KR20060109369A

KR20060109369A - 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 제조 방법 및 이의 방법에 의해 제조된 도광판

Info

Publication number: KR20060109369A
Application number: KR1020050031596A
Authority: KR
Inventors: 황철진; 김종선; 고영배; 허영무
Original assignee: 한국생산기술연구원
Priority date: 2005-04-15
Filing date: 2005-04-15
Publication date: 2006-10-20
Also published as: KR100698636B1; WO2006109920A1

Abstract

본 발명은 도광판의 마이크로렌즈 제조방법에 있어서, 빛이 통과되는 제1 영역과 빛이 통과되지 않는 복수 개의 제2 영역으로 이루어진 마스크를 포토레지스트가 코팅된 기판 상에 정렬시키는 제1 단계; 상기 제2 영역 상측에서 하측으로 조사되는 빛이 적어도 1방향 이상에서 비대칭 경사각을 갖도록 하기위해서 적어도 1회 이상의 경사 노광을 실시하는 제2 단계; 상기 경사 노광된 기판을 현상하여 비대칭 경사기둥 형태를 가진 다수의 포토레지스트를 얻는 제3 단계; 상기 비대칭 경사기둥 형태의 포토레지스트를 리플로우 공정을 통해 만곡시켜 비대칭 곡률 마이크로렌즈 형상을 얻는 제4 단계; 상기 비대칭 곡률 마이크로렌즈 형상의 포토레지스트가 음각되도록 하는 음각 스탬퍼를 제작하는 제5 단계; 및 상기 음각 스탬퍼를 금형으로 하여 상기 비대칭 곡률 마이크로렌즈가 양각된 도광판을 성형하는 제6 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 비대칭 곡률 마이크로렌즈는 빛의 굴절과 난반사를 조절하는 기능이 강화되어 원하는 광학적 성능을 가지게 할 수 있고, 이와 같은 비대칭 곡률 마이크로렌즈 어레이를 통하여 도광판 등에 응용할 수 있는 효과가 있다.

리플로우, 도광판, 마이크로 렌즈

Description

반도체 리플로우 공정를 이용한 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 제조 방법 및 이의 방법에 의해 제조된 도광판{Manufacturing method of non-symmetric multi-curvature microlens using reflow process and it's application to Light Guide Plate}

도 1은 본 발명에 사용되는 마스크의 사시도.

도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 실시 예에 따른 비대칭 타원뿔 기둥 형상의 포토레지스트를 제조하는 노광 공정을 보인 공정도.

도 3a와 도 3b는 본 발명의 실시 예에 따라 제조된 비대칭 타원뿔 기둥 형상의 포토레지스트들의 크기 및 모양의 특징을 보인 단면도.

도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 실시 예에 따른 리플로우 공정 후에 비대칭 곡률 마이크로렌즈로 변화된 포토레지스트의 형상을 보인 사시도.

도 5a와 도 5b는 본 발명의 실시 예에 따른 음각 스탬퍼 제조 과정을 보인 공정도.

도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 양각 스탬퍼 제조 공정을 보인 개략도.

* 도면의 중요부분에 대한 부호의 설명*

21: 마스크 22: 제1 영역

23: 제2 영역 31: 기판

32: PR(포토레지스트) 34: 타원뿔 기둥형상의 PR

36: 곡률 마이크로렌즈 형상의 PR 41: 금속박막

42: 음각 스탬퍼 44: 양각 스탬퍼

본 발명은 초미세패턴 형상가공 기술 및 미세성형기술에 관한 것으로, 특히, 마이크로 렌즈(micro-lens) 어레이(array) 또는 도광판(Light Guiding Plate: LGP) 등에 사용되는 광 확산 및 시야각 조절을 위한 비대칭 곡률 마이크로 렌즈를 제조하는 방법 및 이 방법에 의해 제조된 도광판에 관한 것이다.

