JP2691653B2 - エンボスロールの製作方法 - Google Patents
エンボスロールの製作方法Info
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- JP2691653B2 JP2691653B2 JP2608892A JP2608892A JP2691653B2 JP 2691653 B2 JP2691653 B2 JP 2691653B2 JP 2608892 A JP2608892 A JP 2608892A JP 2608892 A JP2608892 A JP 2608892A JP 2691653 B2 JP2691653 B2 JP 2691653B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roll
- plating
- embossing roll
- resist
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ビニールクロス、レザ
ークロス、合成皮革あるいはクッションタイルに様々な
幾何学的模様や不規則な凹凸や、印刷模様に一致させた
凹条部をプレス形成するためのエンボスロールの製作方
法に関する。
ークロス、合成皮革あるいはクッションタイルに様々な
幾何学的模様や不規則な凹凸や、印刷模様に一致させた
凹条部をプレス形成するためのエンボスロールの製作方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、エンボスロールの製作方法は、専
ら熟練工による彫金に頼っていた。
ら熟練工による彫金に頼っていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来のエンボスロール
の製作方法によれば、熟練と日数と高額な費用を要して
いた。
の製作方法によれば、熟練と日数と高額な費用を要して
いた。
【０００４】本発明は、上述した点に鑑み案出したもの
で、ロール表面に、大柄な凹凸模様ないし微細で凹凸模
様、あるいは様々な幾何学的なエンドレスな凹凸模様や
不規則な凹凸模様や、印刷模様に一致させた凹条部を高
精密に容易に形成できるエンボスロールの製作方法を提
供することを目的としている。
で、ロール表面に、大柄な凹凸模様ないし微細で凹凸模
様、あるいは様々な幾何学的なエンドレスな凹凸模様や
不規則な凹凸模様や、印刷模様に一致させた凹条部を高
精密に容易に形成できるエンボスロールの製作方法を提
供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するための手段として、ロール１０に感光膜２０を
コーティングしレーザ露光し現像しメッキ３０ａ（３０
ｂ，３０ｃ）しレジスト２２を剥離する工程を複数回繰
り返し、その際、後の工程の露光部分Ｂを、先の工程の
露光部分Ａに重なるようにし、かつ先の工程の露光部分
Ａよりも周辺が狭まるようにするか広がるようにして、
段丘状の側壁部を有するメッキされない凹部４０を形成
することを特徴とするエンボスロールの製作方法を提供
するものである。
解決するための手段として、ロール１０に感光膜２０を
コーティングしレーザ露光し現像しメッキ３０ａ（３０
ｂ，３０ｃ）しレジスト２２を剥離する工程を複数回繰
り返し、その際、後の工程の露光部分Ｂを、先の工程の
露光部分Ａに重なるようにし、かつ先の工程の露光部分
Ａよりも周辺が狭まるようにするか広がるようにして、
段丘状の側壁部を有するメッキされない凹部４０を形成
することを特徴とするエンボスロールの製作方法を提供
するものである。
【０００６】
【実施例】本発明のエンボスロールの製作方法の第一実
施例を図１ないし図２を参照して説明する。このエンボ
スロールの製作方法は、図１（ａ）ないし（ｊ）に示す
ように、ロール１０に感光膜２０をコーティングしレー
ザ露光し現像しメッキ３０ａ（３０ｂ，３０ｃ）を施し
