JPH11312329A - 偏光性回折素子および光ヘッド装置 - Google Patents
偏光性回折素子および光ヘッド装置Info
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- JPH11312329A JPH11312329A JP10119397A JP11939798A JPH11312329A JP H11312329 A JPH11312329 A JP H11312329A JP 10119397 A JP10119397 A JP 10119397A JP 11939798 A JP11939798 A JP 11939798A JP H11312329 A JPH11312329 A JP H11312329A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】回折効率が高く、かつ歩留まりが高く生産性の
よい偏光性回折素子を得る。 【解決手段】偏光を照射することにより複屈折性が増加
する、基板３上の薄膜状の光配向材料に偏光を照射して
作成された配向性薄膜１に断面凹凸状の回折格子を形成
し、この凹凸部に複屈折性を有する配向性薄膜１の常光
屈折率または異常光屈折率のいずれかに等しい屈折率を
有する等方性媒質２を充填する。
よい偏光性回折素子を得る。 【解決手段】偏光を照射することにより複屈折性が増加
する、基板３上の薄膜状の光配向材料に偏光を照射して
作成された配向性薄膜１に断面凹凸状の回折格子を形成
し、この凹凸部に複屈折性を有する配向性薄膜１の常光
屈折率または異常光屈折率のいずれかに等しい屈折率を
有する等方性媒質２を充填する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、偏光性回折素子お
よび光ヘッド装置に関するものである。
よび光ヘッド装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、高分子液晶を使用した回折素子を
次のように作成していた。すなわち、ガラスなどの透明
基板面に配向処理を施し、この透明基板面上に液晶を薄
く塗布し、光重合により硬化させ高分子液晶薄膜とし
た。この高分子液晶薄膜に断面が凹凸状の回折格子をド
ライエッチングなどを施すことにより形成し、その凹凸
部に等方性媒質（光学的な等方性媒質をいう）を充填し
た。この回折素子は、高分子液晶薄膜が複屈折性を有す
ることにより、入射する光の偏光方向に応じて回折効率
が異なる偏光性回折素子となる。光ヘッド装置にこの偏
光性回折素子を用いる場合には、偏光性回折素子と光記
録媒体との間に１／４波長板を挿入して、偏光性回折素
子を透過する光源からの直線偏光の偏光方向を、光記録
媒体に至る往路と光記録媒体から戻る復路で９０度回転
させることにより光の往復での利用効率を高めている。
次のように作成していた。すなわち、ガラスなどの透明
基板面に配向処理を施し、この透明基板面上に液晶を薄
く塗布し、光重合により硬化させ高分子液晶薄膜とし
た。この高分子液晶薄膜に断面が凹凸状の回折格子をド
ライエッチングなどを施すことにより形成し、その凹凸
部に等方性媒質（光学的な等方性媒質をいう）を充填し
た。この回折素子は、高分子液晶薄膜が複屈折性を有す
ることにより、入射する光の偏光方向に応じて回折効率
が異なる偏光性回折素子となる。光ヘッド装置にこの偏
光性回折素子を用いる場合には、偏光性回折素子と光記
録媒体との間に１／４波長板を挿入して、偏光性回折素
子を透過する光源からの直線偏光の偏光方向を、光記録
媒体に至る往路と光記録媒体から戻る復路で９０度回転
させることにより光の往復での利用効率を高めている。
【０００３】しかし、この高分子液晶の薄膜を作成する
際に配向処理を施した基板に重合前のモノマー状態であ
る液晶を塗布したとき、得られる配向状態を安定化させ
ることが難しかった。配向状態が安定しないと重合後の
実質的な複屈折性状態が変化し屈折率が安定せず所望の
回折効率が得られず、そのため回折素子が歩留まりよく
得られない問題があった。
際に配向処理を施した基板に重合前のモノマー状態であ
