JP4451194B2 - 液体ワイピング装置 - Google Patents
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
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Description
2 溶融金属ポット
3 シンクロール
4 トップロール
5 めっき厚さ制御装置
6 ブレードワイパー
7 静圧パッド式圧力付加手段
7a 通板方向入側面
7b 通板方向入側面部
8 ストリップ制振手段
10 めっき金属膜
11 チャンバー
12 スリットノズル
13 スリットノズル
14 耐圧壁
15 気体/液体混相流
16 静圧部
20 ヒータ
30 ケーシング
31 ガス圧送手段
イ 低気圧部
ロ 浴面
S スプラッシュ
Claims (12)
- 尖った先端部が帯板に付着した液体と接触して機械的にワイピングするブレードワイパーを備えた液体ワイピング装置において、前記ブレードワイパーの通板方向出側となる側に気体による圧力付加手段を設け、ブレードワイパーと帯板との間の液膜部分に、通板方向に対向する、気体/液体の混相流を形成させるようにしたことを特徴とする液体ワイピング装置。
- 尖った先端部が帯板に付着した液体と接触して機械的にワイピングするブレードワイパーを備えた液体ワイピング装置において、前記ブレードワイパーの通板方向入側となる側に気体による減圧手段を設け、ブレードワイパーと帯板との間の液膜部分に、通板方向に対向する、気体/液体の混相流を形成させるようにしたことを特徴とする液体ワイピング装置。
- 前記ブレードワイパーの角度、浴面からの距離、帯板からの距離のうちの少なくとも一つを変更可能に構成したことを特徴とする請求項1又は2記載の液体ワイピング装置。
- 前記ブレードワイパーを加熱する加熱手段を設けたことを特徴とする請求項1,2又は3記載の液体ワイピング装置。
- 上下に複数の気体噴射用スリットノズルを有し、そのスリットノズル間に静圧をたてることができる静圧パッドの通板方向入側面部をブレードワイパーとしてその尖った先端部で帯板に付着した液体をワイピングする液体ワイピング装置において、前記静圧パッドの先端をワイピング時に液体に接触するように配置し、当該静圧パッドの通板方向入側面と帯板との間の液膜部分に、通板方向に対向する、気体/液体の混相流を形成させるようにしたことを特徴とする液体ワイピング装置。
- 前記静圧パッドの入側面部を別体に形成し、その角度、浴面からの距離、帯板からの距離のうちの少なくとも一つを変更可能に構成したことを特徴とする請求項5記載の液体ワイピング装置。
- 前記静圧パッドの液体接触部を加熱する加熱手段を設けたことを特徴とする請求項5又は6記載の液体ワイピング装置。
- 前記加熱手段として、スリットノズルから噴射する気体を凝固点以上に加熱して供給することを特徴とする請求項7記載の液体ワイピング装置。
- 浴面から前記静圧パッドの下面部までの空間をケーシングで囲繞し、内部を無酸化或いは還元性の雰囲気に保つ様にしたことを特徴とする請求項5,6,7又は8記載の液体ワイピング装置。
- 前記ケーシング内の無酸化或いは還元性の気体を循環させた後、昇圧して静圧パッドのスリットノズルから噴射することを特徴とする請求項9記載の液体ワイピング装置。
- 前記スリットノズルのスリット間隙を任意の幅方向の位置で変更可能にしたことを特徴とする請求項5,6,7,8,9又は10記載の液体ワイピング装置。
- 前記ブレードワイパーの角度(θ)を45°より小さく設定したことを特徴とする請求項1,2,3,4,5,6,7,8,9,10又は11記載の液体ワイピング装置。
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