JP4723714B2 - 半導体集積回路装置およびその検査方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体記憶装置に係わり、特にヒューズブローによるチップ内部タイミングの微調整や、リダンダンシ置換を行う際の手法、及び回路構成に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、半導体製造プロセスの微細化やシステムクロックの高速化に伴う半導体記憶装置の高速化により、回路内の動作マージンが少なくなり回路動作の最適化が大変困難になってきている。
【0003】
また、製造プロセスの複雑化によるプロセス変動の影響でトランジスタや抵抗の特性が設計当初の狙い目から外れてしまうことも回路動作の最適化を更に困難にしている。
【0004】
回路動作の最適化や歩留まり向上のため、通常はこのようなプロセス変動による影響等を考慮し回路特性をトリミングするためのヒューズセットや、行列アドレスのリダンダンシ置換のためのヒューズセットがチップ内に設けてある。
【0005】
フェーズに関して、これまでは、レーザ光線でポリシリコンやメタルなどのヒューズをブローするレーザヒューズが一般的であったが、レーザヒューズでは、チップをパッケージに封入後にトリミングできないことから、近年ではパッケージ封入後でも電気的にヒューズをブローできるエレクトリックヒューズがチップ内に設けられつつある。
【0006】
図15は、上記半導体記憶装置の典型的な構成を示すブロック図である。
【0007】
図15に示すように、半導体記憶装置は、総数n本のヒューズを含み、回路特性トリミング用のヒューズデータF<n>を出力するヒューズセットブロック(Fuse Block)1と、チップ内部の動作を制御する内部クロックCLK_P/CLK_O/CLK_Iの生成タイミングを、ヒューズデータF<n>により最適値にトリミングすることができるクロック生成回路(Control Clock Generator)2と、クロック生成回路2から生成される内部クロックCLK_P/CLK_O/CLK_Iにより制御される周辺回路3と、データ出力バッファ(Data Out Buffer)とデータ入力バッファ(Data In Buffer)との2回路からなるI/O回路4と、内部クロックにより制御されるこれら2つの回路3、4によってデータの読み書きが制御されるメモリセルアレイ5とを有する。
【0008】
図15に示す装置において、クロック生成回路2から生成される内部クロックCLK_P/CLK_O/CLK_Iは、それぞれ周辺回路3、I/O回路4内のデータ出力バッファ、およびデータ入力バッファを制御するための内部クロックである。
【0009】
周辺回路3は、内部クロックCLK_Pに同期して動作しているため、このクロックCLK_Pの生成タイミングを変えることで、周辺回路3内の動作タイミングを任意に変えることができる。
【0010】
データ出力バッファは、内部クロックCLK_Oの立ち上がりエッジ、あるいは立ち下がりエッジ、あるいは両エッジに同期してメモリセルアレイからデータをチップ外部に読み出すための回路であり、このクロックCLK_Oの生成タイミングを変えることで、データ出力のタイミングを任意に調整することができる。
【0011】
また、データ入力バッファは、内部クロックCLK_Iの立ち上がりエッジ、あるいは立ち下がりエッジ、あるいは両エッジに同期してメモリセルアレイに書き込むデータをチップ内部に取り込むための回路であり、このクロックCLK_Iの生成タイミングを変えることで、データ入力のタイミングを任意に調整することができる。
【0012】
次に、データ入力タイミングのトリミングの場合を例にして全体動作について説明する。
【0013】
図16Aは外部クロックCLKとデータDQとの関係を示す図、図16Bは内部クロックCLK_Iと入力データD_INとの関係(トリミング前)を示す図、図16Cは内部クロックCLK_Iと入力データD_INとの関係(トリミング後)を示す図である。
【0014】
図16Aに示すように、メモリセルアレイへの書き込みデータは、外部クロックCLKの立ち上がり、立ち下がりの両エッジに同期させ、DQ PADから入力される。このとき、データは、クロックに対して、データ入力バッファの回路動作マージンが最大となるようなタイミングで入力される。つまり、クロックの周期をTとするならば、ある入力データのクロックに対してのセットアップ時間Tsとホールド時間Thが共にT/4になるタイミングでデータを入力している。
【0015】
このようにチップ外部では、クロックとデータとの関係が最適となっているのだが、実際のチップ内部では、このような理想的な関係とはなっていないのが実状である。なぜなら、プロセス変動やチップ内部のLCRの影響などによって、内部クロックCLK_Iの発生タイミングにズレが生じてしまうからである。
【0016】
今、内部クロックCLK_Iのタイミングが上記のような要因で+Δtずれてしまっている、とする。この場合、図16Bに示すように、チップ内部データD_INに対するデータ入力のセットアップ時間TsiはT/4+Δtとなり、回路動作マージンが広がるが、データ入力のホールド時間ThiはT/4−Δtとなり、回路動作マージンは先程とは異なり小さくなってしまう。
【0017】
このような回路動作マージンの不均衡を修正するために、−Δtだけ内部クロックCLK_Iの発生タイミングを速めるヒューズをブローすることで、内部クロックCLK_Iのトリミングを行い、図16Cに示すように、内部タイミングを外部タイミングと揃え、回路動作の最適化を行う。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、実チップではプロセス変動の影響を受けているため、同一ヒューズをブローした場合でもトリミング値は必ずしも同一で無いと言うのが実状である。
【0019】
したがって、上記のようなヒューズブローによるトリミング手法は、ヒューズブローによるトリミングの効果、つまりブローしたヒューズが本当にそのチップに対して最適だったのかの判断は実際にヒューズをブローしてみなければ解らないという問題を抱えている。よって、時にはトリミング量が足りなかったり、超過気味だったりする場合も生じてしまう。
【0020】
つまり、従来技術のヒューズブローによるトリミングを行う手法では、そのチップに対して最適なトリミングを行うことが非常に困難である、という事情がある。
【0021】
また、チップのパッケージ封入前に行うレーザヒューズブローによる手法においては、そのヒューズが正しくブローされているか否かについては容易に確認できるが、チップのパッケージ封入後にエレクトリックヒューズを用いる場合では、そのヒューズが正しくブローされているか判断する手段がなく、実際にそのチップをテストしてみなければ解らないという事情も抱えている。
【0022】
以上は、クロック生成タイミングのトリミングに関しての事情であるが、行列アドレスのリダンダンシ置換の場合についても同様である。
【0023】
一般にリダンダンシによる行列アドレスの置換においては、ヒューズブローする前に、置換しようとする行列アドレスで決まるリダンダンシアレイのテストを行い、その結果に基づき、リダンダンシ置換を行っている。
