JP4444102B2 - 改良された試験特性を有する光電子デバイスの制御装置 - Google Patents

Description

本発明は、光電子デバイスを試験すること及び試験のために改良された光電子デバイスとに関するものである。ここでは、光電子デバイスは、ピクセル（画素）を有するディスプレイデバイスの形態を備える。詳述すれば、本発明は、光電子デバイス駆動用の駆動電子装置、試験用接触領域、および光電子デバイス、特に、ピクセルを有するディスプレイの形態を備えたもの、を試験するための方法に関する。

陰極線管なしのディスプレイエレメントに対する需要の増大と共に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）およびその他、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）のようなスイッチングエレメントを用いるディスプレイエレメントに対する要求が増加している。これらディスプレイエレメントでは、いわゆるピクセルがマトリクス状に配列されている。

一般に、各ピクセルのスイッチングエレメントは、制御ライン、すなわちゲートライン、およびデータラインを介して駆動される。ピクセルエレメントの帯電を避けるため、製造工程で、短絡バーを介して制御ラインを短絡することができる。他方、ピクセルエレメントの帯電はスイッチングエレメントまたは対応するピクセルの破壊を引き起こすかもしれない。

更に、ピクセルエレメントに加えて、周辺駆動回路をガラス基板に直接適用するような開発が進行中である。このように、ディスプレイエレメントの外部駆動は簡素化されている。このような集積駆動回路を有するディスプレイ試験装置は特許文献１「DE 198 32 297」に記述されている。この文献では、画像制御のために必要な接触領域の数を低減することができる。このような駆動回路なしでは、各制御ラインは、動作中の画像制御を配慮した接触可能領域を持たねばならない。外部制御により接触可能な領域はまた「パッド」と呼ばれる。

高画質の確保には、例えば数百万画素のうち非常に少数のみを欠陥として許容できる。低コスト製造のため、効率よいオンラインによる試験方法を提供することは、特にこれまでの大型ディスプレイエレメントにとって、大変重要である。このような試験方法は、例えば、特許文献２「EP 0 523 584号」に開示されている。この試験方法において、個別のピクセルは極小ビームによって試験される。その極小ビームは、ラインを介して印加された電荷の検出と画素電極への電荷印加とのいずれかまたは両方に用いられる。

特許文献３「US 5,081,687号（ヘンリー他）」はＬＣＤディスプレイ試験のための方法と試験装置とを記載している。その中では、各第２データラインと各第２ゲートラインとが短絡バーで接続されている。一つの試験画像は短絡バーを駆動することにより発生している。試験中、試験画像を形成するため、例えば−５Ｖの電圧が各第２画素の電極に用いられ、かつ、例えば＋５Ｖの電圧が中間画素の電極に用いられる。このような短絡バーは、駆動回路の出力を短絡するという障害のため、集積駆動回路に備えられることはない。

特許文献４「US 5,936,687号（リー他）」は、駆動回路を利用して、試験画像を発生するため、接触パッドを用いている。この接触パッドは、静電電荷（ＥＳＤ）を避けるため、回路と接続されている。この回路は、個別のピクセルエレメントを駆動するため、ダイオードを介してラインに接続される短絡バーを備える。特許文献５「US 6,337,772号（ハー他）」において、トランジスタは、短絡回路を制御ラインと接続するために用いられる。

DE 198 32 297 EP 0 523 584号公報 US 5,081,687号公報 US 5,936,687号公報 US 6,337,772号公報

もし試験画像が駆動回路と接続された短絡バーを介して生成されるならば、次の条件が履行されねばならない。駆動回路が試験の際に集積されていないか、または、集積回路の出力端子が試験信号と相互接続するようには形成されていないかの何れかである。多くの場合、この条件は実現されることがない。

更に、下記が考慮されねばならない。短絡バーは、プロセス、スペース、または回路構成を理由に常に実現されるとは限らない。駆動回路の機能もまた、試験によりこのような解決を得られない。更に、簡素なテストパターンのみを発生することができる一方、上記テストパターンの周期的な反復ユニットセルを短絡バーの数より大きくはできない。

もし、試験画像の発生に通常動作の際に用いられるパッド、特に大型ディスプレイエレメント用のパッドを用いるならば、試験の間、複数の接触領域は接触していなければならない。このことは、大型ディスプレイエレメントが試験継続中に切替えされねばならないので、大型ディスプレイエレメントを試験する際に困難である。小型ディスプレイに対しては、小型ディスプレイエレメントがガラス上に配備されるので、この場合でもまた、ガラス板は、試験遂行中に繰り返し切替えされねばならない。こうして、増加する要求事項は、接触ブロックに求められる。接触ブロックは、駆動回路の接触領域に入力される外部信号、または、データライン若しくはゲートラインまたは対応する短絡バーに入力される外部信号のために用いられる。

