JP4721904B2 - 金属の表面処理剤 - Google Patents

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Description

本発明は、金属の表面処理剤に関する。
銅、及び銅合金の変色防止剤として、トリアゾール、及びその誘導体が有名である。これらの化合物を電子材料用にアレンジしたものに、本出願人が提案した5−メチル−1H−ベンゾトリアゾール、5,6−ジメチル−1H−ベンゾトリアゾール、2−メルカプトピリミジンを含有する酸性の銅変色防止液等がある(特許文献1(特開平4−160173号公報))。上記化合物は耐湿性に優れ、被処理物保管時の銅の変色防止に有効であるが、熱に弱いため、加熱すると銅が酸化され、酸化膜が剥離するという問題があった。この問題を解決したのが、本出願人の出願に係る特許文献2(特許第3373356号公報)の分子内に窒素又は硫黄あるいはこれら両方を含んでいて銅のインヒビターとして働く複素環状物溶液に銅より貴な金属、またはその塩を添加した銅変色防止液である。しかし、この表面処理剤は加熱時の銅の酸化を抑制するのではなく、生成した酸化被膜が剥離しないようにしたものである。
加熱時の銅の酸化を抑制し、はんだ濡れ性を向上させるものとして、2位変性ベンズイミダゾール(特許文献3(特許第2575242号公報)、特許文献4(特許第2686168号公報))、イミダゾール誘導体(特許文献5(特開平4−206681号公報)、特許文献6(特開平7−243053号公報))等がある。しかし、これらは十分の数ミクロン〜数ミクロン程度の厚付け被膜であるため、樹脂密着性が低い。この問題を解決する表面処理剤として、メルカプトベンゾオキサゾール誘導体、メルカプトベンゾチアゾール誘導体を非特許文献1(公開技法No.2003−502332)で提案した。
一方、テトラゾール化合物を含有する表面処理剤も提案されている。例えば特許文献7(特許第3141145号公報)には、テトラゾール系化合物が、特許文献8(特開2000−282033号公報)にはテトラゾール系化合物とチアジアゾール系化合物からなる表面処理剤が、また、特許文献9(特開2003−3283号公報)には、過酸化水素、鉱酸、テトラゾール化合物、銀イオン、およびハロゲンイオンを含む表面処理剤により銅表面の粗面化して樹脂との密着性を向上することが提案されている。さらに本出願人もテトラゾール化合物とハロゲン化合物を含む表面処理剤を提案した(特許文献10(特願2003−290346号公報))。
特開平4−160173号公報 特許第3373356号公報 特許第2575242号公報 特許第2686168号公報 特開平4−206681号公報 特開平7−243053号公報 特許第3141145号公報 特開2000−282033号公報 特開2003−3283号公報 特願2003−290346号公報 公開技法No.2003−502332
本発明は、更に耐熱性、樹脂密着性、はんだ濡れ性が向上した表面処理剤を提供することを目的とするものである。
本発明者らは、鋭意検討した結果、特定のテトラゾール誘導体による表面処理が有効であることを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明は、
(1)下記の一般式で表されるテトラゾール誘導体及び/又はその塩、及び金属化合物を含有する金属の表面処理剤であって、前記金属化合物が亜鉛、マンガン、クロム、錫、ニッケル、コバルト、銅、金、銀、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウムの各化合物からなる群から選択され、かつ前記表面処理される金属が銅、銀、金、鉄、ニッケル、錫あるいはそれらの合金から選択されることを特徴とする金属の表面処理剤。


(式中、R1,R2はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数10以下のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、ベンジル基またはこれらにハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基が付加した基、または、アミノ基、メルカプト基、水酸基、カルボキシル基を示し、R3は、結合、または炭素数10以下のアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、アラルキレン基、または、これらにハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基、アゾ基、スルフィド基、ジスルフィド基が付加した基、または、アゾ基(−N=N−)、スルフィド基(−S−)、ジスルフィド基(−S−S−)を示す。)に関する。
本発明の金属表面処理剤は、上記一般式で表されるテトラゾール誘導体および/又はその塩を有効成分とするものであるが、好ましいものとして例えば、下記の化合物およびその塩が挙げられる。塩としては、特に制限されるものではないが、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アミン塩が好ましい。
5,5’−ビ−1H−テトラゾール、5,5’−ビ−1−メチルテトラゾール、5,5’−ビ−1−フェニルテトラゾール、5,5’−ビ−1−メルカプトテトラゾール、5,5’−ビ−1−クロロテトラゾール、5,5’−エチレンビス−1H−テトラゾール、5,5’−エチレンビス−1−メチルテトラゾール、5,5’−エチレンビス−1−フェニルテトラゾール、5,5’−エチレンビス−1−メルカプトテトラゾール、5,5’−エチレンビス−1−クロロテトラゾール、5,5’−アゾビス−1H−テトラゾール、5,5’−アゾビス−1−メチルテトラゾール、5,5’−アゾビス−1−フェニルテトラゾール、5,5’−アゾビス−1−メルカプトテトラゾール、5,5’−アゾビス−1−クロロテトラゾール、5,5’−ジスルフィドビス−1H−テトラゾール、5,5’−ジスルフィドビス−1−メチルテトラゾール、5,5’−ジスルフィドビス−1−フェニルテトラゾール、5,5’−ジスルフィドビス−1−メルカプトテトラゾール、5,5’−ジスルフィドビス−1−クロロテトラゾール等。
これらのテトラゾール誘導体は、2種類以上の混合物として使用してもよく、本発明の表面処理剤中に、0.05〜100g/L、好ましくは0.1〜50g/L含有させることができる。
0.05g/L未満では成膜性が低く、良好な特性が出ない。100g/Lを越えても、持ち出し等による液のロスが増えるだけで、メリットがない。
また、本発明の表面処理剤には、前記テトラゾール誘導体に加えて金属または金属化合物添加することにより一層の向上効果を奏することができるが、こうした金属または金属化合物としては、好ましくは亜鉛、マンガン、クロム、錫、鉄、ニッケル、コバルト、銅、金、銀、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、またはその化合物を挙げることができる。これらの金属または金属化合物は、2種類以上の混合物として使用してもよく、本発明の表面処理剤中に1mg/L〜100g/L、好ましくは10mg/L〜20g/L含有される。
1mg/L未満では耐熱性、樹脂密着性、はんだ濡れ性向上効果が低い。100g/Lを越えても、持ち出し等による液のロスが増えるだけで、メリットがない。
前記金属化合物として例えば、下記の化合物が挙げられる。
亜鉛の化合物としては、水酸化亜鉛、酸化亜鉛、蟻酸亜鉛、酢酸亜鉛、塩化亜鉛、硫化亜鉛、リン酸亜鉛、マンガンの化合物としては、水酸化マンガン、酸化マンガン、塩化マンガン、硫酸マンガン、蟻酸マンガン、酢酸マンガン、クロムの化合物としては、水酸化クロム、酸化クロム、クロム酸、重クロム酸、塩化クロム、硫酸クロム、リン酸クロム、酢酸クロム、臭化クロム、ヨウ化クロムが挙げられる。
錫の化合物としては、水酸化錫、酸化錫、蟻酸錫、酢酸錫、塩化錫、臭化錫、ヨウ化錫が挙げられ、鉄の化合物としては、水酸化鉄、酸化鉄、蟻酸鉄、酢酸鉄、塩化鉄、臭化鉄、ヨウ化鉄が挙げられ、ニッケルの化合物としては、水酸化ニッケル、酸化ニッケル、塩化ニッケル、蟻酸ニッケル、酢酸ニッケル、臭化ニッケル、ヨウ化ニッケルが挙げられ、コバルトの化合物としては水酸化コバルト、酸化コバルト、塩化コバルト、蟻酸コバルト、酢酸コバルト、臭化コバルト、ヨウ化コバルトが挙げられる。
銅の化合物としては水酸化銅、酸化銅、塩化銅、硫酸銅、リン酸銅、炭酸銅、蟻酸銅、酢酸銅、シュウ酸銅、臭化銅、ヨウ化銅が挙げられ、金の化合物としては、塩化金、塩化金酸、臭化金、ヨウ化金、亜硫酸金、チオ硫酸金、シアン化金、シンア化金カリウム、シアン化金ナトリウムが挙げられ、銀の化合物としては、水酸化銀、酸化銀、硝酸銀、ヨウ化銀、臭化銀、コハク酸イミド銀、ヒダントイン銀、シアン化銀、シアン化銀カリウム、シアン化銀ナトリウムが挙げられ、白金の化合物としては、塩化白金、塩化白金酸が挙げられる。
パラジウムの化合物としては、水酸化パラジウム、酸化パラジウム、塩化パラジウム、塩化パラジウム酸、ヨウ化パラジウム、硫酸パラジウムが挙げられ、ロジウムの化合物としては、水酸化ロジウム、酸化ロジウム、塩化ロジウム、塩化ロジウム酸、ヨウ化ロジウム、硫酸ロジウムが挙げられ、ルテニウムの化合物としては、水酸化ルテニウム、酸化ルテニウム、塩化ルテニウム、塩化ルテニウム酸、ヨウ化ルテニウム、硫酸ルテニウム等が挙げられる。
本発明の表面処理剤は、上記テトラゾール誘導体、あるいはこれにさらに金属または金属化合物を有効成分とする溶液として供される。溶液は、水溶液が好ましい。
本発明の表面処理剤は、そのpHを1〜14、好ましくは2〜12とする。この範囲外では成膜性が低く、良好な特性が出ない。