【0024】
このリダンダンシセルテストは、あくまでそのセルが有効か否かをテストするためのものであり、実際のテストと同一タイミングでチップを動作させてテストしているわけではない。
【0025】
したがって、リダンダンシ置換後にテストしてみたらタイミングなどのミスマッチで動作しないという場合が生じてしまう場合がある。
【0026】
このような事情も、上記クロック生成タイミングのトリミングの場合と同様に、現状のヒューズブローによるトリミングやリダンダンシ置換の手法では、実際にヒューズをブローして見なければ、ヒューズブロー後のチップの状態を判断できないという事情に起因する。
【0027】
この発明は、上記の事情に鑑み為されたもので、その目的は、実際にヒューズをブローしなくても、ヒューズブロー後のチップの状態を判断できる半導体集積回路装置を提供することにある。
【0028】
また、他の目的は、歩留りを、さらに向上させることが可能な半導体集積回路装置の検査方法を提供することにある。
【0029】
【課題を解決するための手段】
本発明の第1態様に係る半導体集積回路装置は、複数のアドレス信号により選択される複数のメモリセルで構成されるメモリセルアレイと、外部クロック信号を受けて、複数の内部クロック信号を生成するクロック生成回路と、前記クロック生成回路で生成された第1のクロック信号に同期して、外部コマンド信号を取り込み、演算して、前記複数のアドレス信号、および複数の内部制御信号を発生する周辺回路と、前記クロック生成回路で生成された第2のクロック信号に同期して、外部データ信号を取り込み、内部データ信号線に転送する、および前記クロック生成回路で生成された第3のクロック信号に同期して、内部データ信号を取り込み、外部データ信号線に転送するI/O回路と、プログラム可能なヒューズ素子を含み、このヒューズ素子にプログラムされたデータを出力するヒューズ素子ブロックと、前記ヒューズ素子ブロックから出力されたデータ、あるいは外部から入力され、レジスタに格納された任意データのいずれかを、前記第1、第2、第3のクロック信号の生成タイミングをトリミングするデータとして、前記クロック生成回路へ転送し、前記ヒューズ素子ブロックから出力されたデータを、前記レジスタを介して外部に出力するトリミングレジスタ回路とを具備することを特徴としている。
【0030】
本発明の第2態様に係る半導体集積回路装置は、行列の複数のアドレス信号により選択される複数のメモリセルで構成されるメモリセルアレイと、外部クロック信号を受けて、複数の内部クロック信号を生成するクロック生成回路と、前記クロック生成回路で生成された第1のクロック信号に同期して、外部コマンド信号を取り込み、演算して、前記行列複数のアドレス信号、および複数の内部制御信号を発生する周辺回路と、前記クロック生成回路で生成された第2のクロック信号に同期して、外部データ信号を取り込み、内部データ信号線に転送する、および前記クロック生成回路で生成された第3のクロック信号に同期して、内部データ信号を取り込み、外部データ信号線に転送するI/O回路と、プログラム可能なヒューズ素子を含み、このヒューズ素子にプログラムされたデータを出力するヒューズ素子ブロックと、前記ヒューズ素子ブロックから出力されたデータ、あるいは外部から入力され、レジスタに格納された任意データのいずれかを、前記メモリセルアレイのリダンダンシ置換データとして、前記周辺回路へ転送し、前記ヒューズ素子ブロックから出力されたデータを、前記レジスタを介して外部に出力するトリミングレジスタ回路とを具備することを特徴としている。
【0031】
本発明の第3態様に係る半導体集積回路装置は、行列の複数のアドレス信号により選択される複数のメモリセルで構成されるメモリセルアレイと、外部クロック信号を受けて、複数の内部クロック信号を生成するクロック生成回路と、前記クロック生成回路で生成された第1のクロック信号に同期して、外部コマンド信号を取り込み、演算して、前記行列の複数のアドレス信号、および複数の内部制御信号を発生する周辺回路と、前記クロック生成回路で生成された第2のクロック信号に同期して、外部データ信号を取り込み、内部データ信号線に転送する、および前記クロック生成回路で生成された第3のクロック信号に同期して、内部データ信号を取り込み、外部データ信号線に転送するI/O回路と、プログラム可能なヒューズ素子を含み、このヒューズ素子にプログラムされたデータを出力するヒューズ素子ブロックと、前記ヒューズ素子ブロックから出力されたデータ、あるいは外部から入力され、レジスタに保持された任意データのいずれかを、前記第1、第2、第3のクロック信号の生成タイミングをトリミングするデータとして、前記クロック生成回路へ転送するとともに、前記ヒューズ素子ブロックから出力されたデータ、あるいは外部から入力され、前記レジスタに保持された任意データのいずれかを、前記メモリセルアレイのリダンダンシ置換データとして、前記周辺回路へ転送し、前記ヒューズ素子ブロックから出力されたデータを、前記レジスタを介して外部に出力するトリミングレジスタ回路とを具備することを特徴としている。
【0032】
本発明の第4態様に係る半導体集積回路装置は、半導体集積回路部と、プログラム可能なヒューズ素子を含むヒューズ素子ブロックと、データを格納するレジスタと、前記ヒューズ素子にプログラムされたデータの前記半導体集積回路部への転送、外部から前記レジスタに入力されたデータの前記半導体集積回路部への転送、及び前記レジスタを介した前記ヒューズ素子にプログラムされたデータの外部への転送のうちの1つを選択するデータ転送選択回路とを具備することを特徴としている。
本発明の第5態様に係る半導体集積回路装置は、半導体集積回路部と、プログラム可能なヒューズ素子を含むヒューズ素子ブロックと、レジスタとデータ転送選択回路を含み、前記レジスタは外部からの入力データを格納することが可能で、前記ヒューズ素子にプログラムされたデータを格納し、前記データ転送選択回路は、ヒューズ素子にプログラムされたデータの前記半導体集積回路部への転送、前記レジスタに格納されたデータの前記半導体集積回路部への転送、及び前記ヒューズ素子にプログラムされたデータの前記レジスタへの転送のうちの1つを選択するレジスタブロックとを具備することを特徴としている。
【0033】
本発明の第6態様に係る半導体集積回路装置の検査方法は、レジスタに、外部からトリミングデータを入力し、このトリミングデータに基づき半導体集積回路装置のトリミング効果を調べ、前記トリミング効果を調べた結果に基づいてトリミングデータを決定し、前記決定されたトリミングデータを前記半導体集積回路装置内に設けられたヒューズ素子にプログラムし、前記ヒューズ素子にプログラムされたトリミングデータを、前記レジスタを介して前記半導体集積回路装置の外部に読み出し、前記トリミングデータが前記ヒューズ素子に正しくプログラムされているか否かを確認し、前記トリミングデータが前記ヒューズ素子に正しくプログラムされていない場合、前記トリミングデータを前記半導体集積回路装置内に設けられたヒューズ素子に再度プログラムし、前記トリミングデータが前記ヒューズ素子に正しくプログラムされている場合、製品テストを行い、前記製品テストで不良が確認されたとき、前記トリミングデータが外部から前記半導体集積回路装置内の前記レジスタに入力されて前記トリミング効果が再度調べられ、前記トリミング効果を調べた結果に基づき再度前記トリミングデータが決定され、前記トリミングデータが前記半導体集積回路装置内に設けられた前記ヒューズ素子に再度プログラムされ、前記ヒューズ素子にプログラムされた前記トリミングデータが前記レジスタを介して前記半導体集積回路装置の外部に再度読み出され、前記トリミングデータが前記ヒューズ素子に正しくプログラムされているかどうかが再度確認され、前記トリミングデータがヒューズ素子に正しくプログラムされていない場合、前記トリミングデータが前記半導体集積回路装置に設けられた前記ヒューズ素子に再度プログラムされることを特徴としている。
