terwijl de benaderde waarden dapper en Aappr bekomen werden middels de hierboven vermelde uitdrukkingen. <Desc/Clms Page number 5> EMI5.1 <tb> <tb> n1 <SEP> dopt/# <SEP> #/# <SEP> R0TM <SEP> dappr/# <SEP> #/# <tb> 2. <SEP> 5 <SEP> 0. <SEP> 443 <SEP> 0. <SEP> 85 <SEP> 0. <SEP> 917718 <SEP> 0. <SEP> 436 <SEP> 0. <SEP> 873 <SEP> <tb> 3 <SEP> 0. <SEP> 360 <SEP> 0. <SEP> 670 <SEP> 0. <SEP> 966024 <SEP> 0. <SEP> 3495 <SEP> 0. <SEP> 707 <SEP> <tb> 3. <SEP> 5 <SEP> 0. <SEP> 300 <SEP> 0. <SEP> 570 <SEP> 0. <SEP> 999128 <SEP> 0. <SEP> 2916 <SEP> 0. <SEP> 596 <SEP> <tb> 4 <SEP> 0. <SEP> 263 <SEP> 0. <SEP> 550 <SEP> 0. <SEP> 952357 <SEP> 0. <SEP> 25 <SEP> 0. <SEP> 516 <SEP> <tb> Deze tabel toont duidelijk welke hoge nulde orde reflectiviteit bekomen kan worden en toont eveneens dat de benaderde uitdrukkingen de optimale parameters vrij precies laten voorspellen, en dit op typische wijze binnen een marge van 5 %. Verder maakt deze tabel ook duidelijk dat het zogenaamde GIRO-effect (Giant Reflectivity to order 0) het best is voor een waarde van de opwaartse brekingsindex n1 rond 3 (uiteraard nog steeds voor F = 50 %). Samengevat, kan worden vooropgezet dat dankzij deze uitvinding gericht op een zogenaamde GIRO-grating, of hier hoge reflectiviteitsrooster vor nulde orde genoemd, deze laatste enerzijds een reflectiviteit voor de nulde orde reflecterende vlakke golven vertoont die 100 % benadert en anderzijds een koppeling voor de nulde orde doorlatings vlakke golven die 0 % benadert evenals voor de hogere orde reflecterende vlakke golven, waarbij de nulde orde reflectiviteit veel groter is dan de re- <Desc/Clms Page number 6> flectiviteit van een equivalent vlak interface tussen beide middens 1 en 2. Dit laatste geldt enkel voor bijzondere parametercombinaties, in het bijzonder met betrekking tot de roosterparameters, dewelke volgens deze uitvinding zijn opgegeven zoals hoger uiteengezet.
Claims (12)
- CONCLUSIES 1. Optische systeem omvattende een hoge reflectiviteitsrooster (3) bestemd als interface tussen een opwaarts, en respectievelijk een afwaarts midden (1, 2) met respectievelijke brekingsindex (n1, n2), waarbij (n2) strikt kleiner is dan (nul) en het rooster trefbaar opgesteld is voor invallende golven, in het bijzonder vlakke golven (sl), met vacuüm golflengte () via het opwaartse midden (1), en waarbij het rooster (3) gevormd is door een gekarteld oppervlak met een bepaalde periode (A), daardoor gekenmerkt dat de periode (A) van het rooster (3) ten minste kleiner is dan de verhouding van de vacuüm golflengte () tot de brekingsindex (n2) van het opwaartse midden (2)en dat het verschil tussen beide brekingsindexen n1 en n2 een zodanige minimum drempelwaarde overschrijdt dat ten minste twee voortplantingsmodes opgewekt zijn door de telkens invallende vlakke golf (sl).
- 2. Optisch systeem volgens conclusie 1, daardoor gekenmerkt dat het rooster (3) een ééndimensionale periodiciteit (A) vertoont.
- 3. Optisch systeem volgens een der vorige conclusies, daardoor gekenmerkt dat een TM polarisatie mode is ingesteld.
- 4. Optisch systeem volgens conclusie 1 of 2, daardoor gekenmerkt dat een TE polarisatie mode is ingesteld.
