JP4911248B2 - 感光性樹脂組成物および感光性樹脂膜の製造方法 - Google Patents
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Description
上記一般式(2)中、R8は水素原子または炭素数1〜6の1価の炭化水素基を示す。tは1または2、vは0または1を示す。ただし、t+vは1または2である。
1100mm×960mmのクロム成膜基板に感光性樹脂組成物を乾燥後の膜厚が4μm、5μmまたは6μmとなるようにスリットコーター(東レエンジニアリング(株)製TSコーター)を用いて塗布した。塗布速度は50mm/秒とした。塗布後、真空チャンバーに投入し100秒間減圧乾燥を行った。100秒後のチャンバー内圧力が30Paとなるように調整した。減圧乾燥時のプロキシピンの高さは30mm、基板とチャンバー天板の間隔は6mmとした。この後、ホットプレートを用いて120℃で120秒間プリベークし感光性樹脂膜を得た。プリベーク時のプロキシピンの高さは0.5mmとした。
(1)の方法により得られた感光性樹脂膜をナトリウムランプ下で目視にて観察し、スリットノズル由来のスジ引き、減圧乾燥プロキシピン痕(VCDピン痕)、ホットプレートプロキシピン痕(HPピン痕)、モヤムラ、泡のそれぞれについて3段階評価した。明確に見えるものを1、僅かに見えるものを2、見えないものを3とした。
東レエンジニアリング(株)製膜厚測定装置FTMを用いて、(1)に記載の方法により作製した感光性樹脂膜の膜厚を測定した。測定箇所は、基板外周から各辺10mmずつ除外した残りの部分を100分割し、100箇所とした。膜厚均一性は次の式により算出した。3.5%以下のものが良好であり、より好ましくは3%以下である。
膜厚均一性(%)=[{(最大膜厚−最小膜厚)÷2}/膜厚平均値]×100 。
本発明の実施例および比較例に用いた有機溶媒の沸点は文献「CRC Handbook of Chemistry and Physics」および「Aldrich Handbook of Fine Chemical and Laboratory Equipment」から引用した。
本発明の実施例および比較例に用いた有機溶媒の粘度は、ウベローデ型粘度計を用いて20℃で測定した。また本発明の実施例および比較例の感光性樹脂組成物のワニスの粘度は、E型粘度計を用いて25℃で測定した。
2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン(セントラル硝子(株)製、BAHF)18.3g(0.05モル)をアセトン100mL、プロピレンオキシド(東京化成(株)製)17.4g(0.3モル)に溶解させ、−15℃に冷却した。ここに3−ニトロベンゾイルクロリド(東京化成(株)製)20.4g(0.11モル)をアセトン100mLに溶解させた溶液を滴下した。滴下終了後、−15℃で4時間撹拌し、その後室温に戻した。析出した白色固体を濾別し、50℃で真空乾燥した。
乾燥窒素気流下、TrisP−PA(商品名、本州化学工業(株)製)、21.22g(0.05モル)と5−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリド(東洋合成(株)製、NAC−5)26.8g(0.1モル)を1,4−ジオキサン450gに溶解させ、室温にした。ここに、1,4−ジオキサン50gと混合したトリエチルアミン12.65gを、系内が35℃以上にならないように滴下した。滴下後40℃で2時間撹拌した。トリエチルアミン塩を濾過し、濾液を水に投入した。その後、析出した沈殿を濾過で集め、さらに1%塩酸水1Lで洗浄した。その後、さらに水2Lで2回洗浄した。この沈殿を真空乾燥機で乾燥し、下記式で表されるキノンジアジド化合物を得た。
1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)エタン(本州化学工業(株)製、TrisP−HAP)103.2g(0.4モル)を、水酸化ナトリウム80g(2.0モル)を純水800gに溶解させた溶液に溶解させた。完全に溶解させた後、20〜25℃で36〜38重量%のホルマリン水溶液686gを2時間かけて滴下した。その後20〜25℃で17時間撹拌した。これに硫酸98gと水552gを加えて中和を行い、そのまま2日間放置した。放置後に溶液に生じた針状の白色結晶を濾過で集め、水100mLで洗浄した。この白色結晶を50℃で48時間真空乾燥した。乾燥した白色結晶を島津製作所(株)製の高速液体クロマトグラフィーで、カラムにODSを、展開溶媒にアセトニトリル/水=70/30を用い、254nmで分析したところ、出発原料は完全に消失し、純度92%であることがわかった。さらに、重溶媒にDMSO−d6を用いてNMR(日本電子(株)製、GX−270)により分析したところ、ヘキサメチロール化したTrisP−HAPであることがわかった。
乾燥窒素気流下、合成例1で得られたヒドロキシル基含有ジアミン51.3g(0.085モル)、1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン(SiDA、信越化学(株)製)1.24g(0.005モル)、3−アミノフェノール(東京化成(株)製)2.18g(0.02モル)をN−メチルピロリドン(NMP)200gに溶解した。ここに3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物(ODPA、マナック(株)製)31.0g(0.1モル)を加え、40℃で2時間撹拌した。その後、ジメチルホルムアミドジメチルアセタール(三菱レーヨン(株)製、DFA)7.14g(0.06モル)をNMP5gで希釈した溶液を10分間かけて滴下した。滴下後、40℃で2時間撹拌を続けた。撹拌終了後、溶液を水2Lに投入して、ポリマー固体の沈殿を濾過で集めた。さらに水2Lで3回洗浄を行い、集めたポリマー固体を50℃の真空乾燥機で72時間乾燥し、ポリイミド前駆体を得た。
実施例1のワニスを用いて、乾燥後の膜厚が5μmとなるようにスリット塗布により感光性樹脂膜を作製した。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引き、減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラ、泡はいずれも観察されず3であった。膜厚均一性は2.5%であった。
実施例1のワニスを用いて、乾燥後の膜厚が6μmとなるようにスリット塗布により感光性樹脂膜を作製した。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引き、減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラはいずれも観察されず3であった。泡は僅かに観察され2であった。膜厚均一性は2.9%であった。
溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテル(沸点120℃)68gとジエチレングリコールジメチルエーテル(沸点162℃、粘度1.17mPa・s)17gに変更した以外は実施例2と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は7.1mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引き、減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラはいずれも観察されず3であった。泡は僅かに観察され2であった。膜厚均一性は2.4%であった。
溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテル(沸点120℃)68gとジエチレングリコールジエチルエーテル(沸点189℃、粘度1.47mPa・s)17gに変更した以外は実施例2と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は7.6mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引き、減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラ、泡はいずれも観察されず3であった。膜厚均一性は2.9%であった。
実施例1で得られたポリイミド前駆体10g、合成例2で得られたキノンジアジド化合物2.5g、合成例3で得られたアルコキシメチル基含有化合物(A−1)1g、溶解調整剤としてTrisP−PHBA(本州化学工業(株)製)1.5g、界面活性剤としてBYK333(ビックケミー(株)製)0.04gをプロピレングリコールモノメチルエーテル(沸点120℃)59.5gとジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃、粘度1.27mPa・s)17gとγ−ブチロラクトン(沸点203℃、粘度1.90mPa・s)8.5gに加えて撹拌しポジ型感光性ポリイミド前駆体組成物のワニスを得た。ワニスの粘度は7.4mPa・sであった。得られたワニスを用いて、前記(1)に記載の方法で、乾燥後の膜厚が5μmとなるようにスリット塗布により感光性樹脂膜を作製した。
溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテル(沸点120℃)51gとジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃、粘度1.27mPa・s)34gに変更した以外は実施例2と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は6.8mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引き、泡はいずれも観察されず3であった。減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラは僅かに観測され2であった。膜厚均一性は3.5%であった。
溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテル(沸点120℃)51gとジエチレングリコールジメチルエーテル(沸点162℃、粘度1.17mPa・s)34gに変更した以外は実施例2と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は6.5mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引き、減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラはいずれも観察されず3であった。泡は僅かに観察され2であった。膜厚均一性は3.4%であった。
実施例9
溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテル(沸点120℃)51gとジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃、粘度1.27mPa・s)17gと、γ−ブチロラクトン(沸点203℃、粘度1.90mPa・s)17gに変更した以外は実施例2と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は7.3mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引き、減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラ、泡はいずれも観察されず3であった。膜厚均一性は2.9%であった。
溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテル(沸点120℃)76.5gとジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃、粘度1.27mPa・s)8.5gに変更した以外は実施例2と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は7.9mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引き、減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラはいずれも観察されず3であった。泡は僅かに観測され2であった。膜厚均一性は2.9%であった。
乾燥窒素気流下、BAHF18.3g(0.05モル)をNMP50g、グリシジルメチルエーテル26.4g(0.3モル)に溶解させ、溶液の温度を−15℃まで冷却した。ここにジフェニルエーテルジカルボン酸ジクロリド(日本農薬(株)製)7.4g(0.025モル)、イソフタル酸クロリド(東京化成(株)製)5.1g(0.025モル)をγ−ブチロラクトン(GBL)25gに溶解させた溶液を内部の温度が0℃を越えないように滴下した。滴下終了後、−15℃で6時間撹拌を続けた。反応終了後、メタノールを10重量%含んだ水3Lに溶液を投入して白色の沈殿を集めた。この沈殿を濾過で集めて、水で3回洗浄した後、50℃の真空乾燥機で72時間乾燥し、ポリベンゾオキサゾール前駆体を得た。
乾燥窒素気流下、BAHF32.9g(0.09モル)をNMP500gに溶解させた。ここにODPA31.0g(0.1モル)をNMP50gとともに加えて、30℃で2時間撹拌した。その後、3−アミノフェノール(東京化成(株)製)2.18g(0.02モル)を加え、40℃で2時間撹拌を続けた。さらにピリジン(東京化成(株)製)5gをトルエン(東京化成(株)製30g)に希釈して、溶液に加え、冷却管を付け系外に水をトルエンとともに共沸で除去しながら溶液の温度を120℃にして2時間、さらに180℃で2時間反応させた。この溶液の温度を室温まで低下させ、水3Lに溶液を投入し、白色の粉体を得た。この粉体を濾過で集め、さらに水で3回洗浄を行った。洗浄後、白色粉体を50℃の真空乾燥機で72時間乾燥させ、ポリイミドを得た。
実施例12で得られたポリイミド10g、合成例3で得られたアルコキシメチル基含有化合物(A−1)2.4g、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジメタクリレート(新中村化学工業(株)製、NKエステルBPE−100)2g、トリメチロールプロパントリアクリレート0.5g、1,2−オクタンジオン−1−[4−(フェニルチオ)−2−(O−ベンゾイルオキシム)](チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.1g、界面活性剤としてBYK333(ビックケミー(株)製)0.04gをプロピレングリコールモノメチルエーテル(沸点120℃)68gとジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃、粘度1.27mPa・s)17gに加えて撹拌しネガ型感光性ポリイミド組成物のワニスを得た。ワニスの粘度は7.9mPa・sであった。得られたワニスを用いて、前記(1)に記載の方法で、乾燥後の膜厚が5μmとなるようにスリット塗布により感光性樹脂膜を作製した。
