JP4883383B2 - 中空状SiO2を含有する分散液、塗料組成物及び反射防止塗膜付き基材 - Google Patents
中空状SiO2を含有する分散液、塗料組成物及び反射防止塗膜付き基材 Download PDFInfo
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Description
〔1〕
中空状SiO2の1次微粒子(以下「中空状SiO21次粒子」という。)の凝集体からなる凝集体粒子(以下「中空状SiO2凝集体粒子」という。)が、分散媒体中に分散した中空状SiO2を含有する分散液であって、当該凝集体粒子の平均凝集粒子径が60〜400nmの範囲にあり、かつ、当該平均凝集粒子径は、当該SiO 2 の平均1次粒子径の1.5倍以上の範囲にあることを特徴とする中空状SiO2を含有する分散液。
前記中空状SiO2の1次微粒子の平均1次粒子径が5〜50nmの範囲にある〔1〕に記載の中空状SiO2を含有する分散液。
前記凝集体粒子は、前記中空状SiO21次微粒子が2〜10個集合した、非球形状の凝集体粒子である〔1〕又は〔2〕に記載の中空状SiO2を含有する分散液。
〔4〕
〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の中空状SiO2を含有する分散液を含む塗料組成物。
〔4〕に記載の塗料組成物にマトリックス成分の溶液を当該マトリックス成分の固形分質量が前記中空状SiO2の全固形分質量の0.1〜10倍の範囲で混合してなる塗料組成物。
前記マトリックス成分が金属酸化物の前駆物質、及び/又は有機樹脂からなる〔5〕に記載の塗料組成物。
前記金属酸化物がAl2O3、SiO2、SnO2、TiO2、及びZrO2より選ばれる1種または2種以上の混合物である〔6〕に記載の塗料組成物。
前記有機樹脂が紫外線硬化型有機樹脂である〔6〕に記載の塗料組成物。
〔9〕
〔4〕〜〔8〕のいずれかに記載の塗料組成物を基材に塗布して得られた反射防止塗膜付き基材。
前記塗料組成物がマトリックス成分を含み、当該マトリックス成分がSiO 2 、TiO 2 、若しくはポリメチルメタクリレートから成り、かつ、可視光波長領域において、反射率の最小値が2%以下であり、かつ反射率の最大値と最小値の差が1%以下である〔9〕に記載の反射防止塗膜付き基材。
前記基材が透明基材である〔9〕又は〔10〕に記載の反射防止塗膜付き基材。
本発明は、中空状SiO2凝集体粒子が、分散媒体中に分散した中空状SiO2を含有する分散液である。
本発明の中空状SiO2凝集体粒子は、一般的に、外殻がSiO2であるコア−シェル型微粒子の当該コアを除去することによって製造されることが好ましい。
コア粒子としては、熱、酸、または光によって溶解(又は分解、昇華)するものが好ましく使用され、例えば、界面活性剤ミセル、水溶性有機重合体、スチレン樹脂、アクリル樹脂等の熱分解性有機重合体微粒子;アルミン酸ナトリウム、炭酸カルシウム、塩基性炭酸亜鉛、酸化亜鉛等の酸溶解性無機微粒子;硫化亜鉛、硫化カドミウム等の金属カルコゲナイド半導体及び酸化亜鉛等の光溶解性無機微粒子等より選ばれる1種または2種以上の混合物を用いることができる。
この場合コア粒子の平均凝集粒子径は、得られる中空状SiO2凝集体粒子の大きさに影響し、50〜350nmであることが好ましい。50nm未満では、得られた中空状SiO2凝集体粒子からは彩度の低い反射防止膜が得られにくく、350nmを超えると、当該中空状SiO2凝集体粒子を配合した塗膜の透明性が不十分となる恐れがあるため好ましくない。
中空状SiO2凝集体粒子を得るには、まず初めに、外殻がSiO2であるコア−シェル型微粒子及び/又はコア−シェル型微粒子凝集体(クラスタ)を製造する。
すでに述べたように、ここで凝集体状のコア微粒子を用いた場合、対応するコア−シェル型微粒子の凝集体粒子を得ることができるので好ましい。
具体的には、ケイ酸としては、アルカリ金属ケイ酸塩を酸で分解した後、透析する方法、アルカリ金属ケイ酸塩を解膠する方法、アルカリ金属ケイ酸塩を酸型のカチオン交換樹脂と接触させる方法等によって得られるケイ酸;ケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のアルカリケイ酸塩、アンモニウムケイ酸塩、テトラエチルアンモニウム塩等の4級アンモニウム塩、エタノールアミン等のアミン類のケイ酸塩が挙げられる。
コア−シェル型微粒子分散液を製造する際、コアのZnO粒子等を分散させ、かつ、SiO2の前駆物質の分解反応が行われる分散媒体としては、特に限定するものではなく、例えば、水;メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、sec−ブタノール、t−ブタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、1,4−ブタンジオール、シクロペンタノール、シロクペンタンジオール、シクロヘキサノール等のアルコール類;
グライム、ジグライム、イソプロピルエーテル、イソブチルエーテル、メチルイソプロピルエーテル、アニソール、テトラハイドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類;
ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄化合物類等が好ましいものとして挙げられる。
次に、コア−シェル型微粒子のコア微粒子を溶解又は分解させることによって中空状SiO2の粒子が得られる。
酸性カチオン交換樹脂としては、カルボン酸基を有するポリアクリル樹脂系またはポリメタクリル樹脂系のものでもよいが、より強酸性であるスルホン酸基を有するポリスチレン系のものがより好ましい。
以上のようにして得られた本発明における中空状SiO2凝集体粒子(クラスタ)は、すでに述べたように、中空状SiO2の1次微粒子が複数又は多数結合して凝集体粒子を構成し、これが分散媒体中に分散しているものである。当該凝集体粒子の平均粒子径は、その平均1次粒子径の1.5倍以上、好ましくは3倍以上、さらに好ましくは10倍以上、30倍以下である。
また前記凝集体粒子は、前記中空状SiO21次微粒子が2〜10個集合した、非球形状の凝集体粒子であるものが好ましい。
当該中空状SiO2凝集体粒子の分散液中における平均凝集粒子径は、60〜400nmの範囲であり、60〜200nmであることが好ましい。60nm未満では彩度の低い反射防止膜が得られにくく、400nmを超えると塗膜の透明性が不十分となるため、好ましくない。
以上のごとくして得られた、本発明の分散媒体に中空状SiO2が分散した、中空状SiO2を含有する分散液は、これをそのまま、又はマトリックス成分や塗料組成物を形成する場合の通常の配合剤を加えて、塗料組成物を形成することができる。
金属酸化物としてはAl2O3、SiO2、SnO2、TiO2、ZrO2より選ばれる1種または2種以上の混合物が挙げられ、その前駆物質としては、当該金属の金属アルコキサイド及び/又はその加水分解重縮合物等が挙げられ、有機樹脂としては、紫外線硬化型有機樹脂が好ましいものとして挙げられる。例えば、具体的には、アクリル樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂等より選ばれる1種または2種以上の混合物が挙げられる。
本発明の塗料組成物においては、基材への濡れ性を向上させるために界面活性剤を含んでもよく、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤のいずれのものも使用できる。界面活性剤としては、−CH2CH2O−、−SO2−、−NR−(Rは水素原子又は有機基)、−NH2−、−SO3Y、−COOY(Yは水素原子、ナトリウム原子、カリウム原子又はアンモニウムイオン)の構造単位を有するノニオン性界面活性剤が好ましい。なかでも、塗料組成物の保存安定性を損なうおそれのないことから、−CH2CH2O−の構造単位をもつノニオン系の界面活性剤が特に好ましい。
本発明による塗料組成物の溶媒は、中空状SiO2を含有する分散液の分散媒体である上記水及びアルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、グリコールエーテル類、含窒素化合物類、含硫黄化合物類等の有機溶媒を用いることができる。
本発明においては、中空状SiO2を含有する分散液を含む上記塗料組成物を基材上に塗布、乾燥することにより反射防止用塗膜、すなわち低折率性塗膜を形成することができる。
本発明の塗料組成物を塗布する基材は、目的に応じて任意のものが使用可能であり、特に限定するものではない。例えば特に反射防止用塗膜形成を目的とする場合は、基材は透明又は不透明のどちらでもよいが、透明な基材であることがより好ましく、例えばガラス、有機樹脂基材が挙げられる。基材の形状は、板状でもフィルム状であってもよく、また、基材の形状は平板に限らず、全面又は一部に曲率を有していてもよい。
本発明の塗料組成物は、それ自身公知の方法で塗布することができる。例えば、はけ塗り、ローラー塗布、手塗り、刷毛塗り、ディッピング、回転塗布、浸漬塗布、各種印刷方式による塗布、カーテンフロー、バーコート、ダイコート、グラビアコート、マイクログラビアコート、リバースコート、ロールコート、フローコート、スプレーコート、ディップコート等が挙げられる。
〔例1〕(粒子=中空状SiO2凝集体粒子、マトリックス=SiO2、基材=ガラスの場合)
(1)容量200mlのガラス製反応容器に、エタノール60g、ZnO微粒子クラスタ水分散液(境化学工業社製、製品名:NANOFINE−50、平均1次粒子径20nm、平均凝集粒子径100nm、固形分濃度10質量%)30g、テトラエトキシシラン(SiO2換算固形分濃度29質量%)10gを加えた後、アンモニア水溶液を添加し、pH=10として、20℃で6時間撹拌して、コア−シェル型微粒子分散液(固形分濃度6質量%)の100gを得た。
(A)中空状SiO2凝集体粒子
当該中空状SiO2凝集体粒子に関し、以下の評価を行った。評価結果は表1に示す。
(i)中空状SiO21次粒子の平均1次粒子径、形態及びコアの残存は透過型電子顕微鏡(日立社製、型式:H−9000)により観察した。
(ii)中空状SiO2凝集体粒子の平均凝集粒子径は、動的光散乱法粒度分析計(日機装社製、型式:マイクロトラックUPA)により測定した。