また、本発明の表面処理剤を使用して、金属を表面処理する温度は、5〜90℃、好ましくは10〜70℃である。5℃より低温では成膜性が低く、良好な特性が出ない。また90℃を超えるても作業性が悪くなるだけでメリットがない。
表面処理方法としては、一般的な処理方法を用いることができ、例えば浸漬処理や刷毛塗り等で表面に付与した後に溶媒を揮発させる方法が挙げられるが、これらに限定するものではなく、表面に均一に表面処理剤を付着させる方法であればよい。
また、表面処理時間は、0.1〜300秒、好ましくは10〜120秒である。0.1秒以下では成膜性が低く、良好な特性が出ない。300秒を超えて処理時間を長くしても特にメリットはない。
本発明の表面処理剤は、金属表面に付与されて、その耐熱性、耐湿性、樹脂との密着性、はんだ濡れ性を向上することができる。本発明の表面処理剤により処理できる金属としては、特に制限はなく、銅、銀、金、鉄、ニッケル、錫あるいはそれらの合金表面を処理することができるが、特に好ましいのは銅または銅合金である。
以下に、本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。
下記表に示す表面処理剤の水溶液に、100mm×100mm、厚さ70μmの圧延銅生箔を浸漬して表面処理し、その後適当なサイズに切断したものを試験片として以下の試験を行った。
はんだ濡れ性試験については、プリント配線板を表面処理剤溶液に浸漬して表面処理した後、試験を行った。
表面処理の結果は、以下の基準で評価した。
外観:
処理ムラ等の外観不良がないものを○、外観不良のあるものを×とした。
耐湿性:
40℃、湿度90%の環境下に、96時間放置後の銅箔表面の有無を目視で観察し、変色のないものを○、変色したものを×とした。
耐熱性:
オーブン中で170、1時間加熱後の銅箔の変色の有無を目視で観察し、変色のないものを○、変色したものを×とした。
樹脂密着性1:
エポキシモールディング樹脂との密着性(せん断強度)が10kgf/cm2以上のものを○、未満のものを×とした。
樹脂密着性2:
ポリイミドカバーフィルムとの密着性(90度ピール強度)が0.5kgf/cm以上のものを○、未満のものを×とした。
はんだ濡れ性:
40℃、湿度90%の環境下に96時間放置後、175℃、6時間加熱したプリント配線板(銅回路幅0.8)をポストフラックス(Rタイプ)処理し、銅回路部に0.6mmφの錫鉛共晶はんだボールを搭載し、リフローさせた後、はんだ濡れ長さが3mm以上のものを○、2mm以上のものを△、2mm未満であるものを×とした。
本発明の表面処理剤によれば、金属の耐湿性、耐熱性、樹脂密着性、はんだ濡れ性を向上することができる。

Claims (1)

  1. 下記の一般式で表されるテトラゾール誘導体及び/又はその塩、及び金属化合物を含有する金属の表面処理剤であって、前記金属化合物が亜鉛、マンガン、クロム、錫、ニッケル、コバルト、銅、金、銀、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウムの各化合物からなる群から選択され、かつ前記表面処理される金属が銅、銀、金、鉄、ニッケル、錫あるいはそれらの合金から選択されることを特徴とする金属の表面処理剤。
    (式中、R1,R2はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数10以下のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、ベンジル基またはこれらにハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基が付加した基、または、アミノ基、メルカプト基、水酸基、カルボキシル基を示し、R3は、結合、または炭素数10以下のアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、アラルキレン基、または、これらにハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基、アゾ基、スルフィド基、ジスルフィド基が付加した基、または、アゾ基(−N=N−)、スルフィド基(−S−)、ジスルフィド基(−S−S−)を示す。)
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Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1795296B1 (en) 2004-08-31 2014-08-06 Senju Metal Industry Co., Ltd. Copper land-soldering flux
JP5259143B2 (ja) * 2006-09-07 2013-08-07 エスケー化研株式会社 抗菌剤
US9045380B1 (en) * 2007-10-31 2015-06-02 Tk Holdings Inc. Gas generating compositions
