JP4684647B2 - パターン形成方法及びパターン形成装置 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 53
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 121
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 98
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 71
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 claims description 62
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 50
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 40
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 40
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 30
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 28
- 238000003854 Surface Print Methods 0.000 claims description 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 78
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 24
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 23
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 13
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 10
- 230000009471 action Effects 0.000 description 9
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical compound C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 2
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 229920000896 Ethulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001859 Ethyl hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012753 anti-shrinkage agent Substances 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 235000019326 ethyl hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 235000015096 spirit Nutrition 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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Description
請求項1は、形成されるパターンの焦点距離と同じ厚みを有する基材の表面に形成されたパターン形成用区画線間に、このパターン形成用区画線を形成する樹脂に対して相溶性の小さな、または実質的に相溶性のないパターン形成用樹脂組成物を、前記パターン形成用区画線が形成された前記表面が下に向いた状態に前記基材を圧胴に装着して前記表面を下に向けた状態で前記圧胴の下部に配置されたブランケット胴で塗工し、基材の下に向けられた表面にパターン形成用樹脂組成物が保持された状態に維持することによりパターン形成用区画線間にあるパターン形成用樹脂組成物を下に凸状の形状にし、下に凸状の形状になっているその前記パターン形成用樹脂組成物を硬化させることによりパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法であり、
請求項2は、形成されるパターンの焦点距離と同じ厚みを有する基材の表面に第1下塗り層を形成し、次いで、前記第1下塗り層の表面に所定間隔を設けて第2下塗り層を形成し、前記第1下塗り層および前記第2下塗り層を有する前記表面が下に向いた状態に前記基材を圧胴に装着して前記表面を下に向けた状態で前記圧胴の下部に配置されたブランケット胴で、前記第1下塗り層に対して相溶性が小さな、または実質的に相溶性がなく、前記第2下塗り層には相溶性のあるパターン形成用樹脂組成物を塗工し、下に向けられた第2下塗り層にパターン形成用樹脂組成物が保持された状態に維持することにより第2下塗り層に保持されたパターン形成用樹脂組成物を下に凸状の形状にし、下に凸状の形状になっているその前記パターン形成用樹脂組成物を硬化させることによりパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法であり、
請求項3は、前記パターンが凸レンズである前記請求項1又は2に記載のパターン形成方法であり、
請求項4は、形成されるパターンの焦点距離と同じ厚みを有する基材を装着して搬送する圧胴及び前記圧胴の下部に配置されたブランケットを備え、前記圧胴に装着された前記基材の表面を下に向けた状態で、前記ブランケット胴で前記基材の下向きの表面にパターン形成用樹脂組成物を塗工するパターン形成用樹脂組成物塗工部と、下方に向けられた基材の表面に塗工されたパターン形成用樹脂組成物を基材の下側の面に保持された状態で移送されてきたその基材におけるパターン形成用樹脂組成物を硬化させることによりパターンを形成する硬化部とを備え、基材の上側の面に印刷をする上面印刷部を備えていないことを特徴とするパターン形成装置であり、
請求項5は、前記パターンが凸レンズである前記請求項4に記載のパターン形成装置である。
この発明の一例に係るパターン形成方法は、(1)基材の表面を下に向けた状態のままでパターン形成用樹脂組成物をその基材の表面に塗工する工程、(2)パターン形成用樹脂組成物が塗工された基材の表面を下に向けた状態を維持する工程、及び(3)基材の下側の面に所定のパターンに形成されたパターン形成用樹脂組成物を硬化する工程を有する。
この第1の工程は、基材の表面に、その表面を下に向けた状態で、パターン形成用樹脂組成物を塗工する工程である。