上述した従来の問題点は、請求項１に記載された発明の駆動電子装置、請求項１１に記載された発明の試験用接触領域配列、請求項１８および２６に記載された発明の光電子デバイスにより、また同様に、請求項１９に記載された発明の試験方法または請求項２５に記載された発明の製造方法により解決される。

本発明の一つの態様によれば、その目的は、画素を有する光電子デバイス駆動用の駆動電子装置により達せられている。その駆動電子装置は入力端子と出力端子とを持つ駆動回路を有している。これに加えて、駆動電子装置は、駆動回路に接続する第１の接触領域配列と駆動回路に接続する第２の接触領域配列とを備える。両方の接触領域配列は駆動回路の入力端子に接続されていることが好ましい。

更に、第１の接触領域配列は第１接触領域を有し、第２の接触領域配列は第２接触領域を有する。第２の接触領域配列の第２接触領域は第１の接触領域配列の第１接触領域より大きなことが好ましい。

本発明は、第２の接触領域配列を介した試験行為を目的として十分に複雑なテストパターンを発生させている。試験行為目的のためには、通常動作と比較して複雑でないパターンを除き、任意の画像が発生されるべきではない。それ故、テストパターンを発生する接触領域の数は通常動作中における任意画像を発生する接触領域の数と比較して低減できる。この接触領域数の低減は、接触領域を拡大できることを許容する。従って、確実な、より迅速な、かつより効果的な流儀でディスプレイエレメントを試験することができる。

その駆動電子装置は、駆動回路試験用の接触領域配列を接続する駆動回路の入力端子数が、ディスプレイマトリクスの画素への制御ラインを駆動回路と接続する駆動回路の出力端子数の、５％以下、好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下になるように設計されることが望ましい。

本発明の別の態様によれば、発明の目的は、テストパターン生成用の信号を供給する光電子デバイスを備えるための試験用接触領域配列によって解決される。その光電子デバイスは、画素マトリクスを備えている。この配列は、少なくとも一つのパッド、すなわち少なくとも一つの連結領域と、一つの駆動回路に対するその少なくとも一つのパッドの接続とを有し、その駆動回路は、通常動作の間に稼動する接触領域配列を介して信号が供給される。

本発明の更に別の態様によれば、発明の目的は、画素マトリクスを有する光電子デバイス、少なくとも一つの駆動回路、駆動回路と接続される第１の接触領域配列、及び駆動回路と接続される第２の接触領域配列によって解決される。

発明の目的を解決する更なる態様は、光電子デバイスを試験するための下記ステップを有する方法である。そのステップは、外部制御と接触領域配列との間を接触させること、画素マトリクス上にテストパターンを発生する接触領域配列を介して駆動回路の入力端子に入力信号を供給すること、及び画素マトリクスの画素を試験することである。

本発明の目的を解決する更なる態様は、画素マトリクスを有する光電子デバイスとしての駆動電子装置を製造する方法に関する。ここで、以下のステップが実行される。すなわち、駆動回路を基板に供給すること、画素マトリクスの制御ラインを駆動回路の出力端子に接続すること、第１の接触領域配列を基板に供給すること、第１の接触領域配列を駆動回路の入力端子と接続すること、第２の接触領域配列を基板に供給すること、第２の接触領域配列を駆動回路の入力端子と接続すること、である。

発明の好ましい実施態様と特別態様とは従属項から明白である。

発明の実施態様は図示されており下記図面の簡単な説明で説明される。

図５は従来態様の一例を示す図である。その中で、ディスプレイエレメント１０の概略図が示されている。個々の画素３０は、画素を駆動するための制御ライン１３を介して駆動回路１２と接続される。通常動作中、駆動回路は、接触領域１４を介して外部に信号を供給する。図５において、五つの接触領域１４のみが象徴的に図示されている。しかしながら、これら数百の接触領域は、駆動回路に信号を供給するため大型のディスプレイエレメントを必要とするであろう。

制御ライン１３はスイッチングエレメント２２を介して短絡回路と接続される。静電電化（ＥＳＤ）に対するこの短絡回路は、過電圧に対する予防と通常動作電圧を供給することを許容するか、さもなければ、試験および通常動作の間、接触領域２０によりスイッチオフできる。データラインとゲートラインとのための短絡回路は、結合回路２４を介して互いに結合されている。すべての上述したエレメントはガラス基板上に集積されている。