TWI453301B (zh) * 2007-11-08 2014-09-21 Enthone 浸鍍銀塗層上的自組分子
US8057587B2 (en) * 2008-05-12 2011-11-15 Michael Beeck Composition for coloring solder
US8608931B2 (en) * 2009-09-25 2013-12-17 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Anti-displacement hard gold compositions
US8236204B1 (en) 2011-03-11 2012-08-07 Wincom, Inc. Corrosion inhibitor compositions comprising tetrahydrobenzotriazoles solubilized in activating solvents and methods for using same
US8236205B1 (en) 2011-03-11 2012-08-07 Wincom, Inc. Corrosion inhibitor compositions comprising tetrahydrobenzotriazoles and other triazoles and methods for using same
JP5722134B2 (ja) * 2011-06-23 2015-05-20 オリンパスイメージング株式会社 光学機器
US20130186764A1 (en) * 2012-01-19 2013-07-25 Kesheng Feng Low Etch Process for Direct Metallization
JP5940843B2 (ja) * 2012-03-14 2016-06-29 四国化成工業株式会社 銅または銅合金の表面処理剤およびその利用
US9309205B2 (en) 2013-10-28 2016-04-12 Wincom, Inc. Filtration process for purifying liquid azole heteroaromatic compound-containing mixtures
EP3077573B1 (en) 2013-12-02 2019-07-10 Ecolab USA Inc. Tetrazole based corrosion inhibitors
US20160122562A1 (en) * 2014-10-29 2016-05-05 C3Nano Inc. Stable transparent conductive elements based on sparse metal conductive layers
WO2016191672A1 (en) 2015-05-28 2016-12-01 Ecolab Usa Inc. 2-substituted imidazole and benzimidazole corrosion inhibitors
CN107614497B (zh) 2015-05-28 2021-08-03 艺康美国股份有限公司 腐蚀抑制剂
EP3314038B1 (en) 2015-05-28 2021-12-29 Ecolab Usa Inc. Purine-based corrosion inhibitors
EP3303655A4 (en) 2015-05-28 2019-02-27 Ecolab Usa Inc. WATER-SOLUBLE PYRAZOLE DERIVATIVES AS CORROSION INHIBITORS
CN109804439B (zh) 2016-10-14 2022-02-11 C3内诺公司 经稳定化的稀疏金属导电膜及用于稳定化合物的递送的溶液

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3408307A (en) 1966-02-10 1968-10-29 Nalco Chemical Co Inhibiting corrosion of copper with tetrazoles
CH623600A5 (ja) 1976-07-16 1981-06-15 Ciba Geigy Ag
JP2686168B2 (ja) 1989-11-13 1997-12-08 四国化成工業株式会社 銅及び銅合金の表面処理方法並びにはんだ付用表面処理剤
JP2550436B2 (ja) 1990-10-23 1996-11-06 株式会社ジャパンエナジー 銅の変色防止液
JPH04206681A (ja) 1990-11-30 1992-07-28 Hitachi Ltd 印刷配線板の表面処理方法及び印刷配線板
JP2575242B2 (ja) 1991-07-17 1997-01-22 タムラ化研株式会社 プリント配線板用表面保護剤
CN1071762A (zh) * 1991-10-21 1993-05-05 王祥琪 一种用于彩色印像中的黄、品、青感光乳剂及其制作方法
JP3141145B2 (ja) 1992-12-18 2001-03-05 大塚化学株式会社 防錆剤
JP3367743B2 (ja) 1994-03-08 2003-01-20 四国化成工業株式会社 銅及び銅合金の表面処理剤
JP3394796B2 (ja) * 1993-07-20 2003-04-07 東洋化成工業株式会社 5,5′−ビ−1h−テトラゾ−ル塩類の製造方法
JP2902281B2 (ja) * 1993-11-24 1999-06-07 千代田ケミカル株式会社 水溶性金属防食剤
US5925174A (en) * 1995-05-17 1999-07-20 Henkel Corporation Composition and process for treating the surface of copper-containing metals
JPH08311658A (ja) * 1995-05-17 1996-11-26 Nippon Parkerizing Co Ltd 銅系金属材料の表面処理用組成物
TW428018B (en) 1995-06-29 2001-04-01 Ciba Sc Holding Ag Aminosilane salts and silanamides of carboxylic acids as corrosion inhibitors
JP3373356B2 (ja) 1996-04-19 2003-02-04 株式会社ジャパンエナジー 銅又は銅合金の変色防止液及び変色防止方法並びにそれを適用してなる電子部品材料
JPH10246962A (ja) * 1997-03-05 1998-09-14 Hitachi Chem Co Ltd ケミカルミーリング用感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
JP3909920B2 (ja) * 1997-07-24 2007-04-25 メック株式会社 銅および銅合金の表面処理法
US6160134A (en) 1997-12-24 2000-12-12 Bristol-Myers Squibb Co. Process for preparing chiral cyclopropane carboxylic acids and acyl guanidines
TW470785B (en) 1998-02-03 2002-01-01 Atotech Deutschland Gmbh Process for preliminary treatment of copper surfaces
JP4450881B2 (ja) 1998-12-28 2010-04-14 株式会社日本ファインケム 5,5’−ビ−1h−テトラゾール塩の製造方法
JP2000282033A (ja) * 1999-01-25 2000-10-10 Harufusa Hiuga 金属表面処理剤及び金属層の表面処理方法
JP2000256332A (ja) * 1999-03-11 2000-09-19 Japan Hydrazine Co Inc 5,5’−ビ−1h−テトラゾール塩の製造法
JP2002543294A (ja) 1999-05-03 2002-12-17 ベッツディアボーン・インコーポレーテッド 水性系における腐食を禁止するための方法及び組成物
KR20020048419A (ko) * 1999-09-27 2002-06-22 고지마 아끼로, 오가와 다이스께 염기성 금속 질산염, 그 제조법 및 가스 발생제 조성물
US6517647B1 (en) * 1999-11-23 2003-02-11 Daicel Chemical Industries, Ltd. Gas generating agent composition and gas generator
JP2001348377A (ja) 2000-06-05 2001-12-18 Japan Hydrazine Co Inc 高純度5,5’−ビ−1h−テトラゾールジアンモニウム塩の製造方法
JP4687852B2 (ja) 2001-06-25 2011-05-25 三菱瓦斯化学株式会社 銅および銅合金の表面処理剤
US6818313B2 (en) * 2002-07-24 2004-11-16 University Of Dayton Corrosion-inhibiting coating
JP4368161B2 (ja) 2003-08-08 2009-11-18 日鉱金属株式会社 銅、銅合金の表面処理剤

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