JP3713778B2 - 光ヘッド装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、CD(コンパクト・ディスク)、CD−ROM、ビデオディスク、DVD(デジタル・ビデオ・ディスク)等の光ディスク及び光磁気ディスク等に光学的情報を書き込んだり、光学的情報を読み取るための光ヘッド装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、光ディスク及び光磁気ディスク等の光記録媒体に光学的情報を書き込んだり、光学的情報を読み取る光ヘッド装置としては、光記録媒体の記録面から反射された信号光を検出部へ導光(ビームスプリット)する光学部品としてプリズム式ビームスプリッタを用いたものと、回折格子又はホログラム素子を用いたものとが知られていた。
【0003】
従来、光ヘッド装置用の回折格子又はホログラム素子は、ガラスやプラスチック基板上に、矩形の断面を有する矩形格子(レリーフ型)をドライエッチイング法又は射出成形法よって形成し、これによって光を回折しビームスプリット機能を付与していた。
【0004】
また、光の利用効率が10%程度の等方性回折格子よりも光の利用効率を上げようとした場合、偏光を利用することが考えられる。偏光を利用しようとすると、プリズム式ビームスプリッタにλ/4板を組み合わせて、往き(光源から光記録媒体かう方向)及び帰り(光記録媒体から検出部へ向かう方向)の効率を上げて往復効率を上げる方法があった。
【0005】
しかし、プリズム式偏光ビームスプリッタは高価であり、他の方式が模索されていた。一つの方式としてLiNbO3等の複屈折結晶の平板を用い、表面に異方性回折格子を形成し偏光選択性をもたせる方法が知られている。しかし、複屈折結晶自体が高価であり、民生分野への適用は困難である。またプロトン交換法によって格子を形成する場合、プロトン交換液中のプロトンのLiNbO3への拡散が早いため、細かいピッチの格子を形成するのが困難である問題もあった。
【0006】
等方性回折格子は前述のように、往きの利用効率が50%程度で、帰りの利用効率が20%程度であるため、往復で10%程度が限界である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、前述の問題点を解消し、光の利用効率を高め安価に製造できる光ヘッド装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、光源からの光を回折素子を通して光記録媒体上に照射することにより情報の書き込み及び/又は情報の読み取りを行う光ヘッド装置において、前記回折素子は、透明基板の表面に格子状の凹凸部が形成され前記凹凸部に光学異方性を有する液晶が充填された光学異方性回折格子と前記光学異方性回折格子に対して光記録媒体側に配置されたλ/4板として機能する位相差素子とを備えてなり、前記凹凸部はSiOxNy(1≦x≦2、0<y≦1.33)からなり、前記凹凸部の屈折率は液晶の常光屈折率又は異常光屈折率に等し等しくなるように前記x及びyが設定されていることを特徴とする光ヘッド装置を提供する。
【0009】
【発明の実施の形態】
本発明の好ましい実施態様において、前記凹凸部はプラズマCVD法により形成されてなる。
【0010】
本発明の好ましい他の実施態様において、前記凹凸部はスパッタリング法により形成されてなる。
【0011】
本発明の好ましい他の実施態様において、前記凹凸部は導電性Si基板をターゲットとした反応性直流スパッタリング法により形成されてなる。
【0012】
本発明の液晶としては、ネマチック液晶、スメクチック液晶等の液晶表示装置に使用される公知の液晶、液晶組成物、又は高分子液晶等が好ましく使用できる。
【0013】
前記透明基板としては、ガラス、ポリオレフィン、ポリカーボネート等の屈折率が1.4以上1.6以下程度のものが、液晶の常光屈折率の約1.5に整合しやすいため好ましい。
【0014】
前記透明基板の光学異方性回折格子の上に、液晶を介して、液晶配向用のポリイミド膜等からなる配向膜を設けた第2の透明基板を積層することが、液晶を配向させ高効率の光学異方性回折格子として機能させるうえで好ましい。第2の透明基板は前記透明基板と同様の材質のものが使用できる。
【0015】