る液晶を塗布したとき、得られる配向状態を安定化させ
ることが難しかった。配向状態が安定しないと重合後の
実質的な複屈折性状態が変化し屈折率が安定せず所望の
回折効率が得られず、そのため回折素子が歩留まりよく
得られない問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
技術が有していた前述の問題を解決しようとするもので
あり、従来知られていなかった偏光性回折素子および光
ヘッド装置を提供することである。
技術が有していた前述の問題を解決しようとするもので
あり、従来知られていなかった偏光性回折素子および光
ヘッド装置を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、入射する直線
偏光の偏光方向によって回折効率の異なる偏光性回折素
子において、偏光の照射によって複屈折性が変化して固
定される薄膜状の光配向性材料に偏光を照射して作成し
た配向性薄膜が用いられていることを特徴とする偏光性
回折素子を提供する。
偏光の偏光方向によって回折効率の異なる偏光性回折素
子において、偏光の照射によって複屈折性が変化して固
定される薄膜状の光配向性材料に偏光を照射して作成し
た配向性薄膜が用いられていることを特徴とする偏光性
回折素子を提供する。
【０００６】また、前記光配向性材料が、光照射によっ
て４員環または８員環を形成する反応基を有する化合物
からなることを特徴とする上記の偏光性回折素子を提供
する。
て４員環または８員環を形成する反応基を有する化合物
からなることを特徴とする上記の偏光性回折素子を提供
する。
【０００７】また、前記配向性薄膜によって、凹凸状の
回折格子が形成され、少なくとも凹部に等方性媒質が充
填されていることを特徴とする上記の偏光性回折素子を
提供する。
回折格子が形成され、少なくとも凹部に等方性媒質が充
填されていることを特徴とする上記の偏光性回折素子を
提供する。
【０００８】さらに、半導体レーザからの出射光を光記
録媒体に導き、上記光記録媒体からの反射光を回折素子
で回折させて光検出器により検出する光ヘッド装置にお
いて、回折素子として上記の偏光性回折素子を用いるこ
とを特徴とする光ヘッド装置を提供する。
録媒体に導き、上記光記録媒体からの反射光を回折素子
で回折させて光検出器により検出する光ヘッド装置にお
いて、回折素子として上記の偏光性回折素子を用いるこ
とを特徴とする光ヘッド装置を提供する。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の偏光性回折素子には、偏
光の照射によって複屈折性が変化して固定される光配向
性材料を薄膜状に成形し、偏光を照射して複屈折性を偏
光の方向に変化させ固定することにより作成した配向性
薄膜が用いられている。すなわちこの光配向性材料は、
偏光の照射によって屈折率の異方性が変化し増大するも
のであり、光配向性材料を薄膜化し特定の偏光方向の偏
光を照射して配向性薄膜としたものを使用して偏光性回
折素子を作成している。
光の照射によって複屈折性が変化して固定される光配向
性材料を薄膜状に成形し、偏光を照射して複屈折性を偏
光の方向に変化させ固定することにより作成した配向性
薄膜が用いられている。すなわちこの光配向性材料は、
偏光の照射によって屈折率の異方性が変化し増大するも
のであり、光配向性材料を薄膜化し特定の偏光方向の偏
光を照射して配向性薄膜としたものを使用して偏光性回
折素子を作成している。
【００１０】この光配向性材料中で、その材料である高
分子中に偏光照射によって４員環または８員環を形成し
得る反応基を有する化合物からなるものが、偏光の照射
に際して複屈折性の増大が大きくて好ましい。このよう
な反応基の例として、シンナモイル基、シンナミリデン
基、カルコン残基、イソクマリン残基、２，５−ジメト
キシスチルベン残基、チミン残基、α−フェニルマレイ
ミド基、アントラセン残基や２−ピロン残基等がある
（山岡亜夫、森田浩著：感光性樹脂、ｐ．１０（共立出
版１９８８））。
分子中に偏光照射によって４員環または８員環を形成し
得る反応基を有する化合物からなるものが、偏光の照射