- 5. Optisch systeem volgens een der vorige conclusies, daardoor gekenmerkt dat het rooster (3) een dwarssectie vertoont met rechthoekige structuur. <Desc/Clms Page number 8>
- 6. Optisch systeem volgens een der vorige conclusies, daardoor gekenmerkt dat het rooster (3) een zogenaamde vullingsfactor (f) vertoont die begrepen is tussen 40 en 60 %, bij voorkeur nagenoeg 50 %.
- 7. optisch systeem volgens een der vorige conclusies, daardoor gekenmerkt dat genoemd afwaarts midden (2) gevormd is door lucht of vacuüm met als afwaartse brekingsindex n2 nagenoeg de eenheid.
- 8. Optisch systeem volgens een der vorige conclusies, daardoor gekenmerkt dat de opstelling hiervan zodanig is dat de invalshoek nagenoeg normaal is t. o. v. het rooster (3).
- 9. Optisch systeem volgens een der vorige conclusies, daardoor gekenmerkt dat de roosterparameters gekozen zijn binnen een minimale nulde orde transmissie of een maximale nulde orde reflectie of tussen beide, als voortvloeiend uit de hierna volgende uitdrukkingen EMI8.1 <Desc/Clms Page number 9> met nô, eft = effectieve brekingsindex van de eerste voortplantingsgolf in de roosterzone (3), d = de roosterdiepte.
- 10. Optisch systeem volgens de vorige conclusie, daardoor gekenmerkt dat de opwaartse brekingsindex (nul) gekozen is binnen een interval begrepen tussen 3 en 4, bij voorkeur nagenoeg 3, 5.
- 11. Laserinrichting daardoor gekenmerkt dat hij een optisch systeem omvat volgens een der vorige conclusies dat hierin gebruikt is als enkelvoudige spiegel ter gedeeltelijke of volledige vervanging van de zogenaamde Bragg kwart golflengte stapeling (Bragg quarter-wavelength stack).
- 12. Laserinrichting volgens de vorige conclusie, daardoor gekenmerkt dat hij gevormd is door een VCSEL (vertical cavity surface emitting laser).
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
BE9600280A BE1010069A6 (nl) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | Optisch systeem met hoge reflectiviteitsrooster. |
US08/829,348 US6191890B1 (en) | 1996-03-29 | 1997-03-31 | Optical system with a dielectric subwavelength structure having high reflectivity and polarization selectivity |
EP97870045A EP0798574B1 (en) | 1996-03-29 | 1997-04-01 | Optical system with a dielectric subwavelength structure having a high reflectivity and polarisation selectivity |
DE69738679T DE69738679D1 (de) | 1996-03-29 | 1997-04-01 | Optisches System mit einer hochreflektierenden, polarisationsselektiven, dielektrischen Struktur mit Abmessung kleiner als die Wellenlänge |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
BE9600280A BE1010069A6 (nl) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | Optisch systeem met hoge reflectiviteitsrooster. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
BE1010069A6 true BE1010069A6 (nl) | 1997-12-02 |
Family
ID=3889642
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
BE9600280A BE1010069A6 (nl) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | Optisch systeem met hoge reflectiviteitsrooster. |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6191890B1 (nl) |
EP (1) | EP0798574B1 (nl) |
BE (1) | BE1010069A6 (nl) |
DE (1) | DE69738679D1 (nl) |
Families Citing this family (65)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10353951A1 (de) * | 2003-11-18 | 2005-06-16 | U-L-M Photonics Gmbh | Polarisationskontrolle von Vertikaldiodenlasern durch ein monolothisch integriertes Oberflächengitter |
GB9916145D0 (en) * | 1999-07-10 | 1999-09-08 | Secr Defence | Control of polarisation of vertical cavity surface emitting lasers |
EP1868015B1 (en) * | 1999-08-02 | 2012-04-18 | Université Jean-Monnet | Optical polarizing device and laser polarisation device |
US6680799B1 (en) | 1999-08-02 | 2004-01-20 | Universite Jean Monnet | Optical polarizing device and laser polarization device |
AU6835000A (en) * | 1999-08-02 | 2001-02-19 | Universite Jean Monnet | Optical polarizing device and laser polarisation device |