てレジスト２２を剥離する工程を複数回繰り返し、その
際、後の工程の露光部分Ｂを、先の工程の露光部分Ａに
重なるようにし、かつ先の工程の露光部分Ａよりも周辺
が狭まるようにして、レジスト剥離箇所に、メッキ３０
ａ，３０ｂ，３０ｃの段丘状の側壁部を有する凹部４０
を形成し、もって図２（ａ）ないし（ｃ）に示すように
厚いメッキを施して、四隅が丸みをおびた四角形の凹部
４０を五列状に形成する場合を示している。
施例を図１ないし図２を参照して説明する。このエンボ
スロールの製作方法は、図１（ａ）ないし（ｊ）に示す
ように、ロール１０に感光膜２０をコーティングしレー
ザ露光し現像しメッキ３０ａ（３０ｂ，３０ｃ）を施し
てレジスト２２を剥離する工程を複数回繰り返し、その
際、後の工程の露光部分Ｂを、先の工程の露光部分Ａに
重なるようにし、かつ先の工程の露光部分Ａよりも周辺
が狭まるようにして、レジスト剥離箇所に、メッキ３０
ａ，３０ｂ，３０ｃの段丘状の側壁部を有する凹部４０
を形成し、もって図２（ａ）ないし（ｃ）に示すように
厚いメッキを施して、四隅が丸みをおびた四角形の凹部
４０を五列状に形成する場合を示している。
【０００７】詳述すると、感光膜塗布装置（実公昭５５
−２９４７１号；図示しない）に銅が圧膜メッキされた
ロールを装着し、図１（ａ）に示すように該ロール１０
に感光膜２０をコーティングして乾固し、次いでＰＶＡ
（ポリ・ビニルアルコール；酸化防止用の保護膜）２１
をオーバーコーティングして乾固し、次いで、ロール１
０を図示しないレーザ露光装置に装着し、デザインワー
クステイションによって作成した四隅を丸く縁取った四
角形を整列した状態の第一の地柄模様の画像データをレ
ーザ光Ｒによって露光する。続いて、ロール１０を図示
しない現像装置に装着して現像し〔図１（ｂ）〕、次い
でロール１０を図示しないメッキ装置に装着しレヂスト
膜厚より所要薄くもしくは同厚になるように銅メッキを
行い、図１（ｃ）に示すように約５０ミクロンの高さの
一番目のメッキ３０ａを形成する。なお、該メッキ３０
ａはニッケルメッキであっても良い。次いでロール１０
を図示しないレジスト剥離装置に装着してレジスト２２
の剥離を行う〔図１（ｄ），図２（ａ）〕。
−２９４７１号；図示しない）に銅が圧膜メッキされた
ロールを装着し、図１（ａ）に示すように該ロール１０
に感光膜２０をコーティングして乾固し、次いでＰＶＡ
（ポリ・ビニルアルコール；酸化防止用の保護膜）２１
をオーバーコーティングして乾固し、次いで、ロール１
０を図示しないレーザ露光装置に装着し、デザインワー
クステイションによって作成した四隅を丸く縁取った四
角形を整列した状態の第一の地柄模様の画像データをレ
ーザ光Ｒによって露光する。続いて、ロール１０を図示
しない現像装置に装着して現像し〔図１（ｂ）〕、次い
でロール１０を図示しないメッキ装置に装着しレヂスト
膜厚より所要薄くもしくは同厚になるように銅メッキを
行い、図１（ｃ）に示すように約５０ミクロンの高さの
一番目のメッキ３０ａを形成する。なお、該メッキ３０
ａはニッケルメッキであっても良い。次いでロール１０
を図示しないレジスト剥離装置に装着してレジスト２２
の剥離を行う〔図１（ｄ），図２（ａ）〕。
【０００８】以後同様に、図２（ｂ）に示すように一番
目のメッキ３０ａに対して一回り大きい二番目のメッキ
３０ｂを形成する。すなわち、再び感光膜２０をコーテ
ィングし、ＰＶＡ２１をオーバーコーティングし、再び
レーザ光Ｒによって露光する〔図１（ｅ）〕。この場合
のレーザ露光は、第一回目のレーザ露光での露光部分Ａ
にピッチ及び露光エリアの中心が一致するようにかつ第
一回目の露光部分Ａよりも露光域周辺が狭まるようにレ
ーザ露光する。このための第二の地柄模様の画像データ
は、デザインワークステイションにより、第一の地柄模
様の画像データに基づいて四角形のピッチを一致させか
つ個々の四角形の大きさを所要小さくするように作成す
る。そして、図１（ｆ）に示すように再び現像し，図１