に際して複屈折性の増大が大きくて好ましい。このよう
な反応基の例として、シンナモイル基、シンナミリデン
基、カルコン残基、イソクマリン残基、２，５−ジメト
キシスチルベン残基、チミン残基、α−フェニルマレイ
ミド基、アントラセン残基や２−ピロン残基等がある
（山岡亜夫、森田浩著：感光性樹脂、ｐ．１０（共立出
版１９８８））。
【００１１】本発明で使用する照射光の偏光の種類とし
ては、複屈折性の増大する方向を一方向にのみ限定でき
る直線偏光が好ましい。
ては、複屈折性の増大する方向を一方向にのみ限定でき
る直線偏光が好ましい。
【００１２】これらの光配向材料を基板上で薄膜状に成
形して、偏光性回折素子が製造される。基板は光が透過
するため透明なものがよく、ガラスのほか、アクリル、
ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィンな
どの樹脂基板などが例示できる。
形して、偏光性回折素子が製造される。基板は光が透過
するため透明なものがよく、ガラスのほか、アクリル、
ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィンな
どの樹脂基板などが例示できる。
【００１３】これらの透明な基板上に、光配向材料をス
ピンコート法やロールコート法等のコート方法を用いて
薄膜を形成し、偏光の照射によって配向性薄膜とし、そ
の後偏光性回折素子を製造するが、その方法として以下
のものがある。
ピンコート法やロールコート法等のコート方法を用いて
薄膜を形成し、偏光の照射によって配向性薄膜とし、そ
の後偏光性回折素子を製造するが、その方法として以下
のものがある。
【００１４】一つの方法は、配向性薄膜が平坦のままで
加工されないものである。光の透過部分と非透過部分と
が交互に並んでいる回折格子状のパターンを有するフォ
トマスクなどを使用して、偏光を光配向材料に照射して
配向性薄膜を作成し偏光性回折素子とする。この場合、
フォトマスクを通過して偏光が照射された光配向材料の
部分は複屈折性が増加し、偏光の方向に屈折率が増加す
るが、偏光が照射されたなかった光配向材料の部分は複
屈折性の変化がなく、屈折率に変化がないため、この配
向性薄膜は偏光性回折素子として機能する。
加工されないものである。光の透過部分と非透過部分と
が交互に並んでいる回折格子状のパターンを有するフォ
トマスクなどを使用して、偏光を光配向材料に照射して
配向性薄膜を作成し偏光性回折素子とする。この場合、
フォトマスクを通過して偏光が照射された光配向材料の
部分は複屈折性が増加し、偏光の方向に屈折率が増加す
るが、偏光が照射されたなかった光配向材料の部分は複
屈折性の変化がなく、屈折率に変化がないため、この配
向性薄膜は偏光性回折素子として機能する。
【００１５】他の方法として、配向性薄膜によって断面
が凹凸状の回折格子を形成し、この少なくとも凹部に光
学的に等方性媒質を充填するものである。回折格子を形
成する場合、配向性薄膜を膜厚の方向に完全に除去して
凹部とする場合と途中まで除去して凹部とする場合とが
ある。前者の場合充填する等方性媒質の屈折率を適切に
選ぶことにより偏光性回折素子の偏光特性を最適化でき
るので好ましい。
が凹凸状の回折格子を形成し、この少なくとも凹部に光
学的に等方性媒質を充填するものである。回折格子を形
成する場合、配向性薄膜を膜厚の方向に完全に除去して
凹部とする場合と途中まで除去して凹部とする場合とが
ある。前者の場合充填する等方性媒質の屈折率を適切に
選ぶことにより偏光性回折素子の偏光特性を最適化でき
るので好ましい。
【００１６】例えば、等方性媒質の屈折率と配向性薄膜
の複屈折性に基づく常光屈折率とを一致させると、常光
の偏光方向の光に対してはほとんど回折効果はなく、異
常光の偏光方向の光に対してのみ回折効果を有する偏光
性回折素子を得ることができる。同様に等方性媒質の屈
折率と配向性薄膜の複屈折性に基づく異常光屈折率とを
一致させてもよい。
の複屈折性に基づく常光屈折率とを一致させると、常光
の偏光方向の光に対してはほとんど回折効果はなく、異
常光の偏光方向の光に対してのみ回折効果を有する偏光