US7167615B1 (en) * | 1999-11-05 | 2007-01-23 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Resonant waveguide-grating filters and sensors and methods for making and using same |
US8111401B2 (en) * | 1999-11-05 | 2012-02-07 | Robert Magnusson | Guided-mode resonance sensors employing angular, spectral, modal, and polarization diversity for high-precision sensing in compact formats |
US6597721B1 (en) * | 2000-09-21 | 2003-07-22 | Ut-Battelle, Llc | Micro-laser |
US7065124B2 (en) * | 2000-11-28 | 2006-06-20 | Finlsar Corporation | Electron affinity engineered VCSELs |
US6905900B1 (en) * | 2000-11-28 | 2005-06-14 | Finisar Corporation | Versatile method and system for single mode VCSELs |
US6990135B2 (en) * | 2002-10-28 | 2006-01-24 | Finisar Corporation | Distributed bragg reflector for optoelectronic device |
TWI227799B (en) * | 2000-12-29 | 2005-02-11 | Honeywell Int Inc | Resonant reflector for increased wavelength and polarization control |
US6836501B2 (en) * | 2000-12-29 | 2004-12-28 | Finisar Corporation | Resonant reflector for increased wavelength and polarization control |
WO2003025635A1 (en) * | 2001-09-19 | 2003-03-27 | Technion Research & Development Foundation Ltd. | Space-variant subwavelength dielectric grating and applications thereof |
US6747799B2 (en) * | 2001-11-12 | 2004-06-08 | Pts Corporation | High-efficiency low-polarization-dependent-loss lamellar diffraction-grating profile and production process |
US6876784B2 (en) * | 2002-05-30 | 2005-04-05 | Nanoopto Corporation | Optical polarization beam combiner/splitter |
US20040047039A1 (en) * | 2002-06-17 | 2004-03-11 | Jian Wang | Wide angle optical device and method for making same |
US7283571B2 (en) * | 2002-06-17 | 2007-10-16 | Jian Wang | Method and system for performing wavelength locking of an optical transmission source |
JP4310080B2 (ja) * | 2002-06-17 | 2009-08-05 | キヤノン株式会社 | 回折光学素子およびこれを備えた光学系、光学装置 |
US7386205B2 (en) * | 2002-06-17 | 2008-06-10 | Jian Wang | Optical device and method for making same |
EP1520203A4 (en) | 2002-06-18 | 2005-08-24 | Nanoopto Corp | OPTICAL COMPONENT WITH ADVANCED FUNCTIONALITY AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
JP2005534981A (ja) | 2002-08-01 | 2005-11-17 | ナノオプト コーポレーション | 精密位相遅れ装置およびそれを製造する方法 |
US7064899B2 (en) * | 2002-08-30 | 2006-06-20 | Digital Optics Corp. | Reduced loss diffractive structure |
US6965626B2 (en) * | 2002-09-03 | 2005-11-15 | Finisar Corporation | Single mode VCSEL |
US7190521B2 (en) * | 2002-09-13 | 2007-03-13 | Technion Research And Development Foundation Ltd. | Space-variant subwavelength dielectric grating and applications thereof |
US6661830B1 (en) | 2002-10-07 | 2003-12-09 | Coherent, Inc. | Tunable optically-pumped semiconductor laser including a polarizing resonator mirror |
US6920272B2 (en) * | 2002-10-09 | 2005-07-19 | Nanoopto Corporation | Monolithic tunable lasers and reflectors |
US7013064B2 (en) * | 2002-10-09 | 2006-03-14 | Nanoopto Corporation | Freespace tunable optoelectronic device and method |
US6813293B2 (en) * | 2002-11-21 | 2004-11-02 | Finisar Corporation | Long wavelength VCSEL with tunnel junction, and implant |
US7139128B2 (en) * | 2003-01-06 | 2006-11-21 | Polychromix Corporation | Diffraction grating having high throughput efficiency |
US7268946B2 (en) * | 2003-02-10 | 2007-09-11 | Jian Wang | Universal broadband polarizer, devices incorporating same, and method of making same |
KR101162135B1 (ko) * | 2003-03-13 | 2012-07-03 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 회절 소자 및 광학 장치 |
US20040222363A1 (en) * | 2003-05-07 | 2004-11-11 | Honeywell International Inc. | Connectorized optical component misalignment detection system |
US20040247250A1 (en) * | 2003-06-03 | 2004-12-09 | Honeywell International Inc. | Integrated sleeve pluggable package |
US20040258355A1 (en) * | 2003-06-17 | 2004-12-23 | Jian Wang | Micro-structure induced birefringent waveguiding devices and methods of making same |
US7277461B2 (en) * | 2003-06-27 | 2007-10-02 | Finisar Corporation | Dielectric VCSEL gain guide |