（ｇ）に示すようにさらに約５０ミクロンの厚さの二番
目のメッキ３０ｂを形成し、レジスト２２の剥離を行う
〔図１（ｈ），図２（ｂ）〕。
目のメッキ３０ａに対して一回り大きい二番目のメッキ
３０ｂを形成する。すなわち、再び感光膜２０をコーテ
ィングし、ＰＶＡ２１をオーバーコーティングし、再び
レーザ光Ｒによって露光する〔図１（ｅ）〕。この場合
のレーザ露光は、第一回目のレーザ露光での露光部分Ａ
にピッチ及び露光エリアの中心が一致するようにかつ第
一回目の露光部分Ａよりも露光域周辺が狭まるようにレ
ーザ露光する。このための第二の地柄模様の画像データ
は、デザインワークステイションにより、第一の地柄模
様の画像データに基づいて四角形のピッチを一致させか
つ個々の四角形の大きさを所要小さくするように作成す
る。そして、図１（ｆ）に示すように再び現像し，図１
（ｇ）に示すようにさらに約５０ミクロンの厚さの二番
目のメッキ３０ｂを形成し、レジスト２２の剥離を行う
〔図１（ｈ），図２（ｂ）〕。
【０００９】続いて、第三の地柄模様の画像データに基
づき同様に行い、図１（ｉ）に示すように三番目のメッ
キ３０ｃを形成したロール１０全面に５ミクロン〜１０
ミクロンのメッキをさらに施す。もって〔図１（ｊ），
図２（ｃ）〕に示すように、側壁部が段丘状となる深さ
約１５０ミクロンの凹部４０を５列状に形成したエンボ
スロールが製作される。なお、一回のメッキ厚がレヂス
ト膜の厚さと略同一になるように調整するのが好まし
く、このため、レヂスト膜は、コーテイングを複数回行
って所望の膜厚を得るようにする。凹部４０の深さは、
メッキ回数を多くすることにより所望に大きくすること
ができる。
づき同様に行い、図１（ｉ）に示すように三番目のメッ
キ３０ｃを形成したロール１０全面に５ミクロン〜１０
ミクロンのメッキをさらに施す。もって〔図１（ｊ），
図２（ｃ）〕に示すように、側壁部が段丘状となる深さ
約１５０ミクロンの凹部４０を５列状に形成したエンボ
スロールが製作される。なお、一回のメッキ厚がレヂス
ト膜の厚さと略同一になるように調整するのが好まし
く、このため、レヂスト膜は、コーテイングを複数回行
って所望の膜厚を得るようにする。凹部４０の深さは、
メッキ回数を多くすることにより所望に大きくすること
ができる。
【００１０】次に、第二実施例に係るエンボスロールの
製作方法を図１ないし図２を参照して説明する。このエ
ンボスロールの製作方法は、図３（ａ）ないし（ｊ）に
示すように、ロール１０に感光膜２０をコーティングし
レーザ露光し現像しメッキ３０ａ（３０ｈ，３０ｃ）を
施してレジスト２２を剥離する工程を複数回繰り返し、
その際、後の工程の露光部分Ｂを、先の工程の露光部分
Ａに重なるようにし、かつ先の工程の露光部分Ａよりも
周辺が広がるようにして、レジスト剥離箇所に、メッキ
３０ａ，３０ｂ，３０ｃの段丘状の側壁部を有する凹部
４０を形成し、もって図４（ａ）ないし（ｃ）に示す厚
いメッキを施して、四隅が丸みを帯びた四角形で段状に
深くなる凹部４０を５列状に形成する場合を示してい
る。
製作方法を図１ないし図２を参照して説明する。このエ
ンボスロールの製作方法は、図３（ａ）ないし（ｊ）に
示すように、ロール１０に感光膜２０をコーティングし
レーザ露光し現像しメッキ３０ａ（３０ｈ，３０ｃ）を
施してレジスト２２を剥離する工程を複数回繰り返し、
その際、後の工程の露光部分Ｂを、先の工程の露光部分
Ａに重なるようにし、かつ先の工程の露光部分Ａよりも
周辺が広がるようにして、レジスト剥離箇所に、メッキ
３０ａ，３０ｂ，３０ｃの段丘状の側壁部を有する凹部
４０を形成し、もって図４（ａ）ないし（ｃ）に示す厚
いメッキを施して、四隅が丸みを帯びた四角形で段状に
深くなる凹部４０を５列状に形成する場合を示してい
る。
【００１１】詳述すると、第一実施例と同様に銅が圧膜
メッキされたロール１０に感光膜２０をコーティングし
て乾固し、次いでＰＶＡ２１をオーバーコーティングし