この従来の態様は次の欠点を有する。オンライン試験方法のためのテストパターンは駆動回路の接触領域１４を介して生成される。これらの接触領域はその数に従って非常に小さいので、試験処理の間の接触が困難である。このことは、大型ディスプレイエレメントに特に当てはまる。大型ディスプレイエレメントは、大型なので機構による切替えが試験処理中に遂行されねばならないためである。このような切替えは、もし、例えば粒子ビームの偏向が全ディスプレイを試験するには不十分であるならば、必要かも知れない。例えば８０μｍの大きさを有する多数の接触領域に対しては、間違った接触による誤った試験を避けるため、高度の先進接触技術が採用されるべきである。技術的な要求は、ディスプレイの大きさが例え試験中の切替えを必要とするとしても、さらに増加する。

コスト効果のある試験のため、高速がさらに実現されねばならない。さらに、接触機構への追加要求が試験方法に求められる。これを考慮すると、その要求は従来の技術では実施できないことが明らかになっている。さらに、例えば、粒子ビームを有する試験のための接触機構への要求は、真空環境内での使用であり、電子ビームまたは計測信号を妨げない低磁界の発生であり、そして粒子ビームのための画素マトリクス領域へのフリーアクセスである。

図１ａから図４までを参照して本発明による好ましい形態および実施態様について此処に説明する。

図１ａは、例えば携帯電話、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、またはテレビジョン（ＴＶ）セットのために用いられるような、ディスプレイエレメント１００を示す。画素マトリクス１０１の画素はマトリクス状に配列されている。画像発生のために、画素は制御ライン１０３ｘおよび１０３ｙそれぞれを介して駆動される。加えて、駆動回路１０２ｘおよび１０２ｙは、画像生成のための外部駆動を容易にするため基板上に設けられる。画素マトリクス１０１に類する駆動回路もまた、製造の間、基板に適用される。駆動回路は、パッド１０４ｂを介した外部駆動により信号の供給を受ける。それにより、信号は、ライン１０４ａを介し駆動回路に転送される。パッド１０４ｂおよびライン１０４ａは共に接触可能領域を形成する。それらは以下において、次の接触領域としてもまた参照される。

実際には、これら接触領域（１０４ａおよび１０４ｂ）に数百以上までの多くの画素を有する特に大型のディスプレイがある。それ故、これら接触領域は、効果的なそして信頼できる試験行為を保証すべく限定された利用可能な空間に与えられるような満足できる大きさに設計することができない。４インチの大きさ（640Ｘ480画素）のディスプレイ装置を取り上げるならば、従来のこれら接触領域はほぼ「60μｍＸ2000μｍ」の大きさを有する。例えば電子ビームを有するディスプレイエレメントおよび画像マトリクスの各画素それぞれに対する試験の間、以下の項目の遂行が必要である。

最初に、テストパターンが外部駆動により生成される。パッド１０４ｂの接触は確実にかつ信頼できるように遂行されねばならない。電子ビームに関しては、ディスプレイエレメントの大きさに従って、ディスプレイを移動することが必要であろう。高速試験のため、接触行為は継続的に履行する必要があり、または、できる限り迅速にかつ信頼性をもって引離しかつ再接触しなければならない。更に、電子ビームによる試験はもはや不可能なので、接触行為する接触ブロックは、真空状態で機能し、かつ、検出された電子ビームおよび電子それぞれを妨害してはならない。

誤りなくかつ有能な接触行為は、困難か、若しくはこれら境界条件の下では不可能でさえある。それ故、本発明において、試験用の追加接触領域が供給されている。それらは、それらに接続するパッド１０５ｂおよびライン１０５ａを備える。任意画像でなく十分に完備されたパターンのみが試験用に生成されているので、試験用接触領域の数は通常動作中に使用される数と比較して低減できる。動作接触領域数と比較して、試験用接触領域（１０５ａおよび１０５ｂ）の数は、最大９０％、好ましくは最大５０％、更に好ましくは最大２０％までに低減できる。このようにして、例えば大型ディスプレイでは、ほぼ「３０」の試験用接触領域が通常動作の「２００」の接触領域に追加して備えられる。これに対して、通常動作でほぼ「３０」の接触領域を有する小型ディスプレイでは、ほぼ５つの追加試験用接触領域が供給される。

このことから、駆動回路を接触領域１０５の第２配列に接続する駆動回路１０２ｘの入力端子数は、駆動回路を画素１０１のマトリクスの制御ライン１０３ｘに接続する出力端子数の最大５％である。このことは、従来試験中に使用するパッドが制御ラインを介して可能とされる駆動回路の出力端子に接続されることを意味する。代表的には、この駆動回路は制御ラインに連結する短絡バーである。一方、本発明では、試験画像を発生するパッドは、駆動回路の入力端子を介して駆動回路と接続されている。試験用接触領域と駆動回路入力端子との間の接続数は制御ラインと接続する駆動回路の出力端子数と比較して低減される。

それゆえ、一応、試験手順に用いられる接触領域を、パッド１０５ｂが少なくとも１００μｍ、好ましくは少なくとも０．5ｍｍ、かつ特に好ましくは少なくとも２ｍｍの大きさを有するように設計することができる。この大きさとは、拡張方向での最小値と理解されるべきである。従って、大きさとして長方形パッドの短辺の長さとして考慮されねばならない。上述する接触領域の大きさは、信頼性、迅速性および欠陥免除を有する接触行為を可能とする。

図４に参照としてテストパターンの一詳細例を示す。テストパターンの発生に対しては、試験用パッド１０５ｂはライン１０５ａを介して第１の実施例によるライン１０４ａと接続する。ライン１０４ａは通常動作のパッド１０４ｂに使用される。これらの接続を介して一つ以上の試験用パッドは駆動回路１０２ｘおよび１０２ｙの入力端子と接続されている。更に、試験用パッドは、スイッチエレメントまたは構成部品（例えば、ダイオード、トランジスタ、または他の構成部品）を介して正常画像発生のための多重ライン１０４ａに接続することができる。このような接続として、例えば、スイッチエレメントまたは構成要素１２０により図１ｃに示されている。多重ラインを試験用パッドに接続する別のオプションは、接続構造であり、それは通常動作で取り除かれる。このことは、その構造が、例えばガラス分離中、またはエッチ工程により切り離されることを意味する。

従って、本発明はまた、光電子デバイスに関する。光電子デバイスは、例えばディスプレイを形成するもので、本発明による第１および第２の接触領域配列を有する試験方法に、それら配列で遂行される試験方法に、かつ、その試験方法ののちに接続を開放される試験配列のうちの少なくとも一部に、適用される。

試験方法のため専用のパターンがディスプレイ上に発生するので、駆動回路１０２の全入力端子１１０は入力端子のフローティングを避けるため、定義された電位で維持される。本発明によれば、試験用パッド１０５ｂは本発明の骨子から離れることなく試験用接触領域のライン１０５ａを介して動作パッド１０４ｂと接続できる。

図１ｂには、本発明の実施態様による駆動回路１０２ｘの端子が示されている。画像マトリクス１０１（図１ｂに示されていない）のための制御ライン１０３ｘは駆動回路１０２ｘの出力端子と接続される。ライン１０４ａと１０５ａとはそれぞれ駆動回路の入力端子と接続される。

ここで、本発明では、駆動回路の「出力端子」とは、各画素を制御するための制御ラインと接続されている出力端子と理解すべきである。駆動回路の入力端子は、駆動回路に外部信号を供給する端子として考えるべきである。それにより、外部信号は、駆動回路で変換された後、画素の信号として出力端子に結合する制御ライン１０３ｘへ供給される。

図２は、ディスプレイエレメント１００の第２の実施態様を示す概要図である。図１ａに示されると同様または類似の構成要素は、同一の参照符号を付与し、以下の詳細説明を省略する。図１ａと相違して、本実施態様の試験用接触領域（１０５ａおよび１０５ｂ）は、試験用駆動回路２０２ｘおよび２０２ｙそれぞれを介して、駆動回路１０２ｘおよび１０２ｙそれぞれと接続する。

そこで、試験用駆動回路１０２ｘ，１０２ｙは試験用接触領域１０５ａ，１０５ｂから受けた信号を、駆動回路１０２ｘ，１０２ｙのための信号に変換する働きを有する。駆動回路１０２はこれら変換された信号をパターン生成のために処理でき、かつ、制御ライン１０３を介してそれらを供給できる。

いくつかの具現化が試験用駆動回路２０２に対して可能である。一方では、図３で同様な一つの実施例を実現することができる。そこでは、試験用駆動回路は、試験用接触領域のために入力端子を設け、かつ、信号を駆動回路１０２の各接触場所に転送する。

他方、次の実施態様もまた実現可能である。この実施態様では、メモリが、試験用駆動回路２０２内に集積される。一つ以上のテストパターンがそのメモリに貯蔵される。テストパターンの生成は、試験用接触領域１０５を介して供給される外部信号により、開始または停止される。二つ以上のテストパターンが貯蔵されている場合、そのパターンの一つもまた、外部信号により選択される。その試験用駆動回路は、そのテストパターンに必要な信号を駆動回路１０２に転送する。テストパターンは、これらの信号に基づいて発生する。本実施態様によれば、接触領域数、または試験方法に必要なパッド数を、更に低減させることが可能である。テストパターンの生成が単に開始または停止であれば、試験用接触領域の数は、電圧発生用パッドの数に一つの制御パッドを加えるまでに低減できる。