【0034】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態を、図面を参照しながら説明する。この説明に際し、全図にわたり、共通する部分には共通する参照符号を付す。
【0035】
(第1実施形態)
図1は、この発明の第1実施形態に係わる半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。
【0036】
図1に示すように、ヒューズセットブロック(Fuse Block)1は、レーザ、あるいは電流等の電気的手段により、ブローされる総数n本のヒューズを含み、これらヒューズがブローされているか否かを示すパラレルなヒューズデータF<1:n>を出力する。このパラレルなヒューズデータF<1:n>は、回路特性トリミング用のデータとして用いられる。
【0037】
クロック生成回路(Control Clock Generator)2は、外部クロック信号CLK1を受けて、チップ内部の動作を制御する複数の内部クロック信号CLK_P/CLK_O/CLK_Iを生成する。また、このクロック生成回路2は、上記内部クロックCLK_P/CLK_O/CLK_Iの生成タイミングを、上記ヒューズデータF<1:n>に基いて、最適な値にトリミングする。
【0038】
周辺回路3は、クロック生成回路2で生成された内部クロック信号CLK_Pにより動作が制御され、この内部クロック信号CLK_Pに同期して外部コマンド信号を取り込み、演算して行列の複数のアドレス信号、複数の内部制御信号を発生する。
【0039】
I/O回路4は、クロック生成回路2で生成された内部クロック信号CLK_Iに同期して、例えばqビットのデータ幅を持つ外部シリアルデータ信号を取り込み、この外部シリアルデータ信号をqビットのデータ幅を持つ内部シリアルデータ信号線に転送するデータ入力バッファ(Data In Buffer)、およびクロック生成回路2で生成された内部クロック信号CLK_Oに同期して、例えばqビットのデータ幅を持つ内部シリアルデータ信号を取り込み、この内部シリアルデータ信号をqビットのデータ幅を持つ外部シリアルデータ信号線に転送するデータ出力バッファ(Data Out Buffer)を含む。
【0040】
メモリセルアレイ5は、行列の複数のアドレス信号により選択される複数のメモリセルで構成されている。このメモリセルアレイ5へのデータの読み書きは、周辺回路3、I/O回路4によって制御される。
【0041】
さらに、本実施形態に係わる装置は、クロック生成回路2で生成される内部クロック信号CLK_P/CLK_O/CLK_Iの生成タイミングを微調整するトリミングデータ信号Ft<n>を出力するトリミングレジスタ回路(Trimming Register Block)6を有する。
【0042】
トリミングレジスタ回路6は、ヒューズセットブロック1から出力されたパラレルなヒューズデータF<1:n>、あるいはトリミングレジスタ回路6中に設けられているトリミングレジスタ(詳しくは後述する)から転送された、データの書き替えが可能なパラレルなデータR<1:n>のいずれかを、トリミングデータFt<1:n>として、切り替え出力する。
【0043】
図1に示す装置において、クロック生成回路2から生成される内部クロックCLK_P/CLK_O/CLK_Iは、それぞれ周辺回路3、I/O回路4内のデータ出力バッファ、およびデータ入力バッファを制御するための内部クロックである。
【0044】
本実施形態に係わる装置は、図2A〜図2Cに示すように、従来と同様、内部クロック生成のタイミングを変えることで、周辺回路3内の動作タイミング、データ入力のタイミング、データ出力のタイミングを最適値に調整することができる。
【0045】
次に、本実施形態におけるトリミングレジスタ回路6について説明する。
【0046】
図3は、本実施形態におけるトリミングレジスタ回路6の回路構成の一例を示す図である。
【0047】
図3に示すように、本実施形態におけるトリミングレジスタ回路6は、トリミングブロック(Trimming Block1〜Trimming Block3)11-1〜11-3と、nビットのデータの読み書きが自由にできるトリミングレジスタ(Trimming Register)12と、トリミングブロック(Trimming Block)選択回路13の、計3回路で構成されている。
【0048】
トリミングブロック(Trimming Block)11-1〜11-3は、CLK_O用/CLK_I用/CLK_P用の3つに分れており、それぞれが内部クロックCLK_O/CLK_P/CLK_Iをトリミングするのに必要なビット数と同数のn個のデータ(Data)転送選択回路14-1〜14-nから構成される。
【0049】
nビットのトリミングデータFt<1:n>を出力するn個のデータ転送選択回路14-1〜14-nは、それぞれ2つのトランスファゲートから構成されており、ヒューズセットからのデータF<1:n>、またはトリミングレジスタ12からのデータR<1:n>のどちらをトリミングデータFt<1:n>として出力するかを制御している。
【0050】
データ転送選択回路14-1〜14-n内の、トランスファゲートのゲートレベルの制御、ひいてはトリミングブロック11-1〜11-3の選択は、トリミングブロック選択回路13から出力される4つの制御信号PG1/NG1/PG2/NG2によってなされる。
【0051】
トリミングレジスタ12は、内部クロックCLK_O/CLK_P/CLK_Iをトリミングするのに必要なビット数と同ビット数の読み書き自由なレジスタである。
【0052】
トリミングブロック選択回路13は、トリミングを行う内部クロックに対応したトリミングブロック11-1〜11-3を選択するための制御信号PG1/NG1/PG2/NG2を作りだす。
【0053】
トリミングブロック11-1〜11-3は、上記4つの制御信号PG1/NG1/PG2/NG2の状態によって、(1)Normal状態、(2)Write状態、(3)Read状態の3状態に分けられる。
【0054】
次に、トリミングブロック選択回路13について説明する。
【0055】
図4Aは、本実施形態におけるトリミングブロック選択回路13の回路構成の一例を示す図である。
【0056】
図4Aに示すように、本実施形態におけるトリミングブロック選択回路13は、トリミングブロック選択レジスタ(Trimming Block選択Register)21と、データ転送制御ロジック部(Data転送制御Logic部1〜Data転送制御Logic部3)22-1〜22-3から構成されている。