前記光学異方性回折格子に対して光記録媒体側にλ/4板として機能する、位相差板、位相差フィルム等の位相差素子を積層配置させることにより、光の往き方向と光の帰り方向とで偏光方向を直交させ、光学異方性回折格子として機能させることができる。前記位相差素子は、数10〜数100μm程度の厚みを有するポリカーボネート、ポリビニルアルコール又はポリアリレート等の材料が好ましく使用できる。
【0016】
前記位相差素子の少なくとも片面をフォトポリマー、熱硬化型エポキシ樹脂等の光学的に透明な有機樹脂で覆うか、さらに前記有機樹脂を介して平坦性のよいガラス基板、プラスチック基板等の第3の透明基板を積層接着すれば、波面収差の低減、信頼性の向上という利点があり好ましい。
【0017】
前記透明基板と第2の透明基板との間の周辺部、又は回折素子全体の周辺部をエポキシ樹脂等のシール材でシールすることにより、液晶の漏れを防ぐだけでなく、外部環境の湿度や温度の変化による液晶及び有機樹脂等の好ましくない物理的又は化学的変化を防ぐことができ好ましい。
【0018】
前記回折素子は、透明基板の光源側の面に第2の回折格子を形成してもよく、その場合3ビーム法によるトラッキングエラー検出ができ好ましい。前記第2の回折格子は、フォトポリマー、フォトレジスト等を塗布し所定のパターンに露光することにより形成するか、又はドライエッチング法により直接透明基板を加工することにより形成する。
【0019】
本発明の光ヘッド装置を読み取り用として使用する場合は、通常は光源側に光記録媒体からの反射光を検出する検出器を設けるが、その検出器の受光面上に前記反射光が所望のビーム(スポット)形状で集光するように、光学異方性回折格子のパターンに面内曲率を付与したり、格子間隔に分布を付与してもよい。光学異方性回折格子のパターンは、コンピュータ装置によって設計した曲率分布、格子間隔分布とし、SSD(スポット・サイズ・ディテクション)法等のフォーカスエラー検出法に最適なパターンとできる。前記検出器としては、フォトダイオード、CCD素子等の半導体素子を利用したものが小型軽量で、低消費電力であるため好ましい。
【0020】
本発明の光源としては半導体レーザ、YAGレーザ等の固体レーザ、He−Ne等の気体レーザ等が使用でき、半導体レーザが小型軽量化、連続発振、保守点検等の点で好ましい。また、光源部に半導体レーザ等と非線形光学素子を組み込んだ高調波発生装置(SHG)を使用し、青色レーザ等の短波長レーザを用いると、高密度の光記録及び読み取りができる。
【0021】
本発明の光記録媒体は、光により情報を記録及び/又は読み取ることができる媒体である。その例としてはCD(コンパクト ディスク)、CD−ROM、ビデオディスク、DVD(デジタル ビデオ ディスク)等の光ディスク、及び光磁気ディスク、相変化型光ディスク等が使用できる。
【0022】
前記回折素子の光入出射面に反射防止膜を設けることにより、光の損失を防ぐことができる。その場合、反射防止膜としてアモルファスフッ素樹脂を使用すれば、蒸着装置等の高価で大型の成膜装置を使用しないで低コストで成膜できるため好ましい。
【0023】
本発明において、前記透明薄膜がSiOxNy膜である場合、プラズマCVD法又は反応性直流スパッタリング法によって、液晶の常光屈折率又は異常光屈折率とほぼ等しく、光学的に良好で安定であり信頼性の高い膜が、再現性よくガラス基板又は透明プラスチック等の透明基板上に容易に形成することができる。
【0024】
SiOx膜の場合、xの値が2から1に近づくと屈折率が増加し液晶の常光屈折率に近づくため好ましいが、xが1に近づくにつれ光の吸収が増加する問題がある。またxの値を再現性よく安定になるよう制御し設定することは量産上困難である問題がある。
【0025】
一方SiOxNy膜は、xとyの比率によって屈折率を制御できるだけでなく、どんな比率においても光の吸収等の光学特性の劣化をもたらすことが少ない利点がある。さらにSiOxのように、酸化数を制御するのは、その量産再現性、安定性に問題があるが、SiOxNyにおいては、基本的に価電子が充足した状態に近いため、再現性、安定性、信頼性ともに優れている利点がある。
【0026】
SiOxNyの形成法としては、プラズマCVD法が好ましく用いられるが、導電性をもつSi基板をターゲットにしO2ガス、N2ガス、N2Oガスを所定の比率で混合した雰囲気中でスパッタリングする反応性直流スパッタリング法が、プラズマCVD法に比べて膜形成レートが高い点でより好ましい。
【0027】