US7075962B2 (en) * | 2003-06-27 | 2006-07-11 | Finisar Corporation | VCSEL having thermal management |
US6961489B2 (en) * | 2003-06-30 | 2005-11-01 | Finisar Corporation | High speed optical system |
US7149383B2 (en) * | 2003-06-30 | 2006-12-12 | Finisar Corporation | Optical system with reduced back reflection |
US20060056762A1 (en) * | 2003-07-02 | 2006-03-16 | Honeywell International Inc. | Lens optical coupler |
US7210857B2 (en) * | 2003-07-16 | 2007-05-01 | Finisar Corporation | Optical coupling system |
US20050013542A1 (en) * | 2003-07-16 | 2005-01-20 | Honeywell International Inc. | Coupler having reduction of reflections to light source |
US20050013539A1 (en) * | 2003-07-17 | 2005-01-20 | Honeywell International Inc. | Optical coupling system |
US6887801B2 (en) * | 2003-07-18 | 2005-05-03 | Finisar Corporation | Edge bead control method and apparatus |
US7031363B2 (en) * | 2003-10-29 | 2006-04-18 | Finisar Corporation | Long wavelength VCSEL device processing |
US7829912B2 (en) * | 2006-07-31 | 2010-11-09 | Finisar Corporation | Efficient carrier injection in a semiconductor device |
US7920612B2 (en) * | 2004-08-31 | 2011-04-05 | Finisar Corporation | Light emitting semiconductor device having an electrical confinement barrier near the active region |
US7596165B2 (en) * | 2004-08-31 | 2009-09-29 | Finisar Corporation | Distributed Bragg Reflector for optoelectronic device |
US7859753B2 (en) * | 2005-12-21 | 2010-12-28 | Chem Image Corporation | Optical birefringence filters with interleaved absorptive and zero degree reflective polarizers |
US7992361B2 (en) * | 2006-04-13 | 2011-08-09 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Polymer panels and methods of making the same |
US8590271B2 (en) * | 2006-04-13 | 2013-11-26 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Multi-wall structural components having enhanced radiatransmission capability |
US20070242715A1 (en) * | 2006-04-18 | 2007-10-18 | Johan Gustavsson | Mode and polarization control in vcsels using sub-wavelength structure |
US8031752B1 (en) | 2007-04-16 | 2011-10-04 | Finisar Corporation | VCSEL optimized for high speed data |
US9306290B1 (en) * | 2007-05-31 | 2016-04-05 | Foersvarets Materielverk | Controller barrier layer against electromagnetic radiation |
DE102007033567A1 (de) | 2007-07-19 | 2009-04-09 | Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh | Phasenschiebe-Einrichtung und Laserresonator zur Erzeugung radial oder azimutal polarisierter Laserstrahlung |
US8126694B2 (en) * | 2008-05-02 | 2012-02-28 | Nanometrics Incorporated | Modeling conductive patterns using an effective model |
DE102008030374B4 (de) | 2008-06-26 | 2014-09-11 | Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh | Verfahren zum Laserschneiden und CO2-Laserschneidmaschine |
EP2141519A1 (en) | 2008-07-04 | 2010-01-06 | Université Jean-Monnet | Diffractive polarizing mirror device |
DE102009001505A1 (de) * | 2008-11-21 | 2010-05-27 | Vertilas Gmbh | Oberflächenemittierende Halbleiterlaserdiode und Verfahren zur Herstellung derselben |
US9357240B2 (en) | 2009-01-21 | 2016-05-31 | The Nielsen Company (Us), Llc | Methods and apparatus for providing alternate media for video decoders |
US8270814B2 (en) | 2009-01-21 | 2012-09-18 | The Nielsen Company (Us), Llc | Methods and apparatus for providing video with embedded media |
FR2945159B1 (fr) * | 2009-04-29 | 2016-04-01 | Horiba Jobin Yvon Sas | Reseau de diffraction metallique en reflexion a haute tenue au flux en regime femtoseconde, systeme comprenant un tel reseau et procede d'amelioration du seuil d'endommagement d'un reseau de diffraction metallique |
US20110085232A1 (en) * | 2009-10-08 | 2011-04-14 | The Penn State Research Foundation | Multi-spectral filters, mirrors and anti-reflective coatings with subwavelength periodic features for optical devices |
FR2979436B1 (fr) * | 2011-08-29 | 2014-02-07 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif reflecteur pour face arriere de dispositifs optiques |