【0057】
データ転送制御ロジック部22-1〜22-3は、上記トリミングブロック11-1〜11-3に対応する形で3つに分れている。データ転送制御ロジック部22-1〜22-3の状態は、トリミングブロック選択レジスタ21から出力される2ビットのアドレス信号(Add1/Add2)、およびトリミングブロックの状態を決めるモード信号Readによって決まる。
【0058】
図4Bは、内部クロックCLK_I用のトリミングブロック11-2に対するデータ転送制御ロジック部22-3の演算結果を表している。
【0059】
図4Bに示すように、トリミングブロック選択レジスタ21からのアドレスAdd1/Add2が、ともに“HIGH”でない場合、トリミングブロック11-2の状態は、常にNormal状態になる。反対に、アドレスAdd1/Add2が、ともに“HIGH”である場合、モード信号Readが“HIGH”の時、Read状態となり、“LOW”の時、Write状態となる。
【0060】
また、データ転送制御ロジック部22-1〜22-3中のNANDロジック回路に入力されるアドレスAdd1/Add2の状態によって、どのトリミングブロック11-1〜11-3が選択されるかが決まる。
【0061】
ここで、トリミングブロック11の3つの状態、(1)Normal状態、(2)Write状態、(3)Read状態について説明する。
【0062】
まず、(1)Normal状態から説明する。図5にNormal状態におけるトリミングブロック11中のデータ転送選択回路14の状態を示す。
【0063】
(1)Normal状態では、図5に示すように、トランスファゲートTRS1はON状態、トランスファゲートTRS2はOFF状態となっている。このため、クロック生成回路2へ出力されるトリミングデータFtは、ヒューズセットブロック1からのデータFとなり、内部クロックのトリミングは、このデータFに基づいて行わる。
【0064】
次に、(2)Write状態について説明する。図6にWrite状態におけるトリミングブロック11中のデータ転送選択回路14の状態を示す。
【0065】
(2)Write状態では、図6に示すように、トランスファゲートTRS1はOFF状態、トランスファゲートTRS2はON状態となっている。このため、クロック生成回路2へ出力されるトリミングデータFtは、トリミングレジスタ12からのデータRとなる。このトリミングレジスタ12からのデータRは、例えば外部パッドRIOからトリミングレジスタ12にデータを書き込むことで、自由に設定することができる。このため、内部クロックのトリミングを自由に行うことができる。
【0066】
最後に、(3)Read状態について説明する。図7にRead状態におけるトリミングブロック11中のデータ転送選択回路14の状態を示す。
【0067】
(3)Read状態では、図7に示すように、トランスファゲートTRS1、TRS2が、ともにON状態となっている。この結果、クロック生成回路2へ出力されるトリミングデータFtは、ヒューズセットブロック1からのデータFとなる。
【0068】
また、この場合、トランスファゲートTRS2もON状態になっているため、ヒューズセットブロック1からのデータF、つまりトリミングデータFtを、トリミングレジスタ12を用い、例えば外部パッドRIOを介して読み出すことができる。
【0069】
次に、ヒューズセットブロック1について説明する。
【0070】
図8は、本実施形態におけるヒューズセットブロック1の回路構成の一例を示す図である。
【0071】
図8に示すように、本実施形態のヒューズセットは、レーザヒューズブロック(Laser Fuse Block)31と、エレクトリックヒューズブロック(Electric Fuse Block)32とから構成されている。レーザヒューズブロック31には、例えばレーザ溶断型のヒューズが設けられ、エレクトリックヒューズブロック32には、例えば電流溶断型のヒューズが設けられる。
【0072】
このような構成にすることで、チップをパッケージ封入前にレーザヒューズでトリミングした後、パッケージ封入による影響で再トリミングが必要になった場合でも、再度、トリミングすることが可能となる。
【0073】
次に、トリミングレジスタ12について説明する。
【0074】
図9は本実施形態におけるトリミングレジスタ12とトリミングブロック11との関係を示す図、図10はトリミングレジスタ12の回路構成の一例を示す図である。なお、本回路構成例では、トリミングデータFtが8ビットの場合を想定する。
【0075】
図9、および図10に示すように、トリミングレジスタ12は、8個のフリップフロップ(FF)回路41-1〜41-8、8個のマルチプレクス(MX)回路42-1〜42-8、8個のWrite用出力回路43-1〜43-8、および1個のRead用出力回路44とを含む。
【0076】
本回路構成例におけるフリップフロップ回路41-1〜41-8の出力ノードfuse<1:n>はそれぞれ、マルチプレクス回路42-1〜42-8の第1入力に接続されるとともに、Write用出力回路43-1〜43-8の入力に接続される。
【0077】
Write用出力回路43-1〜43-8の出力はそれぞれ、トリミングレジスタ12とトリミングブロックとの接続ノードdREGbit<1:n>に接続される。さらに接続ノードdREGbit<1:n>はそれぞれ、マルチプレクス回路42-1〜42-8の第2入力に接続される。
【0078】
マルチプレクス回路42-1〜42-8はそれぞれ、信号fuse data enに基いて、出力ノードfuse<1:n>、あるいは接続ノードdREGbit<1:n>のいずれか一つを選択して、フリップフロップ回路41-2〜41-8の入力、およびRead用出力回路44の入力に接続する。
【0079】
Read用出力回路44の出力は、トリミングレジスタ12と外部パッドRIOとの接続ノードCore Dataに接続される。さらに接続ノードCore Dataは、フリップフロップ回路41-1〜41-8のうち、初段のフリップフロップ回路41-1の入力に接続される。
【0080】
次に、その動作を説明する。
【0081】
Write時、まず、フリップフロップ回路41-1〜41-8をそれぞれ、リセット信号fuse rstを用いてリセットする。
【0082】
さらに信号fuse data enを、例えば“HIGH”とし、マルチプレクス回路42-1〜42-7がそれぞれ、出力ノードfuse<1:7>を選択するようにしておく。なお、最終段のマルチプレクス回路42-8は、fuse data enの逆相の信号で制御され、Write時には、出力ノードfuse<8>を選択しない。
【0083】
この状態で、初段のフリップフロップ回路41-1の入力に、外部パッドRIOから、接続ノードCore Dataを介して、データをシリアルに入力する。フリップフロップ回路41-1〜41-8はそれぞれ、制御クロックfuse clkに同期して動作し、制御クロックfuse clkの立ち上がり、もしくは立ち下がりに応じて、入力されたデータを出力する。そして、例えば制御クロックfuse clkを8回トグルさせることで、8個のフリップフロップ回路41-1〜41-8それぞれにデータがセットされる。データがセットされた後、信号writeを、例えば“HIGH”レベルとし、Write用出力回路43-1〜43-8をそれぞれイネーブルする。この結果、フリップフロップ回路41-1〜41-8にセットされたデータが、データR<1:n>として、トリミングブロック11に対して出力される。これにより、トリミングブロック11からは、上述したように、データR<1:n>が、トリミングデータFt<1:n>として、クロック生成回路2に対して出力される。