具体的には以下のようにして凹凸部を形成する。研磨したガラス基板等の透明基板の表面に、プラズマCVD法又は反応性直流スパッタリング法により、液晶の常光屈折率と透明基板の屈折率(ともに屈折率は1.5程度)のいずれにも近くなるように、酸素と窒素の比率を調整してSiOxNy膜を形成する。
【0028】
その後、SiOxNy膜の上にフォトレジストをスピンコート法等によりコーティングし、所定のパターンを有するフォトマスクをフォトレジスト膜に密着させて紫外線で露光し、フォトレジスト現像処理することによってフォトレジストの格子状パターンを透明基板の表面に形成する。そのフォトレジストの格子状パターンをさらにマスクとして、CF4、C2F6、C3F8、CHF3等のガスを用いドライエッチングすることにより、深さ1〜2μm、ピッチ2〜20μmの光学異方性回折格子用の格子状の凹凸部を形成する。
【0029】
なお透明基板の屈折率とSiOxNy膜の屈折率との差は、界面による好ましくない反射等を防ぐために0.1以内とするのが好ましい。
【0030】
液晶は格子状の凹凸部の長手方向にほぼ平行な方向に(図1では紙面に垂直な方向)配向している。光源の半導体レーザ(図1では下方)から入射したP波(図1では偏光方向が紙面に平行な偏光成分)に対しては、液晶と凹凸部は屈折率が等しく、すなわち光学異方性回折格子はP波に対しては透明となる。そのため、P波は何の変化も受けずそのままλ/4板に入射し、円偏光に変化し、対物レンズとしての非球面レンズを透過し、ほぼ100%の光が光記録媒体の記録面に到達する。
【0031】
すなわち、半導体レーザへの戻り光が非常に小さく、戻り光ノイズの点で有利である。さらに往路の透過率が高いということは、書き込みタイプの光ディスク装置においては、書き込み時に相対的に低い出力の半導体レーザで書き込みができる点でコスト面で優れている。
【0032】
前記記録面で反射し再び非球面レンズを通り戻ってきた反射光は、再びλ/4板を通過し、偏光方向が90°異なったS波に変化する。S波が光学異方性回折格子に入射すると、今度は液晶と凹凸部の屈折率が異なっているため回折格子として機能し、+1次回折光として最大40%程度、−1次回折光として最大40%程度の回折効率が得られる。+1次回折光、−1次回折光を検出する検出器をどちらか一方にのみ配置した場合で40%、両方に配置した場合は計80%の往復効率が得られる。
【0033】
さらに前記凹凸部を、斜面状(のこぎり状)にしたときはほぼ70〜90%、3段の階段状にしたときはほぼ81%の往復効率が得られる。
【0034】
【実施例】
本発明の実施例を以下の例1〜3に示す。
【0035】
[例1]
本発明の実施例を図1に示す。厚さ1mm、10mm×10mm角で、屈折率1.52のガラス基板1の1表面に、プラズマCVD法によって厚み1.2μmのSiOxNy膜を形成した。このとき、プラズマCVD装置内の雰囲気ガスとしてSiH4、N2O、NH3を1:7.5:2.5の流量比で用い、透明基板温度300℃で形成した。SiOxNy膜のx、yはおのおの1.8、0.17程度である。
【0036】
そのSiOxNy膜に対して、フォトリソグラフィ法とドライエッチング法によって格子状にエッチングし、深さ約1.2μm、ピッチ9μmの断面が矩形状の回折格子用の凹凸部2を透明基板1上に形成した。
【0037】
第2のガラス基板5の表面に液晶配向用の配向膜としてポリイミド膜4を形成し、配向のためのラビング処理を行った。ガラス基板1の凹凸部2を形成した面と、第2のガラス基板5のポリイミド膜4を形成した面とを対面させ、さらにポリイミド膜4のラビング方向と凹凸部2のストライプ方向が同じになるようにして、2つのガラス基板を積層した。その際、液晶注入口を除き、2つのガラス基板の周囲を直径約4μmの球状スペーサを含むエポキシ樹脂(図示せず)でシールした。液晶注入口から液晶3(メルク社製商品名BL009、ネマチック液晶、常光屈折率1.53、異常光屈折率1.82)を真空注入した。
【0038】
前記第2のガラス基板5のポリイミド膜4と反対側の面にλ/4フィルム7を透明接着剤6により積層接着し、さらにその上に波面収差を改善するためのフォトポリマー8、第3のガラス基板9を積層接着して回折素子10を作製した。回折素子10の光源からの光の入射部、出射部には、誘電体多層膜による反射防止膜を施した。
【0039】