当該塗料組成物を、エタノール拭きした基板(100mm×100mm、厚さ3.5mm)(なお、基板の屈折率は、ガラス基板の場合、1.52、PMMA基板の場合、1.58とした。)上に塗布し、回転数200rpmで60秒間スピンコートして均一化した後、200℃で10分間乾燥し、厚さ100nmの塗膜を形成し、これを測定サンプルとした。塗膜の形成されたサンプルについて以下の評価を行った。結果を表2に示した。
(ii)外観評価として、得られる塗膜の塗布ムラを目視により判断した。塗布ムラがなく外観上良好なものを○、塗布ムラがあり実用的でないものを×として評価した。
(iv) 耐磨耗性評価として、サンプルの塗膜表面を、テーパー摩耗試験機で100回往復磨耗した後、塗膜の剥離状況を肉眼で観察した。塗膜が全く剥がれない場合を○、一部が剥がるものの半分以上の面積が残っている場合を△、半分を超えて剥離する場合を×とした。
(1)例1と同様にして操作を行い、中空状SiO2凝集体粒子の分散液(平均凝集粒子径100nm、固形分濃度3質量%)100gを得た。また当該中空状SiO21次粒子の外殻の厚みは10nm、空孔径は20nmであった。この中空状SiO2を含有する分散液の粒子測定結果を表1に示す。
(1)例1と同様にして操作を行い、中空状SiO2凝集体粒子を含有する分散液(平均凝集粒子径100nm、固形分濃度3質量%)100gを得た。また当該中空状SiO21次粒子の外殻の厚みは10nm、空孔径は20nmであった。この中空状SiO2を含有する分散液の測定結果を表1に示す。
(1)容量200mlのガラス製反応容器に、SiO2微粒子分散液(触媒化成社製、商品名:SI−550、平均粒径5nm、SiO2 濃度20質量%、水溶媒)1g、水19gを加え、混合して80℃に加熱した。
当該塗膜は特に反射率の最大値が高かった。これはコア微粒子は完全に溶解せず、残存していることが透過型顕微鏡により観察されたことより、十分な反射防止性能が得られなかったためと考えられる。
この塗料組成物について、例1と同様にして当該基板上に塗膜を形成し、さらに紫外線を10分間照射して塗膜を硬化させた。これを評価した。結果を表2に示す。
Claims (11)
- 中空状SiO2の1次微粒子の凝集体からなる凝集体粒子が、分散媒体中に分散した中空状SiO2を含有する分散液であって、当該凝集体粒子の平均凝集粒子径が60〜400nmの範囲にあり、かつ、当該平均凝集粒子径は、当該SiO2の平均1次粒子径の1.5倍以上の範囲にあることを特徴とする中空状SiO 2 を含有する分散液。
- 前記中空状SiO2の1次微粒子の平均1次粒子径が5〜50nmの範囲にある請求項1に記載の中空状SiO2を含有する分散液。
- 前記凝集体粒子は、前記中空状SiO21次微粒子が2〜10個集合した、非球形状の凝集体粒子である請求項1又は2に記載の中空状SiO2を含有する分散液。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の中空状SiO2を含有する分散液を含む塗料組成物。
- 請求項4に記載の塗料組成物にマトリックス成分の溶液を当該マトリックス成分の固形分質量が前記中空状SiO2の全固形分質量の0.1〜10倍の範囲で混合してなる塗料組成物。
- 前記マトリックス成分が金属酸化物の前駆物質、及び/又は有機樹脂からなる請求項5に記載の塗料組成物。
- 前記金属酸化物がAl2O3、SiO2、SnO2、TiO2、及びZrO2より選ばれる1種または2種以上の混合物である請求項6に記載の塗料組成物。
- 前記有機樹脂が紫外線硬化型有機樹脂である請求項6に記載の塗料組成物。
- 請求項4〜8のいずれかに記載の塗料組成物を基材に塗布して得られた反射防止塗膜付き基材。
- 前記塗料組成物がマトリックス成分を含み、当該マトリックス成分がSiO 2 、TiO 2 、若しくはポリメチルメタクリレートから成り、かつ、可視光波長領域において、反射率の最小値が2%以下であり、かつ反射率の最大値と最小値の差が1%以下である請求項9に記載の反射防止塗膜付き基材。
- 前記基材が透明基材である請求項9又は10に記載の反射防止塗膜付き基材。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005162487A JP4883383B2 (ja) | 2005-06-02 | 2005-06-02 | 中空状SiO2を含有する分散液、塗料組成物及び反射防止塗膜付き基材 |
EP06729565.9A EP1887059B1 (en) | 2005-06-02 | 2006-03-20 | DISPERSION CONTAINING HOLLOW SiO2, COATING COMPOSITION, AND SUBSTRATE WITH ANTIREFLECTION COATING FILM |
PCT/JP2006/305597 WO2006129411A1 (ja) | 2005-06-02 | 2006-03-20 | 中空状SiO2を含有する分散液、塗料組成物及び反射防止塗膜付き基材 |
CN2006800190391A CN101184815B (zh) | 2005-06-02 | 2006-03-20 | 含有中空状SiO2的分散液、涂料组合物及带防反射涂膜的基材 |
TW095112489A TW200704590A (en) | 2005-06-02 | 2006-04-07 | Dispersion containing hollow SiO2, coating composition, and substrate with antireflection coating film |