일반적으로 CRT, PDP, FED와는 달리 액정표시장치(LCD)에 의한 표시는 그 자체가 비발광성이기 때문에 빛이 없는 곳에서는 사용이 불가능하다.

이러한 단점을 보완하고, 어두운 곳에서도 액정표시장치(LCD)의 사용이 가능하도록 하기 위해, 상기 액정표시장치의 패널 전체에 고르게 빛을 전달하는 조광장치로서 백라이트 유닛이 사용된다.

상기 백라이트 유닛은 배경광원과, 빛을 반사시켜주는 반사판, 도광판, 확산판 등으로 구성된다.

상기 도광판은 양측면에 광원으로 사용되는 배경광원에서 방출되는 빛을 액정표시장치의 전체면에 균일하게 조사시키는 역할을 한다.

이때, 상기 도광판의 전면을 일정방향으로 배열된 다수의 프리즘 형태로 제 작하여 이웃하는 프리즘 형태 간에 V형 그루브(groove)가 형성되게 제작하거나, 일정한 크기의 확산 잉크 도트(dot) 형식으로 배열되게 제작하여 사용하게 된다.

그러나, 상기와 같은 종래기술은 도광판 전면을 프리즘 형태로 제작하기 위해서는 V형 그루브(groove) 패턴 형상을 기계적으로 가공해주어야 하기 때문에, 미세한 V형 그루브 패턴의 제조가 어렵고, 제조 기간이 길고 비용이 비싼 문제가 있다.

또한, 확산 잉크 도트 형식을 사용한다하더라도 확산 잉크 자체의 흡수율과 산란으로 인해 광효율이 매우 떨어지는 문제가 있다.

또한, 광학적 차원에서 액정표시장치는 장치면과 약 90도를 이루는 높은 출사각의 광이 필요한 반면, 종래 기술의 도광판을 통해서 출사되는 광은 출사각이 도광판 면과 약 30도로 매우 낮기 때문에, 낮은 출사각을 높이기 위하여 높은 가격의 프리즘 필름이나 확산 필름이 사용해야하는 문제가 있다.

상기 사용되는 필름들을 줄이기 위하여 여러 가지 패턴들을 이용하기도 하는데, 이 또한, 기계가공이나 식각을 사용하기 때문에 균일한 형상의 제조가 어려운 문제가 있다.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 도광판의 마이크로렌즈를 제조함에 있어서, 각 마이크로렌즈들이 적어도 한 방향에 대해서는 비대칭의 다른 곡률을 갖도록 제작되는 도광판의 곡률 마이크로렌즈의 제조방법 및 이 방법 에 의해 제작된 도광판을 제공하는 것을 목적으로 한다.

또한, 상기와 같은 비대칭 곡률 마이크로렌즈의 크기 또는 도광판에서의 배열을 사용자의 의도대로 용이하게 설정할 수 있도록 하는 도광판의 곡률 마이크로렌즈의 제조방법 및 이 방법에 의해 제작된 도광판을 제공하는데 다른 목적이 있다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 도광판의 마이크로렌즈 제조방법에 있어서, 빛이 통과되는 제1 영역과 빛이 통과되지 않는 복수 개의 제2 영역으로 이루어진 마스크를 포토레지스트가 코팅된 기판 상에 정렬시키는 제1 단계; 상기 제2 영역 상측에서 하측으로 조사되는 빛이 적어도 1방향 이상에서 비대칭 경사각을 갖도록 하기위해서 적어도 1회 이상의 경사 노광을 실시하는 제2 단계; 상기 경사 노광된 기판을 현상하여 비대칭 경사기둥 형태를 가진 다수의 포토레지스트를 얻는 제3 단계; 상기 비대칭 경사기둥 형태의 포토레지스트를 리플로우 공정을 통해 만곡시켜 비대칭 곡률 마이크로렌즈 형상을 얻는 제4 단계; 상기 비대칭 곡률 마이크로렌즈 형상의 포토레지스트가 음각되도록 하는 음각 스탬퍼를 제작하는 제5 단계; 및 상기 음각 스탬퍼를 금형으로 하여 상기 비대칭 곡률 마이크로렌즈가 양각된 도광판을 성형하는 제6 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.