JP6811448B2 (ja) * | 2016-09-14 | 2021-01-13 | 日本電気株式会社 | グレーティングカプラ |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58174906A (ja) * | 1982-04-07 | 1983-10-14 | Ricoh Co Ltd | 光学素子の表面反射防止法 |
EP0322714B1 (en) * | 1987-12-24 | 1996-09-11 | Kuraray Co., Ltd. | Polarizing optical element and device using the same |
JPH02178604A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-11 | Kuraray Co Ltd | 交差回折格子およびこれを用いた偏波回転検出装置 |
JP2961964B2 (ja) | 1991-07-10 | 1999-10-12 | 日本電気株式会社 | 半導体レーザ装置 |
JPH09500459A (ja) * | 1994-05-02 | 1997-01-14 | フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ | 反射防止回折格子を有する光透過性光学素子 |
US5598300A (en) * | 1995-06-05 | 1997-01-28 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Efficient bandpass reflection and transmission filters with low sidebands based on guided-mode resonance effects |
US5726805A (en) * | 1996-06-25 | 1998-03-10 | Sandia Corporation | Optical filter including a sub-wavelength periodic structure and method of making |
-
1996
- 1996-03-29 BE BE9600280A patent/BE1010069A6/nl not_active IP Right Cessation
-
1997
- 1997-03-31 US US08/829,348 patent/US6191890B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-01 EP EP97870045A patent/EP0798574B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-01 DE DE69738679T patent/DE69738679D1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0798574A2 (en) | 1997-10-01 |
EP0798574A3 (en) | 1998-09-02 |
EP0798574B1 (en) | 2008-05-14 |
US6191890B1 (en) | 2001-02-20 |
DE69738679D1 (de) | 2008-06-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
BE1010069A6 (nl) | Optisch systeem met hoge reflectiviteitsrooster. | |
US7113335B2 (en) | Grid polarizer with suppressed reflectivity | |
US6222673B1 (en) | Group-delay-dispersive multilayer-mirror structures and method for designing same | |
US8488646B2 (en) | HCG reflection enhancement in diverse refractive index material | |
US6081379A (en) | Multiple coupled Gires-Tournois interferometers for group-delay-dispersion control | |
JP2005338882A (ja) | 回折選択偏光ビームスプリッタおよびそれにより製造されたビームルーチングプリズム | |
WO2011106553A3 (en) | Planar, low loss transmitting or reflecting lenses using sub-wavelength high contrast grating | |
Wang et al. | Superluminal pulse reflection and transmission in a slab system doped with dispersive materials | |
Spiller | Totally reflecting thin-film phase retarders | |
Mattiucci et al. | Second-harmonic generation from a positive-negative index material heterostructure | |
SE469453B (sv) | Optisk kopplingsanordning | |
EP3111259A1 (en) | Grating mirror | |
Zhou | Simplified modal method for subwavelength gratings | |
Assafli et al. | Design High Efficient Reflectivity of Distributed Bragg Reflectors | |
Cui et al. | Broadband high reflectivity in subwavelength-grating slab waveguides | |
US9551830B1 (en) | Optical system including multiplexed volume Bragg grating, methods, and applications | |
Dems et al. | Optical modes in Monolithic High Contrast Gratings | |
Kuchinsky et al. | Coupling in PBG material with high group index | |
Staliunas et al. | Flat focusing mirrors | |
Yu et al. | Focusing reflector and lens with non-periodic phase-matched subwavelength high contrast grating | |
Chung et al. | Broadband subwavelength grating mirror and its application to vertical-cavity surface-emitting laser | |
KR20010043706A (ko) | 회절선택적인 편광빔 스플리터 및 이 스플리터에 의해제조된 빔 경로 선택 프리즘 | |
Zhang et al. | Effect of grating mirrors size on focusing reflectors based on two-dimensional high-contrast sub-wavelength gratings | |
Magnusson et al. | Thin-film filters with diffractive and waveguiding layers | |
Petrov et al. | Efficient approximation to calculate time delay and dispersion in linearly chirped periodical microphotonic structures |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RE | Patent lapsed |
Owner name: INTERUNIVERSITAIR MICRO-ELEKTRONICA CENTRUM V.Z.W Effective date: 19980331 |