US11/947,848 US20080124539A1 (en) | 2005-06-02 | 2007-11-30 | Dispersion containing hollow sio2, coating composition and substrate with antireflection coating film |
HK08109359.8A HK1118304A1 (en) | 2005-06-02 | 2008-08-21 | Dispersion containing hollow sio2, coating composition, and substrate with antireflection coating film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005162487A JP4883383B2 (ja) | 2005-06-02 | 2005-06-02 | 中空状SiO2を含有する分散液、塗料組成物及び反射防止塗膜付き基材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006335881A JP2006335881A (ja) | 2006-12-14 |
JP4883383B2 true JP4883383B2 (ja) | 2012-02-22 |
Family
ID=37481344
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005162487A Expired - Fee Related JP4883383B2 (ja) | 2005-06-02 | 2005-06-02 | 中空状SiO2を含有する分散液、塗料組成物及び反射防止塗膜付き基材 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080124539A1 (ja) |
EP (1) | EP1887059B1 (ja) |
JP (1) | JP4883383B2 (ja) |
CN (1) | CN101184815B (ja) |
HK (1) | HK1118304A1 (ja) |
TW (1) | TW200704590A (ja) |
WO (1) | WO2006129411A1 (ja) |
Families Citing this family (43)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4872739B2 (ja) * | 2006-03-23 | 2012-02-08 | 住友化学株式会社 | 積層体の製造方法 |
JP5370147B2 (ja) | 2007-03-16 | 2013-12-18 | 旭硝子株式会社 | 中空微粒子、その製造方法、塗料組成物および塗膜が形成された物品 |
ES2384126T3 (es) * | 2007-03-16 | 2012-06-29 | Asahi Glass Company, Limited | Micropartículas huecas, método para la producción de las mismas, composición de revestimiento y artículo sobre el que se ha formado una película de revestimiento |
JP2008233290A (ja) * | 2007-03-19 | 2008-10-02 | Mitsubishi Plastics Ind Ltd | 反射フィルム及び反射板 |
JP5457179B2 (ja) * | 2007-06-26 | 2014-04-02 | 電気化学工業株式会社 | 中空粒子の製造方法 |
JP5423945B2 (ja) * | 2007-08-22 | 2014-02-19 | Jsr株式会社 | シリカ系中空粒子分散体の製造方法 |
JP5284632B2 (ja) * | 2007-12-12 | 2013-09-11 | 日揮触媒化成株式会社 | 導電性繊維状中空シリカ微粒子分散質およびその製造方法 |
US8936833B2 (en) | 2008-02-29 | 2015-01-20 | The University Of Houston System | Anti-reflection coatings and methods of preparing and using same |
CN101959822A (zh) * | 2008-02-29 | 2011-01-26 | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 | 含有涂层的制品 |
US20090233105A1 (en) * | 2008-03-13 | 2009-09-17 | Remington Jr Michael P | Composite coatings comprising hollow and/or shell like metal oxide particles deposited via combustion deposition |