이하, 첨부한 도면을 참조로 하여 본 발명에 따른 바람직한 실시 예를 설명 한다.

본 발명을 설명함에 앞서, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 기술은 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략하도록 한다.

본 발명을 위해서는 우선적으로 노광 공정에 사용될 도 1에 도시된 바와 같은 마스크(21)를 제조를 한다. 여기서 마스크(21)는 패턴의 정밀도에 따라 필름 마스크나 크롬 마스크 등이 사용될 수 있는데, 크롬 마스크를 사용할 경우, 1㎛ 정도의 정밀도로 마스크 제작이 가능하다.

도 1은 본 발명에 사용되는 마스크의 사시도로서, 동 도면에서 보여 지는 바와 같은 마스크(21)는 빛이 통과되는 제1 영역(22)과 빛이 통과되지 않는 복수 개의 제2 영역(23)으로 구성된다.

이때, 상기 제2 영역(23)은 타원 형상으로 제작되는 것이 바람직한데, 물론 상기 제2 영역(23)을 타원이 아닌 다른 형상 즉, 원형, 사각, 오각, 육각 등의 형상으로 제작하는 것도 가능하다.

그리고, 본 발명의 마스크(21)는 다수의 제2 영역(23)을 동일한 형상 동일한 간격으로 제작할 수 있으며, 도 1에 도시된 바와 같이 다수의 제2 영역(23)이 동일한 타원 형상을 가지나 그 간격과 크기를 다르게 제작할 수 있다.

또한, 상기 마스크(21)의 전체영역 중에서 특정 영역에서는 제2 영역(23)들 각각의 타원 형상의 크기를 다르게 할 수 있고, 제2 영역(23)들 간의 간격을 다르게 설정할 수 있고, 상기 제2 영역(23)들을 불특정 방향으로 배열할 수 있다.

이때, 상기 마스크(21)의 전체영역에서 제2영역(23)들은 다양한 형태의 배열 형태로 나타날 수 있고, 특정되지 않는 각각의 배열형태는 액정표시장치(LCD)의 화면 전역에서 최적의 광학적 성능을 나타낼 수 있도록 의도된다.

도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 실시 예에 따른 비대칭 타원뿔 기둥 형상의 포토레지스트를 제조하는 노광 공정을 보인 공정도 이다.

우선, 도 2a와 같이 스핀 코터(Spin Coater; 미도시) 장비를 이용하여 유리 또는 실리콘 웨이퍼 기판(31) 상에 감광제인 PR(Photoresist; 32)를 코팅한다. 이때 사용되는 PR(32)의 종류는 두께에 따라 다양하게 정할 수 있다.

상기 코팅공정이 끝나면, 코팅된 기판(31)을 오븐에 넣고 소프트 베이킹(Soft baking)을 한다. 이때 베이킹 조건은 온도 70~120℃에서 시간은 2~30분 정도인 것이 바람직하다.

상기 소프트 베이킹이 끝나면, 도 2b에 도시된 바와 같이 마스크(21)를 PR 코팅된 기판(31) 상에 얼라인 시키게 되는데, 이때, 상기 마스크(21)는 얼라인 키(align key; 미도시)에 유도되어 얼라인된다.

이후, 상기 마스크(21) 상측에서 빛을 조사시켜 노광공정을 실시하도록 하는데, 이때, 상기 마스크(21)의 제2 영역(23)의 하측으로 조사되는 빛이 적어도 한 방향 이상에서 경사각을 가지고 조사될 수 있도록 경사노광을 실시한다.