【0084】
また、Read時、フリップフロップ回路41-1〜41-8をそれぞれ、リセット信号fuse rstを用いてリセットする。
【0085】
さらに、信号fuse data enは、最初に例えば“LOW”とし、マルチプレクス回路42-1〜42-7がそれぞれ、接続ノードdREGbit<1:7>を選択するようにしておく。なお、最終段のマルチプレクス回路42-8は、fuse data enの逆相の信号で制御されているので、このときには、接続ノードdREGbit<8>を選択していない。
【0086】
この状態では、初段のフリップフロップ回路41-2〜41-8の入力には、トリミングブロック11から、接続ノードdREGbit<1:7>を介して、ヒューズセットブロック1からのデータF<1:7>が入力されている。
【0087】
次に、信号fuse data enを、“LOW”から“HIGH”とし、マルチプレクス回路42-1〜42-7にそれぞれ、出力ノードfuse<1:7>を選択させる。これとともに、最終段のマルチプレクス回路42-8には、接続ノードdREGbit<8>を選択させる。これにより、Read用出力回路44には、ヒューズセットブロック1からのデータF<8>が入力される。この状態で、信号Readを、例えば“HIGH”レベルとし、Read用出力回路44をイネーブルすることで、データF<8>は、接続ノードCore Dataを介して、外部パッドRIOから出力される。
【0088】
次に、信号fuse data enを、再度“HIGH”から“LOW”とし、最終段のマルチプレクス回路42-8に、出力ノードfuse<8>を選択させる。これにより、Read用出力回路44には、フリップフロップ回路41-8にセットされていたヒューズセットブロック1からのデータF<7>が入力され、データF<8>に続いて、データF<7>が、接続ノードCore Dataを介して、外部パッドRIOから出力される。
【0089】
以下、上記動作を、データF<1>が出力されるまで繰り返すことで、ヒューズセットブロック1にセットされているデータF<1:8>を読み出すことができる。
【0090】
次に、本実施形態の全体動作について説明する。
【0091】
まず、データ入力タイミングのトリミングの場合について説明する。従来と同様、図2Bに示すようにチップ内部で内部クロックCLCK_Iが+Δtズレが生じてしまった場合、クロック発生回路で内部クロックCLK_Iの発生タイミングをΔt速めるトリミングを行わなければならない。
【0092】
トリミングを行う場合、従来はヒューズをブローしてみなければ実際のトリミング量などを調べることができなかったのだが、この発明では実際にヒューズをブローする前に、トリミングレジスタ回路6のトリミングブロック11の状態をWrite状態とし、トリミングレジスタ12を介して、ヒューズブローによるトリミング予定値と同じトリミングデータを書き込む。これにより、ヒューズをブローした状態と同じ状態でトリミング効果を調べることができる。
【0093】
この段階で、トリミングレジスタ回路6からのトリミングデータFtで、予定通りの効果があると判断できたならば、そこで初めてヒューズをブローすれば良い。
【0094】
反対にトリミング効果が不足、あるいは過剰だと判断された場合は、トリミングレジスタ回路6からのトリミングデータFtを、最適になるように調節して、その値に基づいてヒューズをブローすれば良い。
【0095】
図11に、この発明におけるトリミング手法の流れを示す。
【0096】
チップのパッケージ封入前、レーザヒューズによるトリミングを行う場合においても、まず、トリミングレジスタ回路6からのデータに基づきトリミングを行い、ヒューズブロー値を決める(ST.1)。
【0097】
次に、上記ヒューズブロー値に基いて、レーザヒューズをブローし(ST.2)、ヒューズが正しくブローされたかをトリミングレジスタを用いて確認する(ST.3)。
【0098】
もし、ブローされていなければ(NG)、再びヒューズブローの行程に戻り、再度ヒューズブローを行う。また、ヒューズが正しくブローされていることが確認できたら(OK)、チップをパッケージに封入する(ST.4)。
【0099】
次に、製品テストを行い(ST.5)、何ら問題が無いようであれば出荷する(ST.6)。
【0100】
もし、パッケージ封入の影響で再トリミングが必要になったならば(NG)、再度トリミングレジスタ回路6を用いて、今度はエレクトリックヒューズによるトリミングのヒューズ値を決める(ST.7)。
【0101】
次に、上記ヒューズ値に基いて、エレクトリックヒューズをブローし(ST.8)、ヒューズが正しくブローされたかをトリミングレジスタ回路6を用いて確認する(ST.9)。
【0102】
もし、ブローされていなければ(NG)、再びヒューズブローの行程に戻り、再度ヒューズブローを行う。また、ヒューズが正しくブローされていることが確認できたら(OK)、製品テストを行う(ST.10)。何ら問題が無いようであれば出荷する(ST.11)。
【0103】
もし、問題があった、例えば不良が確認されたときには(NG)、トリミングレジスタ回路6を用いて、再度ヒューズ値を決めてみることも可能である。
【0104】
以上のことから、この発明では、従来の様にヒューズをブローしてみて初めてトリミング効果が不足や超過だったと気づくようなことがなく、全てのチップに対して最適な値でトリミングすることができる。
【0105】
更に、この発明ではトリミングレジスタ回路6を用い、ヒューズが正しくブローされているか、その状態をパッケージ封入後でも容易に調べることができるため、エレクトリックヒューズを用いてヒューズブローする場合、ヒューズブローできているかどうかの検証にも効果がある。
【0106】
また、図11に示したトリミング手法によれば、ヒューズブローが不完全であった装置においても、再度救済することが可能となる。このため、歩留りを、さらに向上させることが可能となる。
【0107】
(第2実施形態)
図12Aはこの発明の第2実施形態に係わる半導体記憶装置の構成を示すブロック図、図12Bはそのヒューズセットブロックの構成を示す図である。
【0108】
図12Aに示すように、第2実施形態に係わる半導体記憶装置は、第1実施形態と同様、総数n本のヒューズデータF<n>を持つ回路特性トリミング用のヒューズセットブロック1と、ヒューズデータF<n>によりクロック発生のタイミングを最適値にトリミングすることができるクロック生成回路2と、クロック生成回路を制御するトリミングデータ信号Ft<n>を作り出すトリミングレジスタ回路6と、クロック生成回路2から生成される内部クロックにより制御される周辺回路3と、データ出力バッファ(Data Out Buffer)とデータ入力バッファ(Data In Buffer)との2回路からなるI/O回路4と、内部クロックにより制御されるこれら2つの回路によってデータの読み書きが制御されるメモリセルアレイ5とを有する。