性回折素子を得ることができる。同様に等方性媒質の屈
折率と配向性薄膜の複屈折性に基づく異常光屈折率とを
一致させてもよい。
【００１７】また、等方性媒質の屈折率を配向性薄膜の
常光屈折率とも異常光屈折率とも異なるようにすると、
両方向の偏光方向の光に対して、それぞれ異なる回折効
率の偏光性回折素子を得ることができる。ここで使用す
る等方性媒質としては、例えば光重合型のアクリル系樹
脂やエポキシ系樹脂などが例示できる。
常光屈折率とも異常光屈折率とも異なるようにすると、
両方向の偏光方向の光に対して、それぞれ異なる回折効
率の偏光性回折素子を得ることができる。ここで使用す
る等方性媒質としては、例えば光重合型のアクリル系樹
脂やエポキシ系樹脂などが例示できる。
【００１８】この配向性薄膜によって断面凹凸状の回折
格子を形成する方法としては、光配向材料の薄膜の片面
全面を予め特定の偏光方向を持つ偏光で照射して配向性
薄膜として、その後複屈折性増加の方向を考慮に入れて
回折格子状の穴明きパターンを有するマスクを使用し
て、ドライエッチングを施すなどの方法がある。
格子を形成する方法としては、光配向材料の薄膜の片面
全面を予め特定の偏光方向を持つ偏光で照射して配向性
薄膜として、その後複屈折性増加の方向を考慮に入れて
回折格子状の穴明きパターンを有するマスクを使用し
て、ドライエッチングを施すなどの方法がある。
【００１９】また、逆に断面凹凸状の等方性媒質の凹部
に光配向材料を充填して偏光を照射してもよい。
に光配向材料を充填して偏光を照射してもよい。
【００２０】照射する直線偏光の偏光方向は、形成され
る回折格子の格子の長手方向に対して平行であってもよ
いし、垂直であってもよいし、さらには長手方向に対し
て任意の角度を為していてもよい。この偏光方向は、所
望の偏光性回折素子の特性に合わせて選べばよい。
る回折格子の格子の長手方向に対して平行であってもよ
いし、垂直であってもよいし、さらには長手方向に対し
て任意の角度を為していてもよい。この偏光方向は、所
望の偏光性回折素子の特性に合わせて選べばよい。
【００２１】ここで回折格子のパターンとしては直線状
でもよいし、回折光の波面を制御するため曲線形状にし
てもよい。このときの回折格子の最適なパターンは通常
ＣＧＨ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ Ｇｅｎｅｒａｔｅｄ Ｈｏ
ｌｏｇｒａｍ）の手法によって求められる。
でもよいし、回折光の波面を制御するため曲線形状にし
てもよい。このときの回折格子の最適なパターンは通常
ＣＧＨ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ Ｇｅｎｅｒａｔｅｄ Ｈｏ
ｌｏｇｒａｍ）の手法によって求められる。
【００２２】本発明の偏光性回折素子の一例の断面図を
図２に示す。１は配向性薄膜、２は等方性媒質、３は基
板、１３はカバーガラスである。この偏光性回折素子の
表面を平坦なカバーガラス１３等の透明基板で覆うこと
で、表面の平滑化が図られ、入射光の透過波面収差が低
減できて好ましい。
図２に示す。１は配向性薄膜、２は等方性媒質、３は基
板、１３はカバーガラスである。この偏光性回折素子の
表面を平坦なカバーガラス１３等の透明基板で覆うこと
で、表面の平滑化が図られ、入射光の透過波面収差が低
減できて好ましい。
【００２３】上述のような構成を有する偏光性回折素子
は、複屈折性が増加されているため屈折率差が大きくて
光の利用効率が高く、この偏光性回折素子を光ヘッド装
置に搭載することが好ましい。この光ヘッド装置は、半
導体レーザからの出射光を光記録媒体に導き、上記光記
録媒体からの反射光を回折素子で回折させて光検出器に
より検出する光ヘッド装置であり回折素子として上記の
偏光性回折素子を用いる。
は、複屈折性が増加されているため屈折率差が大きくて
光の利用効率が高く、この偏光性回折素子を光ヘッド装
置に搭載することが好ましい。この光ヘッド装置は、半
導体レーザからの出射光を光記録媒体に導き、上記光記
録媒体からの反射光を回折素子で回折させて光検出器に