이를 위해, 적어도 1회 이상 조사각을 달리하는 경사노광을 실시할 수 있도 록 하고, 이때, 제2 영역(23)의 길이방향 끝으로부터 각각 대향각을 이루어 벌어지도록 조사시키는 것이 바람직하다.

도 2b에서, Ra1, Ra2 는 제2 영역(23)의 수평방향 폭(단폭)을 나타내고, Rb1, Rb2 제2 영역(23)의 수직방향 폭(단폭)을 나타낸다. 그리고 La1, La2 는 제2 영역(23)의 수평방향 간 간격을 나타내고, Lb1, Lb2 는 제2 영역(23)의 수직방향 간의 간격을 나타낸다.

동 도면에서는 La1, La2의 간격이 Lb1, Lb2의 간격보다 넓게 배열되고 있음을 볼 수 있다.

그리고, 상기 노광공정이 끝나면 현상 작업을 수행하도록 하는데, 현상액 온도는 상온에서 디핑(Dipping)하는 방식을 취한다.

상기 현상결과를 도 2c를 통해 살펴보면, 동 도면에 도시된 바와 같이 경사 노광에 의해 빛을 통과한 제1 영역(22)의 PR(32)영역은 녹아서 없어지게 되고, 빛을 받지 않은 제2 영역(23)의 PR(32)영역은 남게 된다.

결국, 기판(31)에 남는 것은 빛을 받지 않은 제2 영역(23)의 PR(34)이다. 이때, 상기 PR(34)의 형상은 제2 영역(23)의 형상과 동일한 타원 형태를 따르게 되고, 경사노광의 결과로서, 하측으로 넓어지는 경사면을 갖는 타원뿔 기둥형상으로 제작된다.

이때, 상기 PR(34)는 경사노광시의 조사각도 및 조사방향이 달라짐에 따라 비대칭 타원뿔 기둥 형상으로 제작될 수 있다.

여기서, 상기 노광공정을 통해 제작된 복수 개의 비대칭 타원뿔 기둥 형상의 PR(34)은 마스크(21)의 제2 영역(23)의 배열과 형상을 따르게 되는데, 크기 및 간격, 높이가 각기 다르게 제작될 수 있다.

도 3a는 노광된 기판을 비대칭 타원뿔 기둥 형상의 PR(34) 길이가 긴 영역으로 절단한 단면도이고, 도 3b는 노광된 기판을 비대칭 타원뿔 기둥 형상의 PR(34) 길이가 짧은 영역으로 절단한 단면도이다.

동 도면에서 보여 지는 바와 같은 비대칭 타원뿔 기둥 형상의 PR(34)들은 동일한 높이로 제작되나, 크기 및 수평/수직방향에 따른 간격(La, Lb)이 서로 다른 것을 볼 수 있다.

상술한 바와 같은 현상 작업을 마치고 나면, 핫 플레이트(Hot Plate) 장비를 이용해 리플로우(Reflow) 공정을 수행하여 상기 비대칭 타원뿔 기둥 형상의 PR(34)을 만곡시키도록 한다.

여기서, 상기 리플로우 공정은 PR(34)에 열을 가하여 상기 감광제(즉, PR)가 열을 받아서 녹아내리게 하는 공정을 말한다. 이때 리플로우 조건은 제조 형상에 따라 달라지는데, 대략 온도 100~200℃ 사이에서 수분 동안 실시하는 것이 바람직하다.

도 4a는 본 발명에 따른 리플로우 공정 후의 직선으로 배열된 PR의 상태를 보인 평면도이고, 도 4b는 본 발명에 따른 리플로우 공정 후의 곡선으로 배열된 PR 의 상태를 보인 평면도이며, 도 4c는 본 발명에 따른 리플로우 공정 후의 PR의 상태를 보인 단면도이다.

동 도면에서 보는 바와 같이, 비대칭 타원뿔 기둥 형상의 PR(34)을 리플로우 공정을 통해 비대칭 곡률 마이크로렌즈 형상의 PR(36)로 제작하게 된다.