実施例11で得られたポリベンゾオキサゾール前駆体10g、WPAG−314(商品名、和光純薬工業(株)製)0.5g、熱酸発生剤として5−プロピルスルホニルオキシイミノ−5H−チオフェン−2−メチルフェニル−アセトニトリル(商品名PAG−103、チバスペシャリティケミカルズ(株)製)0.5g、MW−30HM(三和ケミカル(株)製)4g、界面活性剤としてBYK333(ビックケミー(株)製)0.04gをプロピレングリコールモノメチルエーテル(沸点120℃)68gとジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃、粘度1.27mPa・s)17gに加えて撹拌しネガ型感光性ポリベンゾオキサゾール前駆体組成物のワニスを得た。ワニスの粘度は7.6mPa・sであった。得られたワニスを用いて、前記(1)に記載の方法で、乾燥後の膜厚が5μmとなるようにスリット塗布により感光性樹脂膜を作製した。
溶媒をエチレングリコールモノメチルエーテル(沸点124℃)68gとジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃、粘度1.27mPa・s)17gに変更した以外は実施例2と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は7.0mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引き、減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラ、泡はいずれも観察されず3であった。膜厚均一性は2.3%であった。
溶媒をエチレングリコールモノメチルエーテル(沸点124℃)51gとジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃、粘度1.27mPa・s)34gに変更した以外は実施例2と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は6.8mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引き、泡はいずれも観察されず3であった。減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラはわずかに観察され2であった。膜厚均一性は2.5%であった。
溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテル(沸点120℃)42.5gとジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃、粘度1.27mPa・s)42.5gに変更した以外は実施例2と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は6.6mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引き、泡はいずれも観察されず3であった。減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラはわずかに観察され2であった。膜厚均一性は3.3%であった。
溶媒をn-ブチルアルコール(沸点117℃)68gとジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃、粘度1.27mPa・s)17gに変更した以外は実施例2と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は7.6mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引き、減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラ、泡はいずれも観察されず3であった。膜厚均一性は3.5%であった。
溶媒をブチルアセテート(沸点125℃)51gとジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃、粘度1.27mPa・s)34gに変更した以外は実施例12と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は6.1mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引き、泡はいずれも観察されず3であった。減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラはわずかに観察され2であった。膜厚均一性は2.5%であった。
溶媒をイソブチルアルコール(沸点108℃)51gとジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃、粘度1.27mPa・s)34gに変更した以外は実施例12と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は6.7mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引き、泡はいずれも観察されず3であった。減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラはわずかに観察され2であった。膜厚均一性は2.7%であった。
溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテル(沸点120℃)68gと乳酸エチル(沸点154℃、粘度2.61mPa・s)17gに変更した以外は実施例1と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は10.2mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引き、減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラはいずれも観察されず3であった。泡は僅かに観察され2であった。膜厚均一性は4.1%であった。
比較例1のワニスを用いて、乾燥後の膜厚が5μmとなるようにスリット塗布により感光性樹脂膜を作製した。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引き、減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラはいずれも観察されず3であった。泡は明確に観察され1であった。膜厚均一性は6.4%であった。
比較例1のワニスを用いて、乾燥後の膜厚が6μmとなるようにスリット塗布により感光性樹脂膜を作製した。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引きは観察されず3、減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラはいずれも僅かに観察され2であった。泡は明確に観察され1であった。膜厚均一性は8.1%であった。
溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテル(沸点120℃)68gとN−メチル−2−ピロリドン(沸点204℃、粘度1.65mPa・s)17gに変更した以外は実施例2と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は9.5mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引きは観察されず3、減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラ、泡はいずれも僅かに観察され2であった。膜厚均一性は6.8%であった。