他の実施例によれば、試験駆動回路２０２は、また、多重化回路として用いられる。例えば時間領域における信号の多重化により、少数の試験用パッド１０５ｂを介して複数の信号を供給することができる。それ故、この実施例では、必要とされるバッファまたはタイマの構成要素もまた、一つの駆動回路のチップ上に集積される。

図３に示される実施態様によれば、試験用接触領域１０５は駆動回路の入力端子または駆動回路それぞれに直接接続される。このため、テストパターン生成の入力端子は、駆動回路かまたは試験用駆動回路２０２の何れかに設けられ、図２を参照して説明したように、駆動回路内に集積されるので、単一駆動回路１０２としてそれは考えねばならない。とりわけこの実施態様のためには、駆動回路が試験用パターンを発生する入力端子を有する条件、およびこれら入力端子が試験用接触領域と接続される条件が好ましい。

図３ｂでは、駆動回路１０２における図１ｂと類似する入力端子１１０および出力端子１１２の図３ｂにおける相違点が見出せる。

本発明で実現可能性のあるテストパターンが図４に示されている。

図４は各画素を仕切りとして示す。仕切り内の文字はテストパターン発生中におけるがその電極に適用される電位を符号化している。例えば、画素の異なる配置を二つの電圧「Ｖ1＝−７Ｖ」および「Ｖ2＝＋６Ｖ」として示すことができる。一つの電位に対応する画素AからDまでの何れか一つが試験のセットアップに設定される。例えば、「Ａ＝Ｂ＝Ｃ＝Ｖ1」および「Ｄ＝Ｖ2」を選択することができる。それにより、電位Ｖ2を有する画素Ｄに隣接したそれぞれの画素は、電位Ｖ1を有する。別の選択可能な配置は、例えば、「Ａ＝Ｃ＝Ｖ1」であり「Ｂ＝Ｄ＝Ｖ2」であるような、水平帯として生成させることができる。

図４から明らかなように、このようなテストパターンにより垂直、水平、または対角の方向を周期的に生成することができる。上記実施態様に対して、更に二つ以上の異なる電位を許容することができる。このように、各画素の周囲を、任意の電圧によって、水平、垂直、または対角に対称的に囲むことができる。それ以上の電位を画素自身の電極上に生成することができる。

このようなテストパターン、それは限定した例として理解されるべきではなく、その選択により、画素の電極電位の周期的な調整に基づき、テストパターンのための十分な自由度を開拓することができる。

より複雑なテストパターンでさえもその生成に対して、文字AからＨまでによるパターンを生成することができる。それにより、一つの画素から開始し、異なる電位値をそれぞれの隣接画素に割り当てることができる。

それにもかかわらず、このような周期的パターンを駆動することは、任意画像の生成よりも複雑ではない。それ故、動作接触領域数と比較して試験用接触領域数を低減することができる。このことは、試験方法で用いられる接触領域を広げることが許容される。本発明によれば、このことが接触誤りを低減できるので、結果として試験方法が改良されることになっている。更に、試験されるべきディスプレイに接触する機構を高速用に設計することができる。この適正化により、試験方法を更に進化させることができる。それにより、検査片の処理量を増加させることができる。

以下に述べるように、本発明による上述した実施態様は、発明による試験方法に効果的に適用される。生産コストの低減のため、例えばＬＣＤディスプレイに対して製造工程で誤りチェックの施行が必要である。誤りチェックの間、画素を制御するための、個々の画素および／またはスイッチングエレメントの電極が試験される。この目的のため、電子ビーム若しくはイオンビームのような帯電粒子ビーム（粒子ビーム）、またはレーザビームを用いることができる。以下の説明で、粒子ビームという用語にはレーザビームを含む。レーザビームの粒子は光量子であり、同様に、粒子ビームの粒子はイオン、原子、電子、または他の粒子である。

次に、本発明を限定しない電子ビームを例にして、試験方法について説明する。可能性のある試験方法は、ラインを介して電位を画素電極に帯電させることである。この電位またはやがて生じるその電位の変動を粒子ビームで計測することができる。それにより、回路短絡または接触不良のような欠陥、更には、非励振エレメント（寄生エレメント）およびそれらの大きさも同様に、検出することができる。

別の方法では、画素電極が粒子ビームにより帯電され、その結果の電位が粒子ビームにより計測される。そこで、ラインを駆動することが初期状態および境界状態を決定する。

更に別の方法では、画素電極が粒子ビームにより帯電され、その結果としてラインに流れた電流が計測される。その駆動回路の機能に伴って、そのような電流計測が駆動回路に外部から接触可能なように、駆動回路を設計する必要性がある。