光源として半導体レーザ(図1では回折素子10の下方に設けられるが、図示せず。)を用い、波長678nmのP波(図1の紙面に平行な偏光成分)を入射させたとき、P波の透過率は約97%であった。また、光ディスク(図1では回折素子10の上方に設けられるが、図示せず。)からの反射光(円偏光)がλ/4フィルム7によりS波(紙面に垂直な偏光成分)に変化し、このS波が光学異方性回折格子により回折され、+1次回折光の回折効率は34%で、−1次回折光の回折効率は34%であった。
【0040】
この結果、往路効率約97%、往復効率約66%(±1次回折光検出)となった。
【0041】
[例2]
ポリイミド膜4を形成しなかった以外は例1と同様の構成とした例を図2に示す。したがって、図2の符号で図1の符号と同じものは、同じ要素を表す。この場合、凹凸部2の配向力のみによって液晶は配向した。例2においては、P波の透過率は約94%で、S波の+1次回折光の回折効率は約29%で、−1次回折光の回折効率は約28%であった。この結果、往路効率約94%、往復効率約54%(±1次回折光検出)となった。
【0042】
[例3]
SiOxNy膜を反応性直流スパッタリング法により形成した以外は例1と同様に行った。反応性直流スパッタリング装置内の雰囲気ガスはN2:O2=19:1(流量比)とし、透明基板の温度は室温とし、直流電力0.2Wとした。x=1.7、y=0.18のSiOxNy膜が形成された。
【0043】
例3においては、P波の透過率は約93%で、S波の+1次回折光の回折効率は約28%で、−1次回折光の回折効率は約27%であった。この結果、往路効率約93%、往復効率約51%(±1次回折光検出)となった。
【0044】
【発明の効果】
本発明は、複屈折結晶のような高価な材料を用いることなく、複屈折結晶よりも大きな基板面積で量産性よく生産できる。さらに複屈折結晶よりも細かいパターンで回折格子が形成でき、光学設計上の自由度が高い。
【0045】
またレリーフ型回折格子のような等方性格子に比べて、高い光利用効率を得ることができる。往きの透過率がほぼ100%であることが理論的に得られる構成であるため、半導体レーザへの戻り光が非常に小さく、戻り光ノイズの点で有利である。さらに往路の透過率が高いということは、書き込みタイプの光ディスク装置においては、書き込み時に低い出力の半導体レーザで書き込みができる。
【0046】
また、ポリイミド膜等の液晶配向用の膜を設けなくとも、凹凸部によって液晶を配向をさせることができ量産性に優れる。
【0047】
光学異方性回折格子の格子パターンについては、露光用のマスク等を用いCGH(Computer Generated Hologram)法により、複雑な格子パターンを容易に量産性よく形成できる。
【0048】
またλ/4板等の位相差板、位相差フィルムは回折素子内にラミネートされているため、非常に生産性に優れ全体をコンパクトにできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示し、光ヘッド装置用の回折素子の側断面図。
【図2】本発明の他の実施例を示し、光ヘッド装置用の回折素子の側断面図。
【符号の説明】
1:ガラス基板
2:凹凸部
3:液晶
4:ポリイミド膜
5:第2のガラス基板
6:透明接着剤
7:λ/4フィルム
8:フォトポリマー
9:第3のガラス基板
10:回折素子
Claims (4)
- 光源からの光を回折素子を通して光記録媒体上に照射することにより情報の書き込み及び/又は情報の読み取りを行う光ヘッド装置において、前記回折素子は、透明基板の表面に格子状の凹凸部が形成され前記凹凸部に光学異方性を有する液晶が充填された光学異方性回折格子と前記光学異方性回折格子に対して光記録媒体側に配置されたλ/4板として機能する位相差素子とを備えてなり、前記凹凸部はSiOxNy(1≦x≦2、0<y≦1.33)からなり、前記凹凸部の屈折率は液晶の常光屈折率又は異常光屈折率に等しくなるように前記x及びyが設定されていることを特徴とする光ヘッド装置。
- 前記凹凸部が、プラズマCVD法により形成されてなる請求項1記載の光ヘッド装置。
- 前記凹凸部が、スパッタリング法により形成されてなる請求項1記載の光ヘッド装置。
- 前記凹凸部が、導電性Si基板をターゲットとした反応性直流スパッタリング法により形成されてなる請求項3記載の光ヘッド装置。
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