이때, 상기 비대칭 곡률 마이크로렌즈 형상의 PR(46)은 도 2c와 도 3a, 도 3b에 도시된 비대칭 타원뿔 기둥 형상의 PR(34)의 경사를 결정하는 경사노광 각도에 의해서 1차 결정되며, 리플로우 공정의 영향인자(온도 및 시간)에 의해서 2차 결정되어 다양한 형태의 비대칭 곡률 마이크로렌즈 형상의 PR(36)을 제작하게 된다.

또한, 상기 도 4a 내지 4b를 통해 본 발명에 따른 마이크로렌즈의 배열을 다양한 형태로 실시할 수 있음을 볼 수 있다.

따라서, 상기와 같은 본 발명에 따르게 되면, 마스크(21)의 제2 영역(23)의 형상과 크기 및 배열을 조절하는 과정과 경사노광의 각도 및 방향을 조절하는 과정과, 리플로우 공정에서의 온도 및 시간을 조절하는 과정을 통해 원하는 형태의 비대칭 곡률 마이크로렌즈 형상(36)을 만들 수 있을 뿐만 아니라, 나아가 원하는 형태의 광학 설계를 자유롭게 할 수 있는 이점을 갖게 된다.

도 5a와 도 5b는 본 발명의 실시 예에 따른 음각 스탬퍼 제조 과정을 보인 공정도 이다.

동 도면에서 보는 바와 같이 다수의 비대칭 곡률 마이크로렌즈 형상의 PR(36)이 패턴으로 형성된 기판(31) 상에 금속 박막(41)을 코팅한다.

이때, 상기 금속 박막(41) 코팅은 보통 크롬(Cr) 코팅을 많이 하며, 금(Au)을 추가로 코팅할 수 있다.

그리고, 상기 금속 박막(41) 코팅이 끝나면, 기판(31)을 도금장비에 장착하고 도 5b에 도시된 바와 같이 니켈 전기 도금을 실시한다. 이때 공급되는 전류는 각 스텝에 따라 수 암페어를 흘리며 이에 따른 도금두께는 400~450㎛가 되고(4인치 웨이퍼 기준),니켈 도금된 영역이 스탬퍼(stamper; 42)가 된다.

상기 니켈 전기 도금을 통해 스탬퍼(42)를 만들면, 기판(31)과 스탬퍼(42)를 분리시킨다. 이때 분리된 스탬퍼(42)는 비대칭 곡률 마이크로렌즈(36)의 어레이 패턴이 음각으로 전사된 형태를 가진다.

즉, 상기 스탬퍼(42; 이하 음각 스탬퍼라 함)에는 비대칭 곡률 마이크로렌즈(36) 형태의 어레이 패턴이 음각으로 새겨져 있고, 구면 렌즈 형태 간에 의한 비대칭 곡률 마이크로렌즈(36)가 양각으로 새겨져 있다.

상기와 같이 음각의 비대칭 곡률 마이크로렌즈 형상을 가진 음각 스탬퍼(42)를 제작하면, 상기 음각 스탬퍼(42)를 금형으로 하여 양각의 비대칭 곡률 마이크로렌즈 어레이 패턴을 가진 도광판 또는 마이크로 렌즈 어레이를 성형할 수 있게 된다.

그리고, 상기와 같은 음각 스탬퍼(42)를 이용하면, 음각의 비대칭 곡률 마이크로렌즈 어레이 패턴을 가진 도광판을 제조하기 위한 또 다른 양각 스탬퍼를 제작할 수 있다.

도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 양각 스탬퍼 제조 공정을 보인 개략도로서, 동 도면에서 보는 바와 같은 음각 스탬퍼(42)의 비대칭 곡률 마이크로렌즈 어레이 패턴 위에 새로운 니켈 도금공정을 실시한다.

상기 도금공정을 통해서 새로운 니켈도금 영역(44)이 형성되고, 상기 니켈 도금 영역(44)은 음각 스탬퍼(42)로부터 분리시킬 수 있다.

이렇게, 음각 스탬퍼(42)와 분리된 새로운 니켈도금 영역(44)은 상기 음각 스탬퍼(42)가 전사된 형태를 가지는 새로운 양각 스탬퍼(44)를 형성하게 된다.

즉, 새로운 양각 스탬퍼(44)는 비대칭 곡률 마이크로렌즈 어레이 패턴이 양각인데 반해, 비대칭 곡률 마이크로렌즈 간에 의한 그루부가 음각으로 새겨지게 되는 것이다.

따라서, 상기 양각 스탬퍼(44)를 금형으로 하면 음각의 비대칭 곡률 마이크로렌즈 어레이 패턴을 가진 도광판(미도시)을 성형할 수 있게 된다.

상기와 같은 본 발명은 3차원적인 비대칭 곡률 마이크로렌즈를 만들기 위하여 2차례의 경사노광에 의해 포토레지스트(32)를 비대칭 타원뿔 기둥형태(34)로 만들고 포토레지스트의 리플로우 특성을 이용하여 열처리를 통해 각각의 비대칭 타원뿔 기둥(34)들이 비대칭 곡률 마이크로렌즈 형상(36)을 얻을 수 있게 된다.

이상에서 본 발명에 대한 기술사상을 첨부도면과 함께 서술하였지만 이는 본 발명의 바람직한 실시 예를 예시적으로 설명한 것이지 본 발명을 한정하는 것은 아니다. 또한, 이 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 누구나 본 발명의 기술사 상의 범주를 이탈하지 않는 범위 내에서 다양한 변형 및 모방이 가능함은 명백한 사실이다.

상술한 설명에 따르면 본 발명은 리플로우 공정을 통해 경사노광에 의해 만들어진 포토레지스터에 의한 비대칭 곡률 마이크로렌즈를 제작시킴으로써, 간단한 제조 공정으로 미세한 비대칭 곡률 마이크로렌즈 어레이 패턴을 제조할 수 있으며, 그에 따라 비용을 줄이고 제조 시간을 단축시키는 효과가 있다.

또한, 본 발명의 비대칭 곡률 마이크로렌즈는 빛의 굴절과 난반사를 조절하는 기능이 강화되어 원하는 광학적 성능을 가지게 할 수 있고, 이와 같은 비대칭 곡률 마이크로렌즈 어레이를 통하여 도광판 등에 응용할 수 있는 효과가 있다.

Claims

도광판의 마이크로렌즈 제조방법에 있어서,

빛이 통과되는 제1 영역과 빛이 통과되지 않는 복수 개의 제2 영역으로 이루어진 마스크를 포토레지스트가 코팅된 기판 상에 정렬시키는 제1 단계;

상기 제2 영역 상측에서 하측으로 조사되는 빛이 적어도 1방향 이상에서 비대칭 경사각을 갖도록 하기위해서 적어도 1회 이상의 경사 노광을 실시하는 제2 단계;

상기 경사 노광된 기판을 현상하여 비대칭 경사기둥 형태를 가진 다수의 포토레지스트를 얻는 제3 단계;

상기 비대칭 경사기둥 형태의 포토레지스트를 리플로우 공정을 통해 만곡시켜 비대칭 곡률 마이크로렌즈 형상을 얻는 제4 단계;

상기 비대칭 곡률 마이크로렌즈 형상의 포토레지스트가 음각되도록 하는 음각 스탬퍼를 제작하는 제5 단계; 및

상기 음각 스탬퍼를 금형으로 하여 상기 비대칭 곡률 마이크로렌즈가 양각된 도광판을 성형하는 제6 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 리플로우 공정를 이용한 도광판의 비대칭 곡률 마이크로렌즈 제조 방법.
제1항에 있어서,