【0109】
しかしながら、本第2実施形態では、図12Bに示すように、第1実施形態のヒューズセットブロック1の形態と異なり、ヒューズは、レーザヒューズ31のみで構成されている形態となっている。
【0110】
このような第2実施形態に係わる半導体記憶装置においても、第1実施形態と同様に、トリミングレジスタ回路6を用いて、ヒューズブローの効果を前もって確認することにより、最適なヒューズ値を決めることができ、全てのチップに対して最適な値でトリミングすることができる。
【0111】
(第3実施形態)
図13Aはこの発明の第3実施形態に係わる半導体記憶装置の構成を示すブロック図、図13Bはそのヒューズセットブロックの構成を示す図である。
【0112】
図13Aに示すように、第3実施形態に係わる半導体記憶装置は、第1実施形態と同様、総数n本のヒューズデータF<n>を持つ回路特性トリミング用のヒューズセットブロック1と、ヒューズデータF<n>によりクロック発生のタイミングを最適値にトリミングすることができるクロック生成回路2と、クロック生成回路を制御するトリミングデータ信号Ft<n>を作り出すトリミングレジスタ回路6と、クロック生成回路2から生成される内部クロックにより制御される周辺回路3と、データ出力バッファ(Data Out Buffer)とデータ入力バッファ(Data In Buffer)との2回路からなるI/O回路4と、内部クロックにより制御されるこれら2つの回路によってデータの読み書きが制御されるメモリセルアレイ5とを有する。
【0113】
しかしながら、本第3実施形態では、図13Bに示すように、第1、第2実施形態のヒューズセットの形態と異なり、ヒューズはエレクトリックヒューズ32のみで構成されている形態となっている。
【0114】
このような第3実施形態の半導体記憶装置においても、第1、第2実施形態と同様にトリミングレジスタ回路6を用いて、ヒューズブローの効果を前もって確認することにより、最適なヒューズ値を決めることができ、全てのチップに対して最適な値でトリミングすることができる。
【0115】
(第4実施形態)
図14は、この発明の第4実施形態に係わる半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。
【0116】
図14に示すように、第4実施形態に係わる半導体記憶装置は、総数n本のヒューズデータF<n>を持つ回路特性トリミング用のヒューズ、および総数m本のヒューズデータF<m>を持つ行列アドレスのリダンダンシ置換用のヒューズからなるヒューズブロック1と、ヒューズデータF<n>によりクロック発生のタイミングを最適値にトリミングすることができるクロック生成回路2と、クロック生成回路2を制御するトリミングデータ信号Ft<n>並びに、行列アドレスのリダンダンシ置換を制御するリダンダンシデータ信号Fr<m>を作り出すトリミングレジスタ回路6と、クロック生成回路2から生成される内部クロック、並びにトリミングレジスタ回路6から出力されるリダンダンシデータ信号Fr<m>により制御される周辺回路3と、データ出力回路(Data Out Buffer)とデータ入力回路(Data In Buffer)の2回路からなるI/O回路4と、内部クロックにより制御されるこれら2つの回路によってデータの読み書きが制御されるメモリセルアレイ5とを有する。
【0117】
本第4実施形態においては、第1、第2、第3実施形態と同様に、トリミングレジスタ回路6を用いて、ヒューズブローの効果を前もって確認することにより、最適なヒューズ値を決めることができ、全てのチップに対して最適な値でトリミングすることができる。
【0118】
更に、本第4実施形態では、行列アドレスのリダンダンシ置換を行う際においても、ヒューズブローする前に、トリミングレジスタ回路を用いて、リダンダンシ置換がなされたと同等な状態にしてテストすることができるため、的確なリダンダンシ置換を行うことができる。
【0119】
上記第1〜第4実施形態を参照して説明したこの発明によれば、ヒューズブローによるチップ内部タイミングの微調整や行列アドレスのリダンダンシ置換を行う場合において、実際にヒューズをブローする前にレジスタ回路を用いて内部タイミングの微調整やリダンダンシ置換を行い、その結果に基づき実際にブローするヒューズ値を決める。
【0120】
また、前記レジスタ回路を用いてヒューズの状態を読み出すことで、ヒューズブローの成否を的確に判断したり、チップ毎のリダンダンシ置換情報を把握することができる。この手法により、タイミングの微調整を行う最適なヒューズ値をチップ毎に決めることができ、また的確な行列アドレスへのリダンダンシ置換を行うことが可能な半導体記憶装置を得ることができる。
【0121】
以上、この発明を第1〜第4実施形態により説明したが、この発明は、これら実施形態それぞれに限定されるものではなく、その実施にあたっては、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。
【0122】
また、上記各実施形態は、単独、または適宜組み合わせて実施することも勿論可能である。
【0123】
さらに、上記各実施形態には種々の段階の発明が含まれており、各実施形態において開示した複数の構成要件の適宜な組み合わせにより、種々の段階の発明を抽出することも可能である。
【0124】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、実際にヒューズをブローしなくても、ヒューズブロー後のチップの状態を判断できる半導体記憶装置、および歩留りを、さらに向上させることが可能な半導体集積回路装置の検査方法をそれぞれ提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1はこの発明の第1実施形態に係わる半導体記憶装置の構成を示すブロック図。
【図2】図2Aは外部クロックCLKとデータDQとの関係を示す図、図2Bは内部クロックCLK_Iと入力データD_INとの関係(トリミング前)を示す図、図2Cは内部クロックCLK_Iと入力データD_INとの関係(トリミング後)を示す図。
【図3】図3はトリミングレジスタ回路6の回路構成の一例を示す図。
【図4】図4Aはトリミングブロック選択回路13の回路構成の一例を示す図、図4Bはデータ転送制御ロジック部演算結果を表す図。
【図5】図5はNormal状態におけるデータ転送回路14の状態を示す図。
【図6】図6はWrite状態におけるデータ転送回路14の状態を示す図。
【図7】図7はRead状態におけるデータ転送回路14の状態を示す図。
【図8】図8はヒューズセットブロック1の回路構成の一例を示す図。
【図9】図9はトリミングレジスタ12とトリミングブロック11との関係を示す図。
【図10】図10はトリミングレジスタ12の回路構成の一例を示す図。
【図11】図11はこの発明におけるトリミング手法のフローチャート図。
【図12】図12Aはこの発明の第2実施形態に係わる半導体記憶装置の構成を示すブロック図、図12Bはそのヒューズセットブロックの構成を示す図。
【図13】図13Aはこの発明の第3実施形態に係わる半導体記憶装置の構成を示すブロック図、図13Bはそのヒューズセットブロックの構成を示す図。