比較例5
溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテル(沸点120℃)59.5gとγ−ブチロラクトン(沸点203℃、粘度1.90mPa・s)25.5gに変更した以外は実施例2と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は9.2mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引きは観察されず3、減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラ、泡はいずれも僅かに観察され2であった。膜厚均一性は5.1%であった。
溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテル(沸点120℃)51gとγ−ブチロラクトン(沸点203℃、粘度1.90mPa・s)34gに変更した以外は実施例2と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は9.4mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引きは観察されず3、減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラ、泡はいずれも僅かに観察され2であった。膜厚均一性は5.3%であった。
溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテル(沸点120℃)76.5gとγ−ブチロラクトン(沸点203℃、粘度1.90mPa・s)8.5gに変更した以外は実施例2と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は8.3mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引き、減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕は観察されず3、モヤムラは僅かに観察され2、泡は明確に観察され1であった。膜厚均一性は6.6%であった。
溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテル(沸点120℃)25.5gとジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃、粘度1.27mPa・s)59.5gに変更した以外は実施例2と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は6.7mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引き、減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラ、泡はいずれも僅かに観察され2であった。膜厚均一性は4.0%であった。
溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテル(沸点120℃)25.5gとジエチレングリコールジエチルエーテル(沸点189℃、粘度1.47mPa・s)59.5gに変更した以外は実施例2と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は8.1mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引き、減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラ、泡はいずれも僅かに観察され2であった。膜厚均一性は4.3%であった。
溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテル(沸点120℃)68gとγ−ブチロラクトン(沸点203℃、粘度1.90mPa・s)17gに変更した以外は実施例11と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は8.1mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、スジ引きは観察されず3、減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕、モヤムラは僅かに観察され2、泡は明確に観察され1であった。膜厚均一性は5.5%であった。
溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(沸点146℃、1.18mPa・s)59.5gとエチレングリコールn−ブチルエーテルアセテート(沸点188℃、1.70mPa・s)25.5gに変更した以外は実施例1と同様にしてポジ型感光性ポリイミド前駆体組成物のワニスを作製した。ワニスには未溶解の樹脂分が残存し、塗布性評価はできなかった。
ブチルアセテート(沸点125℃)51.0gとアセチルアセトン(沸点141℃、粘度0.75mPa・s)34.0gに変更した以外は実施例1と同様にしてポジ型感光性ポリイミド前駆体組成物のワニスを作製した。ワニスには未溶解の樹脂分が残存し、塗布性評価はできなかった。
溶媒をブチルアセテート(沸点125℃)51.0gとアセチルアセトン(沸点141℃、粘度0.75mPa・s)34.0gに変更した以外は実施例12と同様にして感光性樹脂膜を作製した。ワニスの粘度は5.2mPa・sであった。得られた感光性樹脂膜の外観評価を行ったところ、減圧乾燥プロキシピン痕、ホットプレートプロキシピン痕は観察されず3、スジ引き、モヤムラは僅かに観察され2、泡は明確に観察され1であった。膜厚均一性は4.8%であった。
Claims (5)
- (a)ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリイミドの前駆体、および、ポリベンゾオキサゾールの前駆体から選択される少なくとも1種以上の樹脂、(b)感光剤、(c)大気圧下における沸点が100℃以上130℃以下の有機溶媒および(d)大気圧下における沸点が150℃以上で、20℃における粘度が1.1mPa・sより大きく1.5mPa・sより小さい有機溶媒を含有し、かつ(c)成分の含有量が有機溶媒全量に対して40重量%以上90重量%以下であり、(d)成分の含有量が有機溶媒全量に対して10重量%以上60重量%以下であることを特徴とする感光性樹脂組成物。
- 前記(d)成分が、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、およびジエチレングリコールジエチルエーテルから選択される少なくとも1種以上であることを特徴とする請求項1記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(d)成分の含有量が有機溶媒全量に対して10重量%以上20重量%以下であることを特徴とする請求項1記載の感光性樹脂組成物。
- (1)請求項1〜3のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を、スリットノズルを用いて基板に塗布し、塗布膜を形成する工程および(2)塗布膜を減圧乾燥する工程を含む感光性樹脂膜の製造方法。
- 請求項4記載の製造方法により得られる膜厚5μm以上10μm以下の感光性樹脂膜。
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