より検出する光ヘッド装置であり回折素子として上記の
偏光性回折素子を用いる。
【００２４】好ましい態様としては、配向性薄膜の断面
凹凸部に等方性媒体を充填した偏光性回折素子とλ／４
板とを組み合わせ重ねたものである。この偏光性回折素
子は半導体レーザ側となるように、λ／４板は光記録媒
体側となるように設置される。
凹凸部に等方性媒体を充填した偏光性回折素子とλ／４
板とを組み合わせ重ねたものである。この偏光性回折素
子は半導体レーザ側となるように、λ／４板は光記録媒
体側となるように設置される。
【００２５】半導体レーザからの直線偏光である出射光
は、本発明の偏光性回折素子およびλ／４板を透過し光
記録媒体上に導かれ、光記録媒体からの反射光となって
再びλ／４板を透過する。ここで上記の出射光はλ／４
板を２度通過することにより、λ／４板によって往路と
復路で出射光と反射光との偏光方向は９０度回転する。
その後偏光性回折素子より回折され受光素子に到達す
る。
は、本発明の偏光性回折素子およびλ／４板を透過し光
記録媒体上に導かれ、光記録媒体からの反射光となって
再びλ／４板を透過する。ここで上記の出射光はλ／４
板を２度通過することにより、λ／４板によって往路と
復路で出射光と反射光との偏光方向は９０度回転する。
その後偏光性回折素子より回折され受光素子に到達す
る。
【００２６】この偏光性回折素子にλ／４板を積層して
一体化することで、光ヘッド装置の小型化や部品点数の
低減が図られ、さらに組立コストの削減も実現できて好
ましい。
一体化することで、光ヘッド装置の小型化や部品点数の
低減が図られ、さらに組立コストの削減も実現できて好
ましい。
【００２７】
【実施例】本実施例にかかる偏光性回折素子の断面図を
図１に示した。１は配向性薄膜、２は等方性媒質、３は
基板である。透明なガラスの基板上に、スピンコート法
により、光配向材料を３．５μｍの厚さに均一に塗布し
た。その後直線偏光した紫外線を光配向材料に照射し複
屈折性を増大させ配向性薄膜とした。この配向性薄膜の
常光屈折率と異常光屈折率の差Δｎは０．０９３であっ
た。
図１に示した。１は配向性薄膜、２は等方性媒質、３は
基板である。透明なガラスの基板上に、スピンコート法
により、光配向材料を３．５μｍの厚さに均一に塗布し
た。その後直線偏光した紫外線を光配向材料に照射し複
屈折性を増大させ配向性薄膜とした。この配向性薄膜の
常光屈折率と異常光屈折率の差Δｎは０．０９３であっ
た。
【００２８】この配向性薄膜に、フォトマスクを使用し
たフォトリソグラフィー法とドライエッチング法である
反応性イオンエッチングを組み合わせて断面凹凸の回折
格子を形成した。回折格子のピッチは５μｍで回折格子
の深さは３．５μｍとした。この形成された回折格子の
凹凸部を、配向性薄膜の常光屈折率とほぼ同じ屈折率の
等方性媒質で充填した。
たフォトリソグラフィー法とドライエッチング法である
反応性イオンエッチングを組み合わせて断面凹凸の回折
格子を形成した。回折格子のピッチは５μｍで回折格子
の深さは３．５μｍとした。この形成された回折格子の
凹凸部を、配向性薄膜の常光屈折率とほぼ同じ屈折率の
等方性媒質で充填した。
【００２９】作成した偏光性回折素子は、波長６５０ｎ
ｍの光に対して常光の偏光方向では透過率は高く９５％
で回折効率は２％であり、異常光の偏光方向では透過率
が３％で回折効率が３６％と高かった。この偏光性回折
素子を光ヘッド装置に用いた場合の概念的な側面図を図
３に示す。
ｍの光に対して常光の偏光方向では透過率は高く９５％
で回折効率は２％であり、異常光の偏光方向では透過率
が３％で回折効率が３６％と高かった。この偏光性回折
素子を光ヘッド装置に用いた場合の概念的な側面図を図
３に示す。
【００３０】光源である半導体レーザ５から出射した直
線偏光は、偏光性回折素子４およびλ／４板１０を透過
し、円偏光となって対物レンズ７を透過して光記録媒体
８上に集光され、光記録媒体８からの反射光は逆周りの
円偏光となって再び対物レンズ７、λ／４板１０を通過
し直線偏光となる。ここで直線偏光はλ／４板を往路と
復路で合計２度通過することにより往路と復路で直線偏
光の方向は９０度回転する。その後直線偏光である反射