この第2の工程は、パターン形成用樹脂組成物が塗工された基材の下側の面を下側に向けられることによって塗工されたパターン形成用樹脂組成物が懸垂された状態を維持する工程である。要するに、この第2の工程は、懸垂されたパターン形成用樹脂組成物を所定の時間懸垂状態に維持する工程である。この工程では、下側に向けられたパターン形成面に塗工されたパターン形成用樹脂組成物がパターン形成区画線によりはじかれて、塗工されたパターン形成用樹脂組成物が重力の作用によりカテナリー又はカテナリー用の曲面を形成するに必要な時間をかけてパターン形成用樹脂組成物が懸垂状態に維持される。塗工されたパターン形成用樹脂組成物を懸垂状態に維持し続ける時間としては、通常0.1秒〜6秒くらいである。もっとも、前記時間は6秒を上回る時間であってもよいのであるが、長くするほどの利点は特にない。
この第3の工程では、基材の下側の面に所定のパターン、たとえばレンチキュラーレンズ状に形成されたパターン形成用樹脂組成物を硬化する。
この発明の方法を実施する一例としてのパターン形成装置における主要部を、模式的に図15に示す。図15に示されるように、パターン形成装置9は、基材の下側の面を下に向けた状態で、前記基材の下側の面にパターン形成用樹脂を塗工するパターン形成用樹脂塗工部10と、パターン形成用樹脂が塗工された基材を、塗工面を下側に向けた状態で移動させる基材移送部11と、基材の下側の面に塗工されたパターン形成用樹脂を硬化させることによりパターンを形成する硬化部12とを備える。また、前記パターン形成用樹脂塗工部10には、パターン形成区画線塗工部20が前置される。
<第2の形態>
この第2の形態であるパターン形成方法が前記第1の形態であるパターン形成方法と相違するところは、前記第1の形態における「基材の表面に形成されたパターン形成用区画線間に、このパターン形成用区画線を形成する樹脂に対して相溶性の小さな、または実質的に相溶性のないパターン形成用樹脂組成物を、前記パターン形成用区画線が形成された基材の表面を下に向けた状態で塗工する」第1の工程の代わりに、(1)基材の表面に第1下塗り層を形成する第1の工程、(2)前記第1下塗り層の表面に所定間隔を設けて第2下塗り層を形成する第2の工程、及び(3)前記第1下塗り層および第2下塗り層を有する基材の表面を下に向けた状態で、前記第1下塗り層には相溶性がなく、第2下塗り層には相溶性のあるパターン形成用樹脂組成物を塗工する第3の工程を有することである。この第2の形態であるパターン形成方法における(3)パターン形成用樹脂組成物が塗工された基材の表面を下に向けた状態を維持する工程、及び(4)基材の下側の面に所定のパターンに形成されたパターン形成用樹脂組成物を硬化する工程は、前記第1の形態であるパターン形成方法における(2)パターン形成用樹脂組成物が塗工された基材の表面を下に向けた状態を維持する工程、及び(3)基材の下側の面に所定のパターンに形成されたパターン形成用樹脂組成物を硬化する工程と同様である。
2 立体視画像
3 パターン
4 第1下塗り層
4A 第1下塗り層
5 パターン形成区画線
6 パターン形成用樹脂組成物
7 パターン
8 パターン
9 パターン形成装置
9A パターン形成装置
10 パターン形成用樹脂塗工部
11 基材移送部
12 硬化部
13 圧胴
14 ブランケット胴
15 ローラ
16 枚葉紙
16A 枚葉紙
17 搬送胴
20 パターン形成区画線塗工部
21 ローラ
22 区画線転写ローラ
23 送り第1ローラ
24 第1下塗り層形成部
25 第2下塗り層形成部2
26 ローラ
27 ローラ
28 送りローラ
29 送りローラ
Claims (5)
- 形成されるパターンの焦点距離と同じ厚みを有する基材の表面に形成されたパターン形成用区画線間に、このパターン形成用区画線を形成する樹脂に対して相溶性の小さな、または実質的に相溶性のないパターン形成用樹脂組成物を、前記パターン形成用区画線が形成された前記表面が下に向いた状態に前記基材を圧胴に装着して前記表面を下に向けた状態で前記圧胴の下部に配置されたブランケット胴で塗工し、基材の下に向けられた表面にパターン形成用樹脂組成物が保持された状態に維持することによりパターン形成用区画線間にあるパターン形成用樹脂組成物を下に凸状の形状にし、下に凸状の形状になっているその前記パターン形成用樹脂組成物を硬化させることによりパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。
- 形成されるパターンの焦点距離と同じ厚みを有する基材の表面に第1下塗り層を形成し、次いで、前記第1下塗り層の表面に所定間隔を設けて第2下塗り層を形成し、前記第1下塗り層および前記第2下塗り層を有する前記表面が下に向いた状態に前記基材を圧胴に装着して前記表面を下に向けた状態で前記圧胴の下部に配置されたブランケット胴で、前記第1下塗り層に対して相溶性が小さな、または実質的に相溶性がなく、前記第2下塗り層には相溶性のあるパターン形成用樹脂組成物を塗工し、下に向けられた第2下塗り層にパターン形成用樹脂組成物が保持された状態に維持することにより第2下塗り層に保持されたパターン形成用樹脂組成物を下に凸状の形状にし、下に凸状の形状になっているその前記パターン形成用樹脂組成物を硬化させることによりパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。
- 前記パターンが凸レンズである前記請求項1又は2に記載のパターン形成方法。
- 形成されるパターンの焦点距離と同じ厚みを有する基材を装着して搬送する圧胴及び前記圧胴の下部に配置されたブランケットを備え、前記圧胴に装着された前記基材の表面を下に向けた状態で、前記ブランケット胴で前記基材の下向きの表面にパターン形成用樹脂組成物を塗工するパターン形成用樹脂組成物塗工部と、下方に向けられた基材の表面に塗工されたパターン形成用樹脂組成物を基材の下側の面に保持された状態で移送されてきたその基材におけるパターン形成用樹脂組成物を硬化させることによりパターンを形成する硬化部とを備え、基材の上側の面に印刷をする上面印刷部を備えていないことを特徴とするパターン形成装置。
- 前記パターンが凸レンズである前記請求項4に記載のパターン形成装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004381233A JP4684647B2 (ja) | 2004-12-28 | 2004-12-28 | パターン形成方法及びパターン形成装置 |
EP05822523A EP1844921A4 (en) | 2004-12-28 | 2005-12-27 | PATTERN FORMATION METHOD AND PATTERN FORMING APPARATUS |
CN2005800449908A CN101115611B (zh) | 2004-12-28 | 2005-12-27 | 图案形成方法及图案形成装置 |
PCT/JP2005/023868 WO2006070791A1 (ja) | 2004-12-28 | 2005-12-27 | パターン形成方法及びパターン形成装置 |
US11/793,969 US7776402B2 (en) | 2004-12-28 | 2005-12-27 | Method for pattern formation and apparatus for pattern formation |