これらのほとんどの方法で、画素のラインに信号を供給することが必要であり、またはラインで信号を計測することが必要である。それ故、ディスプレイエレメントのパッドは外部制御または計測器と接続されねばならない。この接触行為を、本発明による試験装置により改良することができる。

試験方法において、試験されるディスプレイは、空間内に入れられ、電子ビームの下に配置される。電子ビームを使用するため、空間は１０^−４ミリバール以下に減圧しなければならない。更に、接触ブロックは発明による試験用接触領域と接続している。代表的には、接触ブロックは、試験用デバイスとディスプレイの接触領域との間の電気的接続を形成するための機構である。そこで、信号は接触領域に転送される。その信号により、電極すなわち個々の画素電極は定められた電位に移行する。このようにしてテストパターンが生成される。試験デバイスは、個々の電極電位試験を制御する。とりわけそこでは、電子ビームが偏向板により偏向される。大型ディスプレイでは不十分な偏向となるので、ディスプレイの一部が最初に試験され、続いて、ディスプレイは切替えユニットにより切り替えられる。信頼できる試験行為のためには、パッドの接触を継続的に維持すること、または信頼性をもって迅速に再構築できることが重要である。本発明によれば、このことは、試験用接触領域により可能である。その切替えののち、別の部分が試験される。ディスプレイの切替えと部分試験との相互作用は、ディスプレイが全てにわたって試験されるまで、または基板上の全ディスプレイが試験されるまで継続される。

上述した試験方法にとって、とりわけ、試験速度は、高い処理量の達成に重要である。更に、計測は非常に信頼できる必要がある。その理由は、画素のミル当り０．１の欠陥でさえディスプレイを使用不能にするからである。欠陥が生産工程の早期に検出できれば、誤り訂正は、例えばイオンビームまたはレーザビームにより遂行可能である。

非励振エレメント（寄生エレメント）が原因で、小漏洩電流でさえも、顕著な映像崩れを引き起こすので、繊細な試験方法を有する試験用デバイスを備えることが更に好ましい。それ故、電子ビームの妨害、または二次電子若しくは後方散乱電子の計測の妨害をする電磁界は大いに避けねばならない。

上述した理由のため、本発明による試験装置は、上述した試験方法にとって好ましい。その理由は、試験用デバイス内でディスプレイを接続することが試験用接触領域により容易になるためである。従って、効率的な接触を実現することが可能になる。この接触は上述した境界条件を満たしている。

実施態様の特定なしで、本発明の底流となる問題の好ましい解決のため、一般に、次に説明する発明の好ましい点を利用することができる。

第２の接触領域配列が第１の接触領域配列を介して駆動回路と接続することが好ましい。その中で、テストパターン生成用の接触領域は正規の動作のため、複数の接触領域と接続することができる。更に、試験用接触領域数は特に良好に低減させることができる。すなわち、駆動回路と接続する動作接触領域の一部が試験用接触領域と接続する。

更に、第２の接触領域配列が、試験電子装置を介して駆動回路と接続するかどうかが有利かも知れない。その中で、試験電子装置は生成するテストパターンを読み込むメモリを含むことが特に望ましい。

また、第２の接触領域配列が、直接駆動回路と接続するかどうかが望ましいかもしれない。その中で、駆動回路が試験用接触領域からの信号を処理するための回路を有することが、特に望ましい。

上述した点は、試験処理を更に助成するのに役立つ。その試験処理では、試験処理のためおよび正規画像生成のため、接触領域分離が遂行される。更に、試験のための接触領域数を低減すること、および、このようにして試験手順用の拡張された接触領域をオプションで供給すること、などの好ましい点によりそれは可能である。

一つの望ましい点は、第２接触領域配列の第２パッド数が第１接触領域配列の第１パッド数の９０％以内である、ことである。好ましくは、第２パッド数は第１接触領域数の、５０％以内であり、更に好ましくは２０％以内である。このように、１００μｍ以上の大きさ、好ましくは０．５ｍｍ以上、そして特に望ましくは２ｍｍ以上の大きさを有する第２の接触領域配列の第２パッドを備えることは可能でありそして特に有用である。

もしも、本発明の好ましい実施態様による試験用駆動回路がメモリを含むならば、信号転送用の第２接触領域配列の第２パッド数が一つであるということが有用であると思われる。

特定する実施態様なしの、本発明の次の望ましい点は、一般に、本発明による光電子デバイスの試験に適用できることである。

本発明による光電子デバイスを試験する際には、入力信号が周期的なテストパターンを生成するということが望ましい。そこでは、垂直、水平、または対角の方向に周期的であるテストパターンが特に望ましい。

更に、本発明は、試験中に試験される光電子デバイスの周辺で真空が用いられる際、または試験方法が次のようなステップを含む際に、有効である。そのステップは、画素のマトリクス部分での画素試験と、画素マトリクスの一部または小規模マトリクスの全画素における画素の試験と、光電子デバイスの切替えと、更に、画素マトリクスの更なる部分または一層小規模なマトリクスにおける画素の試験とである。

本発明の実施の一形態を示した概要図である。 図１ａに示される本発明の出力における実施の一形態を示した説明図である。 図１ｂに示される部分の別案における実施の一形態を示した説明図である。 本発明による第２の実施の一形態を示した概要図である。 本発明による更に別の実施の一形態を示した概要図である。 図３に示される本発明の出力における実施の一形態を示した説明図である。 テストパターンの一例を示した画素描写図である。 従来のディスプレイエレメントの一例を示した概要説明図である。

Claims (26)

1. 画素マトリクスを有する光電子デバイス駆動用の駆動電子装置において、
   入力端子（１１０）および出力端子（１１２）を備える駆動回路（１０２ｘ）と、
   上記駆動回路（１０２ｘ）の入力端子と接続する第１の接触領域配列（１０４）と、かつ
   上記駆動回路（１０２ｘ）の入力端子と接続する第２の接触領域配列（１０５）とを有し、
   上記第２の接触領域配列（１０５）の接触領域は、上記第１の接触領域配列（１０４）の接触領域より大きく、
   上記第１の接触領域配列（１０４）は通常動作中、画像発生に用い、かつ
   上記第２の接触領域配列（１０５）は試験モード中、パターン発生に用いる
   ことを特徴とする駆動電子装置。
2. 請求項１に記載の駆動電子装置において、第２の接触領域配列（１０５）と接続する上記駆動回路（１０２ｘ）の入力端子数は、画素マトリクスの制御ライン（１０３ｘ）と接続する上記駆動回路の出力端子数の最大５％であることを特徴とする駆動電子装置。
3. 請求項１または２に記載の駆動電子装置において、
   上記第２の接触領域配列（１０５）は上記第１の接触領域配列（１０４）を介して上記駆動回路（１０２ｘ）と接続されている
   ことを特徴とする駆動電子装置。
4. 請求項３に記載の駆動電子装置において、
   上記第２の接触領域配列（１０５）は、スイッチエレメントまたは構成部品（コンポーネント）により、上記第１の接触領域配列（１０４）を介して上記駆動回路（１０２ｘ）と接続されている
   ことを特徴とする駆動電子装置。
5. 請求項１または２に記載の駆動電子装置において、
   上記第２の接触領域配列（１０５）は、試験用電子回路（２０２ｘ）を介して上記駆動回路（１０２ｘ）と接続されている
   ことを特徴とする駆動電子装置。
6. 請求項１または２に記載の駆動電子装置において、
   上記第２の接触領域配列（１０５）は、上記駆動回路と直接接続されている
   ことを特徴とする駆動電子装置。
7. 請求項６に記載の駆動電子装置において、
   試験用回路は、上記駆動回路の中に集積されている
   ことを特徴とする駆動電子装置。
8. 請求項１から７までのうちの一つに記載の駆動電子装置において、
   上記第２の接触領域配列（１０５）における第２パッド（１０５ｂ）の数は、上記第１の接触領域配列（１０４）における第１パッド（１０４ｂ）の数の９０％以内である
   ことを特徴とする駆動電子装置。
9. 請求項８に記載の駆動電子装置において、
   上記第２の接触領域配列における第２パッド（１０５ｂ）は、上記第１の接触領域配列における第１パッド（１０４ｂ）より大きい
   ことを特徴とする駆動電子装置。
10. 請求項８または９に記載の駆動電子装置において、
    上記第２の接触領域配列における上記第２パッド（１０５ｂ）は、少なくとも１００μｍの大きさを有する
    ことを特徴とする駆動電子装置。
11. 画素マトリクスを有する光電子デバイスにテストパターンを発生するための信号を供給する試験用接触領域配列（１０５）において、
    少なくとも一つのパッド（１０５ｂ）と、かつ
    少なくとも一つの上記パッドを一つの駆動回路（１０２ｘ）に接続し、通常動作中、動作用接触領域配列（１０４）を介して信号の供給を受ける、少なくとも一つの接続路（１０５ａ）と、を備え、
    上記試験用接触領域配列（１０５）の接触領域が上記動作用接触領域配列（１０４）の接触領域より大きい
    ことを特徴とする試験用接触領域配列。
12. 請求項１１に記載の試験用接触領域配列において、
    上記駆動回路は入力端子（１１０）および出力端子（１１２）を有し、
    少なくとも一つの上記接続路（１０５ａ）は上記入力端子（１１０）の少なくとも一つと接続する
