JP2008158281A - パターン形成方法およびそれに用いる感光性樹脂組成物 - Google Patents
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- G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
Abstract
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、感光剤、および混合溶媒を含んでなり、前記混合溶媒がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと20℃における蒸気圧が150Pa以下の共溶媒とを含んでなるものであることを特徴とする感光性樹脂組成物と、それを用いてスリットコーティング法により塗布することを含むパターン形成方法。
【選択図】なし
Description
形成された塗膜を減圧乾燥し、
引き続き加熱乾燥して、溶媒の少なくとも一部を蒸発させて除去し、
所望のパターンに像様露光し、
現像してパターンを形成させ、
現像後のパターンを加熱して硬化させる
ことを含んでなることを特徴とするものである。
重量平均分子量がポリスチレン換算で8,000のノボラック樹脂100重量部に対し感光剤として2,3,4,4‘−テトラヒドロキシベンゾフェノンと1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルクロライドとのエステル化物を25重量部、フッ素系界面活性剤、メガファックR−08(大日本インキ化学工業株式会社製ノニオン性界面活性剤)を全固形分に対し1000ppm添加し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとエチレングリコールn−ブチルエーテルアセテート(1気圧、20℃条件下での蒸気圧が20Pa)の混合溶媒(混合重量比が70:30)を加え撹拌後0.2μmのフィルターでろ過を行い本発明の感光性組成物を調整した。
溶解する溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとプロピレングリコールジアセテート(1気圧20℃条件下での蒸気圧が60Pa)の混合溶媒(混合重量比が60:40)に変更すること以外は、実施例1と同様に行い実施例2の感光性組成物を得た。
溶解する溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと3−エトキシエチルプロピオネート(1気圧20℃条件下での蒸気圧が93Pa)の混合溶媒(混合重量比が40:60)に変更すること以外は、実施例1と同様に行い実施例3の感光性組成物を得た。
溶解する溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとベンジルアルコール(1気圧20℃条件下での蒸気圧が13Pa)の混合溶媒(混合重量比が90:10)に変更すること以外は、実施例1と同様に行い実施例4の感光性組成物を得た。
溶解する溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとベンジルアルコール(1気圧20℃条件下での蒸気圧が13Pa)の混合溶媒(混合重量比が95:5)に変更すること以外は、実施例1と同様に行い実施例5の感光性組成物を得た。
溶解する溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとエチレングリコールn−ブチルエーテルアセテート(1気圧、20℃条件下での蒸気圧が20Pa)とベンジルアルコール(1気圧20℃条件下での蒸気圧が13Pa)の混合溶媒(混合重量比が80:15:5)に変更すること以外は、実施例1と同様に行い実施例6の感光性組成物を得た。
溶解する溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートのみに変更すること以外は、実施例1と同様に行い比較例1の感光性組成物を得た。
溶解する溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとn−ブチルアセテート(1気圧20℃条件下での蒸気圧が1000Pa)の混合溶媒(混合重量比が40:60)に変更すること以外は、実施例1と同様に行い比較例2の感光性組成物を得た。
溶解する溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとエチルラクテート(1気圧、20℃条件下での蒸気圧が279Pa)の混合溶媒(混合重量比が40:60)に変更すること以外は、実施例1と同様に行い比較例2の感光性組成物を得た。
溶解する溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとエチレングリコールエチルエーテルアセテート(1気圧20℃条件下での蒸気圧が160Pa)の混合溶媒(混合重量比が60:40)に変更すること以外は、実施例1と同様に行い比較例4の感光性組成物を得た。
溶解する溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとエチレングリコールエチルエーテルアセテート(1気圧20℃条件下での蒸気圧が160Pa)の混合溶媒(混合重量比が40:60)に変更すること以外は、実施例1と同様に行い比較例5の感光性組成物を得た。
120mm×200mmのCr付きガラス基板を用い小型スリットノズル(幅100mm)をCr付きガラス基板との距離を0.05mm離した状態でスリット塗布を行った。塗布速度は1秒間に100mmに設定し、塗布後真空オーブンに入れ40秒真空乾燥を行った。40秒後の真空圧は室温で約80Paに調整した。この後100℃、90秒間ホットプレートにてベーク後2.0μmのレジスト膜を得た。得られたレジスト膜をNaランプ下でウロコムラやスジムラの有無を観察して塗布ムラを評価した。塗布均一性はナノスペックM6500型光干渉膜厚測定器(ナノメトリクス・ジャパン株式会社製)で膜厚測定を行い評価した。これらは、劣るものを1、わずかに劣るものを2、優れたものを3として3段階で評価した。
上記塗布ムラと塗布均一性の確認と同様にスリットノズルを用い塗布後、真空乾燥オーブンにピンを立てその上にCr付きガラス基板を置き乾燥を行った。真空乾燥後100℃90秒間ホットプレートにて乾燥しNaランプ下で真空乾燥オーブンにあったピン跡の強弱を評価した。ピン跡が目立つものを1、ピン跡が僅かに認められるものを2、ピン跡が認められない優れたものを3として3段階評価した。
4インチシリコンウエハー上に少量適下後800回転で2秒回転し疑似スリット膜を得た。その後、真空オーブンに入れ40秒間真空乾燥を行った。40秒後の真空圧は室温で約80Paに調整した。この後100℃、90秒間ホットプレートにてベーク後2.0μmのレジスト膜を得た。このレジスト膜をニコン製g+h線ステッパー(FX−604F)にて露光し2.38重量%水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液で23℃、60秒間現像した。4.0μmマスク寸法の露光部、未露光の比率が1:1になる露光箇所をSEMにて観察を行った。図1は、その模式断面図である。その形状に応じて逆テーパー状である図1(a)に近いものを1、形状が若干よく、図1(b)に近いものを2、形状がテーパー状での優れたものであり、図1(c)に近いものを3として3段階評価した。
2 現像後のレジストパターン
Claims (7)
- アルカリ可溶性樹脂、感光剤、および混合溶媒を含んでなり、前記混合溶媒がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと1気圧20℃における蒸気圧が150Pa以下の共溶媒とを含んでなるものである感光性樹脂組成物をスリットコーティング法により基板上に塗布して塗膜を形成させ、
形成された塗膜を減圧乾燥し、
引き続き加熱乾燥して、溶媒の少なくとも一部を蒸発させて除去し、
所望のパターンに像様露光し、
現像してパターンを形成させ、
現像後のパターンを加熱して硬化させる
ことを含んでなることを特徴とする、パターン形成方法。 - 前記共溶媒が、ベンジルアルコール、エチレングリコールブチルエーテルアセテート、プロピレングリコール、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテル(アルキル基の炭素数が4〜5)、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル(アルキル基の炭素数が1〜5)、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル(アルキル基の炭素数が1〜5)ジエチレングリコールジアルキルエーテル(アルキル基の炭素数が2〜5)、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル(アルキル基の炭素数が1〜5)、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシ−3−メチルブチルアセテート、3−メトキシ−3−メチルブタノール、ブチルラクテートおよびそれらの混合物からなる群から選択されるものである、請求項1に記載のパターン形成方法。
- 前記共溶媒の含有量が、混合溶媒全体の重量を基準として5〜70重量%である、請求項1または2に記載のパターン形成方法。
- 界面活性剤をさらに含んでなる、請求項1〜3のいずれか1項に記載のパターン形成方法。
- 製造されたパターンが液晶ディスプレイの製造に用いられるものである、請求項1〜4のいずれか1項に記載のパターン形成方法。
- アルカリ可溶性樹脂、感光剤、および混合溶媒を含んでなり、前記混合溶媒がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと1気圧20℃における蒸気圧が150Pa以下の共溶媒とを含んでなるものであることを特徴とするスリットコーティング用感光性樹脂組成物。
- 塗布後、減圧乾燥に付される、請求項6に記載の感光性樹脂組成物。
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