US8795773B2 (en) | 2008-03-13 | 2014-08-05 | Guardian Industries Corp. | Nano-particle loaded metal oxide matrix coatings deposited via combustion deposition |
CN101579672A (zh) * | 2008-05-16 | 2009-11-18 | 3M创新有限公司 | 用于提高亲水性/透射率的二氧化硅涂层 |
CN102046522A (zh) * | 2008-06-03 | 2011-05-04 | 旭硝子株式会社 | 核—壳粒子的制造方法、核—壳粒子、中空粒子的制造方法、涂料组合物及物品 |
US20100035039A1 (en) * | 2008-08-07 | 2010-02-11 | 3M Innovative Properties Company | Acicular silica coating for enhanced hydrophilicity/transmittivity |
US8153249B2 (en) * | 2008-08-26 | 2012-04-10 | Snu R&Db Foundation | Article treated with silica particles and method for treating a surface of the article |
CN101722691B (zh) * | 2008-10-23 | 2014-04-16 | 大日本印刷株式会社 | 硬涂膜及硬涂层用固化性树脂组合物 |
JP5387331B2 (ja) * | 2008-10-31 | 2014-01-15 | 日立化成株式会社 | 中空状無機粒子の前駆体、中空状無機粒子及びこの製造方法、並びに中空状無機粒子を用いた光学部材及び光学部材体 |
JP5434928B2 (ja) * | 2008-10-31 | 2014-03-05 | 旭硝子株式会社 | 中空粒子、その製造方法、塗料組成物および物品 |
JP5387330B2 (ja) * | 2008-10-31 | 2014-01-15 | 日立化成株式会社 | 中空状無機粒子の前駆体、中空状無機粒子及びこの製造方法、並びに中空状無機粒子を用いた光学部材及び光学部材体 |
DE102008056792B4 (de) * | 2008-11-11 | 2018-06-28 | Schott Ag | Verfahren zum Aufbringen einer porösen selbstreinigenden Entspiegelungsschicht sowie Glas mit dieser Entspiegelungsschicht und Verwendung einer selbstreinigenden porösen Entspiegelungsschicht |
KR20100069799A (ko) * | 2008-12-17 | 2010-06-25 | 삼성코닝정밀소재 주식회사 | 모아레 무늬 저감 및 공기 오염물질 제거가 가능한 디스플레이 장치용 필터 |
JP5339627B2 (ja) * | 2009-02-17 | 2013-11-13 | 国立大学法人 名古屋工業大学 | 低密度シリカ殻からなるナノ中空粒子及びその製造方法 |
CN101941001B (zh) | 2009-07-03 | 2014-04-02 | 3M创新有限公司 | 亲水涂层、制品、涂料组合物和方法 |
CA2773258A1 (en) * | 2009-09-07 | 2011-03-10 | Asahi Glass Company, Limited | Article having low-reflection film on surface of base material |
EP2490827A4 (en) * | 2009-10-24 | 2014-06-18 | 3M Innovative Properties Co | PROCESS FOR AN ARTICLE WITH WASTE NANOHOLE ROOMS |
CN102241899B (zh) | 2010-05-11 | 2014-05-14 | 3M创新有限公司 | 涂料组合物,改性基体表面的方法和制品 |
JP5742519B2 (ja) * | 2010-07-06 | 2015-07-01 | 三菱化学株式会社 | セラミックス多孔質体 |
EP2592119B1 (en) * | 2010-07-08 | 2016-04-13 | LG Chem, Ltd. | Antireflection film and method for manufacturing same |
JP2012063687A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止フィルム、反射防止性偏光板、及び透過型液晶ディスプレイ |
CN102675932A (zh) * | 2011-03-07 | 2012-09-19 | 深圳市优纳科技有限公司 | 复合介孔隔热保温涂料 |