    ことを特徴とする試験用接触領域配列。
13. 請求項１１または１２に記載の試験用接触領域配列において、
    接触領域配列の少なくとも一つの上記パッドは、少なくとも１００μｍの大きさを有する
    ことを特徴とする試験用接触領域配列。
14. 請求項１１から１３までのうちの一つに記載の試験用接触領域配列において、
    上記試験用接触領域配列（１０５）のパッド（１０５ｂ）数は、上記動作用接触領域配列（１０４）の９０％以下である
    ことを特徴とする試験用接触領域配列。
15. 請求項１１から１４までのうちの一つに記載の試験用接触領域配列において、
    上記試験用接触領域配列（１０５）は、上記動作用接触領域配列（１０４）を介して駆動回路（１０２ｘ）と接続されている
    ことを特徴とする試験用接触領域配列。
16. 請求項１１から１４までのうちの一つに記載の試験用接触領域配列において、
    上記試験用接触領域配列は、試験用電子回路（２０２ｘ）を介して上記駆動回路（１０２ｘ）と接続されている
    ことを特徴とする試験用接触領域配列。
17. 請求項１１から１４までのうちの一つに記載の試験用接触領域配列において、
    上記試験用接触領域配列は、上記駆動回路（１０２ｘ）と直接接続されている
    ことを特徴とする試験用接触領域配列。
18. 画素マトリクス（１０１）と、
    上記請求項１から１０までのうちの何れかに記載の駆動電子装置と、を有する
    ことを特徴とする光電子デバイス。
19. 一つの駆動回路とその駆動回路の入力端子に接続される試験用接触領域配列とを有する光電子デバイスの試験方法において、
    前記駆動回路はその駆動回路の入力端子に接続される動作用接触領域を介して動作中に画像発生のための入力信号を供給されるものであって、
    その試験方法は、
    ａ）外部の制御機器と前記動作用接触領域より大きな前記試験用接触領域配列との間を接続するステップと、
    ｂ）画素マトリクス上にテストパターンを発生させるために、上記試験用接触領域配列を介して、駆動回路の入力端子に入力信号を供給するステップと、かつ
    ｃ）供給される前記入力信号により発生するテストパターンによって画素マトリクスの画素を試験するステップと、を有する
    ことを特徴とする光電子デバイスの試験方法。
20. 請求項１９に記載の試験方法において、
    上記入力信号は、周期的なテストパターンを発生させる
    ことを特徴とする試験方法。
21. 請求項１９または２０に記載の試験方法において、
    上記入力信号は、縦方向に、横方向に、または対角線方向に周期的なテストパターンを発生させる
    ことを特徴とする試験方法。
22. 請求項１９から２１までのうちの一つに記載の試験方法において、
    上記画素は、帯電粒子またはレーザ放射によるビームで試験される
    ことを特徴とする試験方法。
23. 請求項１９から２２までのうちの一つに記載の試験方法において、更に、
    試験される光電子デバイスの周辺に真空状態を生成するステップを有する
    ことを特徴とする試験方法。
24. 請求項１９から２３までのうちの一つに記載の試験方法において、ステップｃ）が、
    ｃ１）上記画素マトリクスの一部の上記画素を試験するステップと、
    ｃ２）上記光電子デバイスをシフトするステップと、かつ
    ｃ３）上記画素マトリクスの他の部分で上記画素を試験するステップと、を有する
    ことを特徴とする試験方法。
25. 画素マトリクスを有する光電子デバイスの駆動電子装置を製造する方法において、
    ａ）駆動回路を用意するステップと、
    ｂ）画素マトリクスの制御線を上記駆動回路の出力端子に接続するステップと、
    ｃ）動作モードの間、上記駆動回路に信号を送出する第１の接触領域配列を供給するステップと、
    ｄ）上記第１の接触領域配列を上記駆動回路の入力端子に接続するステップと、
    ｅ）上記第１の接触領域配列の接触領域より大きな接触領域を備えて試験モードの間にパターンを発生するために用いられる第２の接触領域配列を用意するステップと、かつ
    ｆ）上記第２の接触領域配列を上記駆動回路の入力端子に接続するステップと
    を有する
    ことを特徴とする駆動電子装置の製造方法。
26. 上記請求項１９から２４までのうちの何れかに記載の試験方法により、または上記請求項１から１０までに記載の駆動電子装置、および請求項１１から１７までに記載の試験用接触領域配列のうちの何れかにより、試験される
    ことを特徴とする光電子デバイス。

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