光は偏光性回折素子４により回折され受光素子６に到達
する。
線偏光は、偏光性回折素子４およびλ／４板１０を透過
し、円偏光となって対物レンズ７を透過して光記録媒体
８上に集光され、光記録媒体８からの反射光は逆周りの
円偏光となって再び対物レンズ７、λ／４板１０を通過
し直線偏光となる。ここで直線偏光はλ／４板を往路と
復路で合計２度通過することにより往路と復路で直線偏
光の方向は９０度回転する。その後直線偏光である反射
光は偏光性回折素子４により回折され受光素子６に到達
する。
【００３１】このとき、往路での直線偏光の方向と偏光
性回折素子の常光屈折率の方向を一致させることによ
り、往路においては直線偏光の透過率を９５％と高くす
ることができ、復路においては直線偏光の±１次の回折
効率はそれぞれ３６％と高くすることができ、光の利用
効率は非常に高いものであった。
性回折素子の常光屈折率の方向を一致させることによ
り、往路においては直線偏光の透過率を９５％と高くす
ることができ、復路においては直線偏光の±１次の回折
効率はそれぞれ３６％と高くすることができ、光の利用
効率は非常に高いものであった。
【００３２】図４は、本実施例で光ヘッド装置に組み込
んだ、別の偏光性回折素子の断面図であり、１は配向性
薄膜、２は等方性媒質、３は基板、１０はλ／４板であ
り、λ／４板１０は偏光性回折素子と一体化されてい
る。この場合も上記の光ヘッド装置と同様に、光の利用
効率は非常に高いものであった。
んだ、別の偏光性回折素子の断面図であり、１は配向性
薄膜、２は等方性媒質、３は基板、１０はλ／４板であ
り、λ／４板１０は偏光性回折素子と一体化されてい
る。この場合も上記の光ヘッド装置と同様に、光の利用
効率は非常に高いものであった。
【００３３】
【発明の効果】本発明の偏光性回折素子は、光配向材料
に偏光を照射して複屈折性を増大させた、すなわち異常
光屈折率と常光屈折率の差を大きくした配向性薄膜を使
用しているため回折効率が高く、さらに照射する光の偏
光方向に高い屈折率の方向を揃えることができるため、
歩留まりよく生産することができる。
に偏光を照射して複屈折性を増大させた、すなわち異常
光屈折率と常光屈折率の差を大きくした配向性薄膜を使
用しているため回折効率が高く、さらに照射する光の偏
光方向に高い屈折率の方向を揃えることができるため、
歩留まりよく生産することができる。
【００３４】さらに、この偏光性回折素子を光ヘッド装
置に組み込んだ場合、回折効率が高いため、光利用効率
の高い光ヘッド装置となる。
置に組み込んだ場合、回折効率が高いため、光利用効率
の高い光ヘッド装置となる。
【図１】本実施例にかかる偏光性回折素子の断面図。
【図２】本発明の偏光性回折素子の一例の断面図。
【図３】偏光性回折素子を光ヘッド装置に用いた場合の
概念的な側面図。
概念的な側面図。
【図４】光ヘッド装置に組み込んだ、別の偏光性回折素
子の断面図。
子の断面図。
１：配向性薄膜 ２：等方性媒質 ３：基板 ４：偏光性回折素子 ５：半導体レーザ ６：受光素子 ７：対物レンズ ８：光記録媒体 １０：λ／４板 １３：カバーガラス
Claims (4)
- 【請求項１】入射する直線偏光の偏光方向によって回折
効率の異なる偏光性回折素子において、偏光の照射によ
って複屈折性が変化して固定される薄膜状の光配向性材
料に偏光を照射して作成した配向性薄膜が用いられてい
ることを特徴とする偏光性回折素子。 - 【請求項２】前記光配向性材料が、光照射によって４員
環または８員環を形成する反応基を有する化合物からな
ることを特徴とする請求項１記載の偏光性回折素子。 - 【請求項３】前記配向性薄膜によって、凹凸状の回折格
子が形成され、少なくとも凹部に等方性媒質が充填され
ていることを特徴とする請求項１または２記載の偏光性
回折素子。 - 【請求項４】半導体レーザからの出射光を光記録媒体に
導き、上記光記録媒体からの反射光を回折素子で回折さ
せて光検出器により検出する光ヘッド装置において、回
折素子として請求項１、２または３記載の偏光性回折素
子を用いることを特徴とする光ヘッド装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10119397A JPH11312329A (ja) | 1998-04-28 | 1998-04-28 | 偏光性回折素子および光ヘッド装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10119397A JPH11312329A (ja) | 1998-04-28 | 1998-04-28 | 偏光性回折素子および光ヘッド装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11312329A true JPH11312329A (ja) | 1999-11-09 |
Family
ID=14760492
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10119397A Pending JPH11312329A (ja) | 1998-04-28 | 1998-04-28 | 偏光性回折素子および光ヘッド装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11312329A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005045484A1 (ja) * | 2003-11-07 | 2005-05-19 | Asahi Glass Company, Limited | 回折素子および光ヘッド装置 |
| JPWO2004081620A1 (ja) * | 2003-03-13 | 2006-06-15 | 旭硝子株式会社 | 回折素子および光学装置 |
| JP2011054273A (ja) * | 2010-10-28 | 2011-03-17 | Asahi Glass Co Ltd | 偏光性回折素子 |
| US8293449B2 (en) | 2001-12-03 | 2012-10-23 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Positive resist composition and method of forming resist pattern |
-
1998
- 1998-04-28 JP JP10119397A patent/JPH11312329A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8293449B2 (en) | 2001-12-03 | 2012-10-23 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Positive resist composition and method of forming resist pattern |
| JPWO2004081620A1 (ja) * | 2003-03-13 | 2006-06-15 | 旭硝子株式会社 | 回折素子および光学装置 |
| WO2005045484A1 (ja) * | 2003-11-07 | 2005-05-19 | Asahi Glass Company, Limited | 回折素子および光ヘッド装置 |
| JP2005141033A (ja) * | 2003-11-07 | 2005-06-02 | Asahi Glass Co Ltd | 回折素子および光ヘッド装置 |
| CN100373181C (zh) * | 2003-11-07 | 2008-03-05 | 旭硝子株式会社 | 衍射元件和光头装置 |
| JP4561080B2 (ja) * | 2003-11-07 | 2010-10-13 | 旭硝子株式会社 | 回折素子および光ヘッド装置 |
| JP2011054273A (ja) * | 2010-10-28 | 2011-03-17 | Asahi Glass Co Ltd | 偏光性回折素子 |
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