HK08105612.9A HK1117099A1 (en) | 2004-12-28 | 2008-05-21 | Method for pattern formation and apparatus for pattern formation |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004381233A JP4684647B2 (ja) | 2004-12-28 | 2004-12-28 | パターン形成方法及びパターン形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006181554A JP2006181554A (ja) | 2006-07-13 |
JP4684647B2 true JP4684647B2 (ja) | 2011-05-18 |
Family
ID=36614904
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004381233A Expired - Fee Related JP4684647B2 (ja) | 2004-12-28 | 2004-12-28 | パターン形成方法及びパターン形成装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7776402B2 (ja) |
EP (1) | EP1844921A4 (ja) |
JP (1) | JP4684647B2 (ja) |
CN (1) | CN101115611B (ja) |
HK (1) | HK1117099A1 (ja) |
WO (1) | WO2006070791A1 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7887722B1 (en) | 2008-05-22 | 2011-02-15 | Inx International Ink Co. | Method for transferring holographic and other microstructure or refractive images onto a web-carried resin coating in registration with printing on the web |
WO2009013897A1 (ja) * | 2007-07-24 | 2009-01-29 | Grapac Japan Co., Inc | 凹凸画像形成物及び画像形成物、並びに、これらを形成する装置及び形成方法 |
US7609451B1 (en) * | 2008-02-05 | 2009-10-27 | Serigraph, Inc. | Printed article for displaying images having improved definition and depth |
US8857028B2 (en) | 2008-07-08 | 2014-10-14 | 3M Innovative Properties Company | Processes for producing optical elements showing virtual images |
JP5429615B2 (ja) * | 2008-12-12 | 2014-02-26 | Nltテクノロジー株式会社 | レンズシートおよび表示パネル |
JP2010224201A (ja) * | 2009-03-24 | 2010-10-07 | Fujifilm Corp | レンチキュラープリント形成方法 |
JP5805928B2 (ja) * | 2009-12-09 | 2015-11-10 | チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド | マイクロレンズアレイシートおよびその製造方法 |
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EP2431300A1 (en) | 2010-09-16 | 2012-03-21 | Philip Morris Products S.A. | Container having transparent optical element |
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-
2004
- 2004-12-28 JP JP2004381233A patent/JP4684647B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-12-27 WO PCT/JP2005/023868 patent/WO2006070791A1/ja active Application Filing
- 2005-12-27 US US11/793,969 patent/US7776402B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-12-27 EP EP05822523A patent/EP1844921A4/en not_active Withdrawn
- 2005-12-27 CN CN2005800449908A patent/CN101115611B/zh not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-05-21 HK HK08105612.9A patent/HK1117099A1/xx not_active IP Right Cessation
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1844921A1 (en) | 2007-10-17 |
HK1117099A1 (en) | 2009-01-09 |
WO2006070791A1 (ja) | 2006-07-06 |
CN101115611A (zh) | 2008-01-30 |
JP2006181554A (ja) | 2006-07-13 |
CN101115611B (zh) | 2010-12-15 |
US20080095934A1 (en) | 2008-04-24 |
EP1844921A4 (en) | 2011-11-09 |
US7776402B2 (en) | 2010-08-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100709 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100906 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110209 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140218 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4684647 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |