JPH0527108A - ラミナーグレーテイングの製造方法 - Google Patents
ラミナーグレーテイングの製造方法Info
- Publication number
- JPH0527108A JPH0527108A JP20397391A JP20397391A JPH0527108A JP H0527108 A JPH0527108 A JP H0527108A JP 20397391 A JP20397391 A JP 20397391A JP 20397391 A JP20397391 A JP 20397391A JP H0527108 A JPH0527108 A JP H0527108A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- grating
- laminar grating
- base plate
- laminar
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 きわめて短い山、谷のピッチを有するラミナ
ーグレーティングを作ること。 【構成】 ベースプレート２２にレジスト２４をコーテ
ィングし、所定ピッチでライン・アンド・スペースのパ
ターン２８が形成されたＸ線マスク２６をレジスト２４
に対向させてＳＯＲ光２９で露光する。これを現像する
と、ライン・アンド・スペースのパターンが転写された
レジストパターン２４ａができあがる。これにＡｕ，Ｐ
ｔ等を電気メッキして、鋳型３０を作る。その後、ベー
スプレート２２とレジスト２４を除去することにより、
ラミナーグレーティング１が得られる。
ーグレーティングを作ること。 【構成】 ベースプレート２２にレジスト２４をコーテ
ィングし、所定ピッチでライン・アンド・スペースのパ
ターン２８が形成されたＸ線マスク２６をレジスト２４
に対向させてＳＯＲ光２９で露光する。これを現像する
と、ライン・アンド・スペースのパターンが転写された
レジストパターン２４ａができあがる。これにＡｕ，Ｐ
ｔ等を電気メッキして、鋳型３０を作る。その後、ベー
スプレート２２とレジスト２４を除去することにより、
ラミナーグレーティング１が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、モノクロメータ（分
光器）などに用いられるラミナーグレーティングの製造
方法に関し、きわめて短いピッチでラミナーグレーティ
ングの山、谷のパターンを作ることを可能にしたもので
ある。
光器）などに用いられるラミナーグレーティングの製造
方法に関し、きわめて短いピッチでラミナーグレーティ
ングの山、谷のパターンを作ることを可能にしたもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】ラミナーグレーティングは平面回折格子
の一種で、モノクロメータ（分光器）等に用いられる。
図２はその構造を示したもので、断面は平坦な山１０と
谷１２との繰り返しパターンからなり、山１０と谷１２
の幅ｄは等しい。このような構成により、入射光１４を
斜めに入射すると、その入射角に応じた波長の光が反射
光１４′として出射される。従来においては、金や白金
の表面にＮＣ加工でけがきを入れることによりラミナー
グレーティングを製造していた。
の一種で、モノクロメータ（分光器）等に用いられる。
図２はその構造を示したもので、断面は平坦な山１０と
谷１２との繰り返しパターンからなり、山１０と谷１２
の幅ｄは等しい。このような構成により、入射光１４を
斜めに入射すると、その入射角に応じた波長の光が反射
光１４′として出射される。従来においては、金や白金
の表面にＮＣ加工でけがきを入れることによりラミナー
グレーティングを製造していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】入射光１４が細くかつ
波長領域が短い場合、ラミナーグレーティング１は山１
０と谷１２のピッチ（＝２ｄ）が短いもの（例えばｄ＝
０．１μｍ以下）が必要となる。ところがこのような短
いピッチのラミナーグレーティングは前記従来のＮＣ加
工では作ることができなかった。
波長領域が短い場合、ラミナーグレーティング１は山１
０と谷１２のピッチ（＝２ｄ）が短いもの（例えばｄ＝
０．１μｍ以下）が必要となる。ところがこのような短
いピッチのラミナーグレーティングは前記従来のＮＣ加
工では作ることができなかった。
【０００４】この発明は、前記従来の技術における問題
点を解決して、きわめて短いピッチのラミナーグレーテ
ィングを作ることができるラミナーグレーティングの製
造方法を提供しようとするものである。
点を解決して、きわめて短いピッチのラミナーグレーテ
ィングを作ることができるラミナーグレーティングの製
造方法を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明は、ベースプレ
ートにレジストをコーティングし、このベースプレート
の前方にライン・アンド・スペースのパターンが所定ピ
ッチで描かれたマスクを配置してＳＯＲ光をこのマスク
に照射して前記ライン・アンド・スペースのパターンを
前記レジストに転写し、この転写後上記レジストを現像
し、この現像により残されたレジストパターンに金属を
電気メッキして鋳型を作り、その後前記レジストとベー
スプレートを除去して前記鋳型を取り出してこれをラミ
ナーグレーティングとすることを特徴とするものであ
る。
ートにレジストをコーティングし、このベースプレート
の前方にライン・アンド・スペースのパターンが所定ピ
ッチで描かれたマスクを配置してＳＯＲ光をこのマスク
に照射して前記ライン・アンド・スペースのパターンを
前記レジストに転写し、この転写後上記レジストを現像
し、この現像により残されたレジストパターンに金属を
電気メッキして鋳型を作り、その後前記レジストとベー
スプレートを除去して前記鋳型を取り出してこれをラミ
ナーグレーティングとすることを特徴とするものであ
る。
【０００６】
【作用】この発明によれば、ＳＯＲ光を用いてリソグラ
フィ技術によりラミナーグレーティングを作るのできわ
めて短いピッチのラミナーグレーティングを作ることが
できる。
フィ技術によりラミナーグレーティングを作るのできわ
めて短いピッチのラミナーグレーティングを作ることが
できる。
【０００７】
【実施例】この発明の一実施例を図１に示す。図１の工
程を順に追って説明する。 レジストコーティング ベースプレート２２にネガ形またはポジ形レジスト２４
を所定の厚さにコーティングする。
程を順に追って説明する。 レジストコーティング ベースプレート２２にネガ形またはポジ形レジスト２４
を所定の厚さにコーティングする。
【０００８】 ＳＯＲ光露光 Ｘ線マスク２６にＸ線吸収剤で描かれたライン・アンド
・スペースのパターン２８を、ＳＯＲ光２９の近接露光
によりレジスト２４に転写する。
・スペースのパターン２８を、ＳＯＲ光２９の近接露光
によりレジスト２４に転写する。
【０００９】 現 像 露光後に現像すると、ＳＯＲ光２９により露光した部分
のみがレジストパターン２４ａとして残る（ネガ形レジ
ストを用いた場合。ポジ形を用いた場合はＳＯＲ光２９
により露光した部分以外が残る。）。
のみがレジストパターン２４ａとして残る（ネガ形レジ
ストを用いた場合。ポジ形を用いた場合はＳＯＲ光２９
により露光した部分以外が残る。）。
【００１０】 電気メッキ 現像により残ったレジストパターン２４ａに金属（例え
ば、Ａｕ，Ｐｔ等）を電気メッキして鋳型３０を作る。
ば、Ａｕ，Ｐｔ等）を電気メッキして鋳型３０を作る。
【００１１】 鋳型形成 レジスト２４とベーススプレート２２を取り除くと、表
面にラミナーグレーティング１が形成された鋳型３０が
残される。このようにして、きわめて短いピッチ（例え
ばｄ＝０．１μｍ以下）の山谷が形成されたラミナーグ
レーティング１が完成する。
面にラミナーグレーティング１が形成された鋳型３０が
残される。このようにして、きわめて短いピッチ（例え
ばｄ＝０．１μｍ以下）の山谷が形成されたラミナーグ
レーティング１が完成する。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、ＳＯＲ光を用いてリソグラフィ技術によりラミナー
グレーティングを作るのできわめて短いピッチのラミナ
ーグレーティングを作ることができる。
ば、ＳＯＲ光を用いてリソグラフィ技術によりラミナー
グレーティングを作るのできわめて短いピッチのラミナ
ーグレーティングを作ることができる。
【図１】この発明の一実施例を示す工程図である。
【図２】ラミナーグレーティングの構造を示す斜視図で
ある。
ある。
１ ラミナーグレーティング ２２ ベースプレート ２４ レジスト ２４ａ レジストパターン ２６Ｘ 線マスク（マスク） ２９ ＳＯＲ光 ３０ 鋳型
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】ベースプレートにレジストをコーティング
し、 このベースプレートの前方にライン・アンド・スペース
のパターンが所定ピッチで描かれたマスクを配置してＳ
ＯＲ光をこのマスクに照射して前記ライン・アンド・ス
ペースのパターンを前記レジストに転写し、 この転写後上記レジストを現像し、 この現像により残されたレジストパターンに金属を電気
メッキして鋳型を作り、 その後前記レジストとベースプレートを除去して前記鋳
型を取り出してこれをラミナーグレーティングとするこ
とを特徴とするラミナーグレーティングの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20397391A JPH0527108A (ja) | 1991-07-18 | 1991-07-18 | ラミナーグレーテイングの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20397391A JPH0527108A (ja) | 1991-07-18 | 1991-07-18 | ラミナーグレーテイングの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0527108A true JPH0527108A (ja) | 1993-02-05 |
Family
ID=16482697
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20397391A Pending JPH0527108A (ja) | 1991-07-18 | 1991-07-18 | ラミナーグレーテイングの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0527108A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004081620A1 (ja) * | 2003-03-13 | 2004-09-23 | Asahi Glass Company Limited | 回折素子および光学装置 |
| DE10318566A1 (de) * | 2003-04-15 | 2004-11-25 | Fresnel Optics Gmbh | Verfahren und Werkzeug zur Herstellung transparenter optischer Elemente aus polymeren Werkstoffen |
| CN100386653C (zh) * | 2003-03-13 | 2008-05-07 | 旭硝子株式会社 | 衍射元件以及光学装置 |
| US9181013B2 (en) | 2011-06-24 | 2015-11-10 | Japan Marine United Corporation | Liquefied gas tank |
-
1991
- 1991-07-18 JP JP20397391A patent/JPH0527108A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004081620A1 (ja) * | 2003-03-13 | 2004-09-23 | Asahi Glass Company Limited | 回折素子および光学装置 |
| US7142363B2 (en) | 2003-03-13 | 2006-11-28 | Asahi Glass Company, Limited | Diffraction element and optical device |
| CN100386653C (zh) * | 2003-03-13 | 2008-05-07 | 旭硝子株式会社 | 衍射元件以及光学装置 |
| DE10318566A1 (de) * | 2003-04-15 | 2004-11-25 | Fresnel Optics Gmbh | Verfahren und Werkzeug zur Herstellung transparenter optischer Elemente aus polymeren Werkstoffen |
| DE10318566B4 (de) * | 2003-04-15 | 2005-11-17 | Fresnel Optics Gmbh | Verfahren und Werkzeug zur Herstellung transparenter optischer Elemente aus polymeren Werkstoffen |
| US9181013B2 (en) | 2011-06-24 | 2015-11-10 | Japan Marine United Corporation | Liquefied gas tank |
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