て乾固し、次いで、ロール１０を図示しないレーザ露光
装置に装着し、デザインワークステイションによって作
成した四隅を丸く縁取った四角形を整列した状態の第一
の地柄模様の画像データに基づいてレーザ光Ｒを点滅照
射して露光を行う〔図３（ａ）〕。続いて、ロール１０
を現像し〔図３（ｂ）〕、次いでロール１０を図示しな
いメッキ装置に装着しレヂスト膜厚より所要薄くもしく
は同厚になるように銅メッキを行い、図３（ｃ）に示す
ように約５０ミクロンの厚さの一番目のメッキ３０ａを
形成する。次いでロール１０をレジスト２２の剥離を行
う〔図３（ｄ），図４（ａ）〕。
メッキされたロール１０に感光膜２０をコーティングし
て乾固し、次いでＰＶＡ２１をオーバーコーティングし
て乾固し、次いで、ロール１０を図示しないレーザ露光
装置に装着し、デザインワークステイションによって作
成した四隅を丸く縁取った四角形を整列した状態の第一
の地柄模様の画像データに基づいてレーザ光Ｒを点滅照
射して露光を行う〔図３（ａ）〕。続いて、ロール１０
を現像し〔図３（ｂ）〕、次いでロール１０を図示しな
いメッキ装置に装着しレヂスト膜厚より所要薄くもしく
は同厚になるように銅メッキを行い、図３（ｃ）に示す
ように約５０ミクロンの厚さの一番目のメッキ３０ａを
形成する。次いでロール１０をレジスト２２の剥離を行
う〔図３（ｄ），図４（ａ）〕。
【００１２】以後同様に、図４（ｂ）に示すように一番
目のメッキ３０ａに対して一回り小さい二番目のメッキ
３０ｂを形成する。すなわち、再び感光膜２０をコーテ
ィングし、ＰＶＡ２１をオーバーコーティングし、再び
レーザ光Ｒによって露光する〔図３（ｅ）〕。この場合
のレーザ露光は、第一回目のレーザ露光での露光部分Ａ
にピッチ及び露光エリアの中心が一致するようにかつ第
一回目の露光部分Ａよりも露光域周辺が広がるようにレ
ーザ露光する。このための第二の地柄模様の画像データ
は、デザインワークステイションにより、第一の地柄模
様の画像データに基づいて四角形のピッチを一致させか
つ個々の四角形の大きさを所要大きくするように作成す
る。そして、図３（ｆ）に示すように再び現像し，図３
（ｇ）に示すようにさらに約５０ミクロンの高さの二番
目のメッキ３０ｂを形成し、レジスト２２の剥離を行う
〔図３（ｈ），図４（ｂ）〕。
目のメッキ３０ａに対して一回り小さい二番目のメッキ
３０ｂを形成する。すなわち、再び感光膜２０をコーテ
ィングし、ＰＶＡ２１をオーバーコーティングし、再び
レーザ光Ｒによって露光する〔図３（ｅ）〕。この場合
のレーザ露光は、第一回目のレーザ露光での露光部分Ａ
にピッチ及び露光エリアの中心が一致するようにかつ第
一回目の露光部分Ａよりも露光域周辺が広がるようにレ
ーザ露光する。このための第二の地柄模様の画像データ
は、デザインワークステイションにより、第一の地柄模
様の画像データに基づいて四角形のピッチを一致させか
つ個々の四角形の大きさを所要大きくするように作成す
る。そして、図３（ｆ）に示すように再び現像し，図３
（ｇ）に示すようにさらに約５０ミクロンの高さの二番
目のメッキ３０ｂを形成し、レジスト２２の剥離を行う
〔図３（ｈ），図４（ｂ）〕。
【００１３】続いて、上述した第三の地柄模様の画像デ
ータに基づき同様に行って、図３（ｉ）に示すように三
番目のメッキ３０ｃを形成したロール１０全面に５ミク
ロン〜１０ミクロンのクロムメッキをさらに施す。もっ
て、図３（ｊ），図４（ｃ）に示すように、側壁部が段
丘状となる深さ約１５０ミクロンの凹部４０を５列状に
形成したエンボスロールを製作することができる。
ータに基づき同様に行って、図３（ｉ）に示すように三
番目のメッキ３０ｃを形成したロール１０全面に５ミク
ロン〜１０ミクロンのクロムメッキをさらに施す。もっ
て、図３（ｊ），図４（ｃ）に示すように、側壁部が段
丘状となる深さ約１５０ミクロンの凹部４０を５列状に
形成したエンボスロールを製作することができる。