【図14】図14はこの発明の第4実施形態に係わる半導体記憶装置の構成を示すブロック図。
【図15】図15は半導体記憶装置の典型的な構成を示すブロック図。
【図16】図16Aは外部クロックCLKとデータDQとの関係を示す図、図16Bは内部クロックCLK_Iと入力データD_INとの関係(トリミング前)を示す図、図16Cは内部クロックCLK_Iと入力データD_INとの関係(トリミング後)を示す図。
【符号の説明】
1…ヒューズセットブロック(Fuse Block)、
2…クロック生成回路(Control Clock Generator)、
3…周辺回路、
4…I/O回路、
5…メモリセルアレイ、
6…トリミングレジスタ回路(Trimming Register Block)、
11…トリミングブロック(Trimming Block)、
12…トリミングレジスタ(Trimming Register)、
13…トリミングブロック選択回路、
14…データ転送制御回路、
21…トリミングブロック選択レジスタ、
22…データ転送制御ロジック部、
31…レーザヒューズブロック(Laser Fuse Block)、
32…エレクトリックヒューズブロック(Electric Fuse Block)、
41…フリップフロップ回路、
42…マルチプレクス回路、
43…Write用出力回路、
44…Read用出力回路。
Claims (6)
- 複数のアドレス信号により選択される複数のメモリセルで構成されるメモリセルアレイと、
外部クロック信号を受けて、複数の内部クロック信号を生成するクロック生成回路と、
前記クロック生成回路で生成された第1のクロック信号に同期して、外部コマンド信号を取り込み、演算して、前記複数のアドレス信号、および複数の内部制御信号を発生する周辺回路と、
前記クロック生成回路で生成された第2のクロック信号に同期して、外部データ信号を取り込み、内部データ信号線に転送する、および前記クロック生成回路で生成された第3のクロック信号に同期して、内部データ信号を取り込み、外部データ信号線に転送するI/O回路と、
プログラム可能なヒューズ素子を含み、このヒューズ素子にプログラムされたデータを出力するヒューズ素子ブロックと、
前記ヒューズ素子ブロックから出力されたデータ、あるいは外部から入力され、レジスタに格納された任意データのいずれかを、前記第1、第2、第3のクロック信号の生成タイミングをトリミングするデータとして、前記クロック生成回路へ転送し、前記ヒューズ素子ブロックから出力されたデータを、前記レジスタを介して外部に出力するトリミングレジスタ回路と
を具備することを特徴とする半導体集積回路装置。 - 行列の複数のアドレス信号により選択される複数のメモリセルで構成されるメモリセルアレイと、
外部クロック信号を受けて、複数の内部クロック信号を生成するクロック生成回路と、
前記クロック生成回路で生成された第1のクロック信号に同期して、外部コマンド信号を取り込み、演算して、前記行列複数のアドレス信号、および複数の内部制御信号を発生する周辺回路と、
前記クロック生成回路で生成された第2のクロック信号に同期して、外部データ信号を取り込み、内部データ信号線に転送する、および前記クロック生成回路で生成された第3のクロック信号に同期して、内部データ信号を取り込み、外部データ信号線に転送するI/O回路と、
プログラム可能なヒューズ素子を含み、このヒューズ素子にプログラムされたデータを出力するヒューズ素子ブロックと、
前記ヒューズ素子ブロックから出力されたデータ、あるいは外部から入力され、レジスタに格納された任意データのいずれかを、前記メモリセルアレイのリダンダンシ置換データとして、前記周辺回路へ転送し、前記ヒューズ素子ブロックから出力されたデータを、前記レジスタを介して外部に出力するトリミングレジスタ回路と
を具備することを特徴とする半導体集積回路装置。 - 行列の複数のアドレス信号により選択される複数のメモリセルで構成されるメモリセルアレイと、
外部クロック信号を受けて、複数の内部クロック信号を生成するクロック生成回路と、
前記クロック生成回路で生成された第1のクロック信号に同期して、外部コマンド信号を取り込み、演算して、前記行列の複数のアドレス信号、および複数の内部制御信号を発生する周辺回路と、
前記クロック生成回路で生成された第2のクロック信号に同期して、外部データ信号を取り込み、内部データ信号線に転送する、および前記クロック生成回路で生成された第3のクロック信号に同期して、内部データ信号を取り込み、外部データ信号線に転送するI/O回路と、
プログラム可能なヒューズ素子を含み、このヒューズ素子にプログラムされたデータを出力するヒューズ素子ブロックと、
前記ヒューズ素子ブロックから出力されたデータ、あるいは外部から入力され、レジスタに保持された任意データのいずれかを、前記第1、第2、第3のクロック信号の生成タイミングをトリミングするデータとして、前記クロック生成回路へ転送するとともに、前記ヒューズ素子ブロックから出力されたデータ、あるいは外部から入力され、前記レジスタに保持された任意データのいずれかを、前記メモリセルアレイのリダンダンシ置換データとして、前記周辺回路へ転送し、前記ヒューズ素子ブロックから出力されたデータを、前記レジスタを介して外部に出力するトリミングレジスタ回路とを具備することを特徴とする半導体集積回路装置。 - 半導体集積回路部と、
プログラム可能なヒューズ素子を含むヒューズ素子ブロックと、
データを格納するレジスタと、
前記ヒューズ素子にプログラムされたデータの前記半導体集積回路部への転送、外部から前記レジスタに入力されたデータの前記半導体集積回路部への転送、及び前記レジスタを介した前記ヒューズ素子にプログラムされたデータの外部への転送のうちの1つを選択するデータ転送選択回路と
を具備することを特徴とする半導体集積回路装置。 - 半導体集積回路部と、
プログラム可能なヒューズ素子を含むヒューズ素子ブロックと、
レジスタとデータ転送選択回路を含み、前記レジスタは外部からの入力データを格納することが可能で、前記ヒューズ素子にプログラムされたデータを格納し、前記データ転送選択回路は、ヒューズ素子にプログラムされたデータの前記半導体集積回路部への転送、前記レジスタに格納されたデータの前記半導体集積回路部への転送、及び前記ヒューズ素子にプログラムされたデータの前記レジスタへの転送のうちの1つを選択するレジスタブロックと
を具備することを特徴とする半導体集積回路装置。 - レジスタに、外部からトリミングデータを入力し、このトリミングデータに基づき半導体集積回路装置のトリミング効果を調べ、
前記トリミング効果を調べた結果に基づいてトリミングデータを決定し、
前記決定されたトリミングデータを前記半導体集積回路装置内に設けられたヒューズ素子にプログラムし、
前記ヒューズ素子にプログラムされたトリミングデータを、前記レジスタを介して前記半導体集積回路装置の外部に読み出し、
前記トリミングデータが前記ヒューズ素子に正しくプログラムされているか否かを確認し、
前記トリミングデータが前記ヒューズ素子に正しくプログラムされていない場合、前記トリミングデータを前記半導体集積回路装置内に設けられたヒューズ素子に再度プログラムし、