US9310527B2 (en) * | 2011-03-09 | 2016-04-12 | 3M Innovative Properties Company | Antireflective film comprising large particle size fumed silica |
KR101884961B1 (ko) * | 2011-04-01 | 2018-08-02 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 저반사막을 구비한 유리판 |
CN102749666B (zh) * | 2011-04-20 | 2015-04-01 | 国家纳米科学中心 | 一种减反射涂层的制备方法 |
JP2012240864A (ja) * | 2011-05-17 | 2012-12-10 | Konica Minolta Holdings Inc | 中空粒子、赤外線反射フィルム及び赤外線反射体 |
CN102838889B (zh) * | 2011-06-21 | 2015-06-24 | 国家纳米科学中心 | 一种可见光全波段多层减反射涂层的制备方法 |
US20130148205A1 (en) * | 2011-12-12 | 2013-06-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of producing antireflection film |
US10281616B2 (en) * | 2012-03-30 | 2019-05-07 | Applied Materials, Inc. | Transparent body for use in a touch panel having structured transparent conductive film directly between first and second transparent layer stacks, method of making, and apparatus for making |
CN104671672B (zh) * | 2013-11-26 | 2017-06-06 | 比亚迪股份有限公司 | 一种减反射镀膜液及其制备方法、光伏玻璃及其制备方法、太阳能电池组件 |
JP6459489B2 (ja) | 2014-03-11 | 2019-01-30 | 三菱マテリアル株式会社 | シリカ多孔質膜形成用液組成物及びその液組成物から形成されたシリカ多孔質膜 |
CN103951282B (zh) * | 2014-04-03 | 2017-02-01 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种基于杂化溶胶的折射率渐变薄膜及其制备方法 |
CN105273622B (zh) * | 2014-05-30 | 2018-12-04 | 三菱综合材料株式会社 | 低折射率膜形成用组合物及其制法、低折射率膜的形成法 |
WO2019167414A1 (ja) * | 2018-02-28 | 2019-09-06 | 富士フイルム株式会社 | 水性コート材、膜及びその製造方法、積層体及びその製造方法、並びに、水性コート材キット |
CN114213948A (zh) * | 2021-12-20 | 2022-03-22 | 江南大学 | 一种含有中空SiO2@TiO2微球的光固化水性聚氨酯隔热涂料的制备方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4046921B2 (ja) * | 2000-02-24 | 2008-02-13 | 触媒化成工業株式会社 | シリカ系微粒子、該微粒子分散液の製造方法、および被膜付基材 |
DE10049803A1 (de) * | 2000-10-09 | 2002-04-18 | Bayer Ag | Kompositpartikel |
JP4911814B2 (ja) * | 2000-11-22 | 2012-04-04 | 日揮触媒化成株式会社 | 球状多孔質粒子およびその製造方法 |
AUPR725701A0 (en) * | 2001-08-24 | 2001-09-20 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Functionalised nanoparticle concentrates |
JP4107050B2 (ja) * | 2001-10-25 | 2008-06-25 | 松下電工株式会社 | コーティング材組成物及びそれにより形成された被膜を有する物品 |
JP2003202406A (ja) * | 2001-10-25 | 2003-07-18 | Matsushita Electric Works Ltd | 反射防止フィルム及びディスプレイ装置 |
WO2003035780A1 (fr) * | 2001-10-25 | 2003-05-01 | Matsushita Electric Works, Ltd. | Composition de materiau de revetement et article dote d'un film de revetement forme avec cette derniere |