【００１４】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明のエン
ボスロールの製作方法によれば、ロール表面に、大柄な
凹凸模様ないし微細で凹凸模様、あるいは様々な幾何学
的なエンドレスな凹凸模様や不規則な凹凸模様や、印刷
模様に一致させた凹条部を高精密に容易に形成でき、ひ
いてはビニールクロス等の品質を高めることができる。
ボスロールの製作方法によれば、ロール表面に、大柄な
凹凸模様ないし微細で凹凸模様、あるいは様々な幾何学
的なエンドレスな凹凸模様や不規則な凹凸模様や、印刷
模様に一致させた凹条部を高精密に容易に形成でき、ひ
いてはビニールクロス等の品質を高めることができる。
【図１】第一実施例のエンボスロールの製作方法に係る
製作工程図。
製作工程図。
【図２】第一実施例のエンボスロールの製作方法に係る
エンボスロールの概略斜視図。
エンボスロールの概略斜視図。
【図３】第二実施例のエンボスロールの製作方法に係る
製作工程図。
製作工程図。
【図４】第二実施例のエンボスロールの製作方法に係る
エンボスロールの概略斜視図。
エンボスロールの概略斜視図。
Ａ 先の工程の露光部分 Ｂ 後の工程の露光部分 １０ ロール ２０ 感光膜 ２２ レジスト ３０ａ，３０ｂ，３０ｃ メッキ ４０ 凹部
Claims (1)
- 【請求項１】 ロールに感光膜をコーティングしレーザ
露光し現像しメッキしレジスト剥離する工程を複数回繰
り返し、その際、後の工程の露光部分を、先の工程の露
光部分に重なるようにし、かつ先の工程の露光部分より
も周辺部分が狭まるようにするか広がるようにして、段
丘状の側壁部を有するメッキされない凹部を形成するこ
とを特徴とするエンボスロールの製作方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2608892A JP2691653B2 (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | エンボスロールの製作方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2608892A JP2691653B2 (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | エンボスロールの製作方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05195288A JPH05195288A (ja) | 1993-08-03 |
| JP2691653B2 true JP2691653B2 (ja) | 1997-12-17 |
Family
ID=12183858
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2608892A Expired - Lifetime JP2691653B2 (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | エンボスロールの製作方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2691653B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009072828A (ja) * | 2007-08-27 | 2009-04-09 | Think Laboratory Co Ltd | エンボスロール及びその製造方法 |
-
1992
- 1992-01-17 JP JP2608892A patent/JP2691653B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05195288A (ja) | 1993-08-03 |
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