前記トリミングデータが前記ヒューズ素子に正しくプログラムされている場合、製品テストを行い、
前記製品テストで不良が確認されたとき、前記トリミングデータが外部から前記半導体集積回路装置内の前記レジスタに入力されて前記トリミング効果が再度調べられ、前記トリミング効果を調べた結果に基づき再度前記トリミングデータが決定され、前記トリミングデータが前記半導体集積回路装置内に設けられた前記ヒューズ素子に再度プログラムされ、前記ヒューズ素子にプログラムされた前記トリミングデータが前記レジスタを介して前記半導体集積回路装置の外部に再度読み出され、前記トリミングデータが前記ヒューズ素子に正しくプログラムされているかどうかが再度確認され、前記トリミングデータがヒューズ素子に正しくプログラムされていない場合、前記トリミングデータが前記半導体集積回路装置に設けられた前記ヒューズ素子に再度プログラムされることを特徴とする半導体集積回路装置の検査方法。
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JP3884374B2 (ja) * | 2002-12-06 | 2007-02-21 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
DE10325769B4 (de) * | 2003-06-05 | 2007-01-04 | Zentrum Mikroelektronik Dresden Ag | Anordnung und Verfahren zum Abgleich einer kalibrierbaren Stromquelle |
US7089136B2 (en) * | 2003-07-18 | 2006-08-08 | International Business Machines Corporation | Method for reduced electrical fusing time |
JP3964841B2 (ja) * | 2003-08-29 | 2007-08-22 | 株式会社東芝 | 半導体集積回路装置 |
JP2005092915A (ja) * | 2003-09-12 | 2005-04-07 | Toshiba Corp | 半導体集積回路装置およびその情報記憶方法 |
US20060044899A1 (en) * | 2004-08-27 | 2006-03-02 | Ellis Robert W | Method and apparatus for destroying flash memory |
JP4828901B2 (ja) * | 2005-09-22 | 2011-11-30 | 株式会社東芝 | 半導体集積回路装置 |
JP2007102865A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-19 | Toshiba Corp | 半導体集積回路装置 |
JP2007102848A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-19 | Toshiba Corp | 半導体集積回路装置 |
JP2008053259A (ja) * | 2006-08-22 | 2008-03-06 | Fujitsu Ltd | 半導体集積回路及びその試験方法 |
JP5003106B2 (ja) * | 2006-11-06 | 2012-08-15 | セイコーエプソン株式会社 | 記憶回路の検査方法 |
JP2008305517A (ja) * | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Hitachi Ulsi Systems Co Ltd | 半導体集積回路装置 |
US7532027B2 (en) * | 2007-09-28 | 2009-05-12 | Adtron, Inc. | Deliberate destruction of integrated circuits |
KR101586325B1 (ko) * | 2009-11-09 | 2016-02-03 | 삼성전자주식회사 | 트림 회로 및 이를 포함하는 반도체 메모리 장치 |
US9343184B2 (en) | 2014-04-07 | 2016-05-17 | Micron Technology, Inc. | Soft post package repair of memory devices |
US9741403B2 (en) * | 2014-11-12 | 2017-08-22 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods to perform post package trim |
US9349491B1 (en) | 2015-04-17 | 2016-05-24 | Micron Technology, Inc. | Repair of memory devices using volatile and non-volatile memory |
US10832791B2 (en) | 2019-01-24 | 2020-11-10 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods for soft post-package repair |
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US5682346A (en) * | 1995-03-29 | 1997-10-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Nonvolatile semiconductor memory device having suitable writing efficiency |
JP2000163999A (ja) * | 1998-11-20 | 2000-06-16 | Fujitsu Ltd | セルフタイミングコントロール回路 |
JP4437565B2 (ja) * | 1998-11-26 | 2010-03-24 | 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路装置、半導体集積回路装置の設計方法、及び、記録媒体 |
JP3814464B2 (ja) * | 2000-06-09 | 2006-08-30 | 株式会社東芝 | 半導体メモリ集積回路 |
JP3526446B2 (ja) * | 2000-06-09 | 2004-05-17 | 株式会社東芝 | フューズプログラム回路 |
JP2002094368A (ja) * | 2000-09-18 | 2002-03-29 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体集積回路装置 |
JP2002150789A (ja) * | 2000-11-09 | 2002-05-24 | Hitachi Ltd | 不揮発性半導体記憶装置 |
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