JP4278020B2 (ja) * | 2001-10-30 | 2009-06-10 | 日揮触媒化成株式会社 | 研磨用粒子および研磨材の製造方法 |
JP2003200033A (ja) * | 2002-01-09 | 2003-07-15 | Hitachi Chem Co Ltd | 中空微粒子集合体の製造方法及びそれにより得られた中空微粒子集合体 |
JP2003298087A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-17 | Matsushita Electric Works Ltd | 太陽電池システム |
EP1539378A2 (en) * | 2002-09-19 | 2005-06-15 | Optimax Technology Corp. | Antiglare and antireflection coatings of surface active nanoparticles |
JP4048912B2 (ja) * | 2002-10-22 | 2008-02-20 | 松下電工株式会社 | 表面防汚性複合樹脂フィルム、表面防汚性物品、化粧板 |
JP4309744B2 (ja) * | 2002-11-07 | 2009-08-05 | パナソニック電工株式会社 | フッ素系複合樹脂フィルム及び太陽電池 |
KR101163539B1 (ko) * | 2003-11-06 | 2012-07-06 | 니끼 쇼꾸바이 카세이 가부시키가이샤 | 체인 무기 산화물 미립자 그룹, 미립자 그룹 분산의제조방법 및 미립자 그룹의 이용 |
TWI388876B (zh) * | 2003-12-26 | 2013-03-11 | Fujifilm Corp | 抗反射膜、偏光板,其製造方法,液晶顯示元件,液晶顯示裝置,及影像顯示裝置 |
-
2005
- 2005-06-02 JP JP2005162487A patent/JP4883383B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-03-20 CN CN2006800190391A patent/CN101184815B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-03-20 EP EP06729565.9A patent/EP1887059B1/en not_active Not-in-force
- 2006-03-20 WO PCT/JP2006/305597 patent/WO2006129411A1/ja active Application Filing
- 2006-04-07 TW TW095112489A patent/TW200704590A/zh unknown
-
2007
- 2007-11-30 US US11/947,848 patent/US20080124539A1/en not_active Abandoned
-
2008
- 2008-08-21 HK HK08109359.8A patent/HK1118304A1/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101184815A (zh) | 2008-05-21 |
WO2006129411A1 (ja) | 2006-12-07 |
CN101184815B (zh) | 2010-12-08 |
EP1887059A4 (en) | 2008-12-17 |
EP1887059B1 (en) | 2014-01-08 |
TW200704590A (en) | 2007-02-01 |
EP1887059A1 (en) | 2008-02-13 |
HK1118304A1 (en) | 2009-02-06 |
JP2006335881A (ja) | 2006-12-14 |
US20080124539A1 (en) | 2008-05-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080423 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110729 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110922 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111111 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111124 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141216 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4883383 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141216 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |