JPH05185327A - エンボスロールの製作方法 - Google Patents

エンボスロールの製作方法

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JPH05185327A
JPH05185327A JP2184492A JP2184492A JPH05185327A JP H05185327 A JPH05185327 A JP H05185327A JP 2184492 A JP2184492 A JP 2184492A JP 2184492 A JP2184492 A JP 2184492A JP H05185327 A JPH05185327 A JP H05185327A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
roll
embossing roll
unexposed
resist
recess
Prior art date
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Pending
Application number
JP2184492A
Other languages
English (en)
Inventor
Koichi Takakura
幸一 高倉
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THINK LAB KK
Think Laboratory Co Ltd
Original Assignee
THINK LAB KK
Think Laboratory Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH05185327A publication Critical patent/JPH05185327A/ja
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  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ロール表面に、大柄な凹凸模様ないし微細で
凹凸模様、あるいは様々な幾何学的なエンドレスな凹凸
模様や不規則な凹凸模様や、印刷模様に一致させた凹条
部を高精密に容易に形成できるエンボスロールの製作方
法。 【構成】 ロール10に感光膜20をコーティングしレ
ーザ露光し現像しエッチングしレジスト22を剥離する
工程を複数回繰り返して側壁部が滑らかな段丘状である
凹部11を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、紙、ビニールクロス、
レザークロス、合成皮革あるいはクッションタイルに様
々な幾何学的模様や不規則な凹凸や、印刷模様に一致さ
せた凹条部をプレス形成するためのエンボスロールの製
作方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、エンボスロールの製作方法は、専
ら熟練工による彫金に頼っていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来のエンボスロール
の製作方法によれば、熟練と日数と高額な費用を要して
いた。
【0004】本発明は、上述した点に鑑み案出したもの
で、ロール表面に、大柄な凹凸模様ないし微細で凹凸模
様、あるいは様々な幾何学的なエンドレスな凹凸模様や
不規則な凹凸模様や、印刷模様に一致させた凹条部を高
精密に容易に形成できるエンボスロールの製作方法を提
供することを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するための手段として、ロール10に感光膜20を
コーティングしレーザ露光し現像しエッチングしレジス
ト22を剥離する工程を複数回繰り返し、その際、後の
工程の未露光部分Bを、先の工程の未露光部分Aに一致
するように、かつ先の工程の未露光部分Aよりも未露光
域が大きくなるようにして、側壁部が滑らかな段丘状で
ある凹部11を形成することを特徴とするエンボスロー
ルの製作方法を提供するものである。
【0006】
【実施例】本発明のエンボスロールの製作方法の実施例
を図面を参照して説明する。この実施例では、図1
(a)ないし(j)に示す製作方法によって、図2
(a)ないし(d)に示す四回のエッチング加工を行っ
て、ロール10に四隅を丸く縁取った四角形の階段状に
窪んだ凹部11を整列状に形成するエンボスロールを製
作するところを示す。
【0007】先ず、図示しない感光膜塗布装置(実公昭
55−29471号)に銅が圧膜メッキされたロール1
0を装着し、図1(a)に示すように、ロール10に感
光膜20をコーティングして乾固し、次いでPVA(ポ
リ・ビニルアルコール;酸化防止用の保護膜)21をオ
ーバーコーティングして乾固し、次いで、ロール10を
図示しないレーザ露光装置に装着し、デザインワークス
テイションによって作成した四隅を丸く縁取った四角形
を整列した状態の第一の地柄模様のネガデータをレーザ
光Rによって露光する。続いて、ロール10を図示しな
い現像装置に装着して現像し〔図1(b)〕、次いでロ
ール10を図示しないエッチング装置に装着しエッチン
グ液(希硫酸)でエッチングを行い、四隅を丸く縁取っ
た四角形の約50ミクロンの深さの一番底11aを形成
し〔図1(c),図2(a)〕、次いでロール10を図
示しないレジスト剥離装置に装着してレジスト22の剥
離を行う〔図1(d)〕。
【0008】次に上記と同様に、一番底11aに対して
一回り大きい二番底11bを形成する。すなわち、再び
感光膜20をコーティングし、PVA21をオーバーコ
ーティングし、再びレーザ光Rによって露光する〔図1
(e)〕。この場合のレーザ露光は、第一回目のレーザ
露光での未露光部分Aにピッチ及び露光エリアの中心が
一致するようにかつ第一回目の未露光部分Aよりも未露
光域が大きくなるようにレーザ露光する。このための第
二の地柄模様の画像データは、デザインワークステイシ
ョンにより、第一の地柄模様の画像データに基づいて四
角形のピッチを一致させかつ個々の四角形を所要大きく
するように作成する。そして、図1(f)に示すように
再び現像しさらに図1(g)に示すように約50ミクロ
ンの深さの二番底11bをエッチングし、図1(h)に
示すようにレジスト22の剥離を行い、図2(b)に示
す二番底11bをエッチングしたエンボスロールとす
る。
【0009】次に上記と同様に、〔図1(i),図2
(c)〕に示す三番底11cをエッチングしたエンボス
ロール、次いで、図2(d)に示す四番底11dをエッ
チングしたエンボスロールとなるように順に形成し、も
って、滑らかな段丘状となる深さ約200ミクロンの凹
部11を形成する。好ましくはこの四番底11dまでエ
ッチングしたエンボスロールをもう一度エッチングし、
側壁部にエッヂのない一回り大きい凹部11を形成し、
図1(j)に示すようにロール全面にクロムメッキまた
はニッケルメッキ30を数ミクロン施してエンボスロー
ルを完成する。なお、凹部11の深さは、一回のエッチ
ングの深さを十数ミクロンないし数百ミクロンなるよう
に所望に調整することにより、数十ミクロンないし1m
mとすることができる。メッキは耐摩耗性の付与のため
に形成することが好ましいが、必要的ではない。硬質ク
ロムメッキを厚く施せば鋼板用のエンボスロールにもな
り得る。
【0010】こうして、製作されるエンボスロールは、
一方のロールにはポヂ画像を露光焼付けし、他方のロー
ルにはネガ画像を露光焼付けするようにして、凹凸が全
く逆転した一対として凹凸が合致するようにセットして
ビニールクロス等を間に通してプレスし、エンボス加工
を施す。
【0011】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明のエン
ボスロールの製作方法によれば、ロール表面に、大柄な
凹凸模様ないし微細で凹凸模様、あるいは様々な幾何学
的なエンドレスな凹凸模様や不規則な凹凸模様や、印刷
模様に一致させた凹条部を高精密に容易に形成でき、ひ
いてはビニールクロス等のエンボス加工の品質を高める
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のエンボスロールの製作方法の実施例に
係る要部であるエンボスの断面を拡大して見た製作工程
順の工程図。
【図2】本発明のエンボスロールの製作方法の実施例に
係るエンボスロールの製作工程順の概略斜視図。
【符号の説明】
A 先の工程の未露光部分 B 後の工程の未露光部分 10 ロール 11 凹部 20 感光膜 22 レジスト

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ロールに感光膜をコーティングしレーザ
    露光し現像しエッチングしレジスト剥離する工程を複数
    回繰り返し、その際、後の工程の未露光部分を、先の工
    程の未露光部分に一致するように、かつ先の工程の未露
    光部分よりも未露光域が大きくなるようにして、側壁部
    が滑らかな段丘状である凹部を形成することを特徴とす
    るエンボスロールの製作方法。
JP2184492A 1992-01-10 1992-01-10 エンボスロールの製作方法 Pending JPH05185327A (ja)

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