상기 마스크는 필름 마스크 또는 크롬 마스크인 것을 특징으로 하는 반도체 리플로우 공정를 이용한 도광판의 비대칭 곡률 마이크로렌즈 제조 방법.
제1항에 있어서,

상기 마스크의 제2 영역들은 마스크 상의 일 방향 연장선상에 연속 또는 불연속 정렬되는 배열 형태를 이루되, 이웃하는 각 배열 간에는 적정거리가 유지되도록 하고, 상기 배열을 이루는 각각의 제2 영역들 중 일부는 크기를 달리하여 제작하는 것을 특징으로 하는 반도체 리플로우 공정을 이용한 도광판의 비대칭 곡률 마이크로렌즈 제조 방법.
제1항에 있어서,

상기 마스크의 제2 영역은 타원형으로 제작되는 것을 특징으로 하는 반도체 리플로우 공정을 이용한 도광판의 비대칭 곡률 마이크로렌즈 제조 방법.
제1항에 있어서,

상기 제5 단계는 비대칭 곡률 마이크로렌즈가 패턴으로 형성된 기판 상에 금속 박막을 코팅하는 단계와, 상기 금속 박막 상에 니켈 전기 도금을 수행하고 상기 니켈 전기 도금한 영역만을 분리시켜 스탬퍼를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 리플로우 공정을 이용한 도광판의 비대칭 곡률 마이크로렌즈 제조 방법.
제5항에 있어서,

상기 금속 박막 코팅은 크롬 코팅인 것을 특징으로 하는 반도체 리플로우 공정을 이용한 도광판의 비대칭 곡률 마이크로렌즈 제조 방법.
제6항에 있어서,

상기 금속 박막 코팅은 크롬을 코팅한 후, 금을 추가로 코팅하는 것을 특징으로 하는 반도체 리플로우 공정을 이용한 도광판의 비대칭 곡률 마이크로렌즈 제조 방법.
제1항에 있어서,

상기 음각 스탬퍼를 마스터로 하여, 상기 음각 스탬퍼의 비대칭 곡률 마이크로렌즈의 형상이 양각되도록 한 양각 스탬퍼를 제작하는 단계 및 상기 양각 스탬퍼를 금형으로 하여 비대칭 곡률 마이크로렌즈의 형상이 음각된 도광판을 성형하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 리플로우 공정을 이용한 도광판의 비대칭 곡률 마이크로렌즈 제조 방법.
제8항에 있어서,

상기 양각 스탬퍼는 음각 스탬퍼의 비대칭 곡률 마이크로렌즈 어레이 패턴 위에 니켈 도금을 실시한 후, 이를 분리시켜 제작하는 것을 특징으로 하는 반도체 리플로우 공정을 이용한 도광판의 비대칭 곡률 마이크로렌즈 제조 방법.
복수개의 마이크로렌즈가 형성되는 도광판에 있어서,

상기 도광판 상의 일 방향 연장선상으로 비대칭곡률 구조를 갖는 복수 개의 마이크로렌즈가 연속 또는 불연속 정렬되는 배열 형태를 이루되, 이웃하는 각 배열 간에는 적정거리가 유지되도록 하는 것을 특징으로 하는 비대칭곡률 마이크로렌즈를 갖는 도광판.
제 10항에 있어서,

상기 도광판에 형성되는 복수개의 비대칭곡률 마이크로렌즈들로 이루어진 배열들 중 어느 일부는 크기를 달리하거나 배열방향 및 형태를 달리하는 것을 특징으로 하는 비대칭곡률 마이크로렌즈를 갖는 도광판.
제 11항에 있어서,

상기 복수개의 비대칭곡률 마이크로렌즈들로 이루어진 배열들 중 어느 일부는 곡선형의 배열을 이루는 것을 특징으로 하는 비대칭곡률 마이크로렌즈를 갖는 도광판.