JP2000223057A - 電子プローブマイクロアナライザー - Google Patents

電子プローブマイクロアナライザー

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JP2000223057A
JP2000223057A JP11019801A JP1980199A JP2000223057A JP 2000223057 A JP2000223057 A JP 2000223057A JP 11019801 A JP11019801 A JP 11019801A JP 1980199 A JP1980199 A JP 1980199A JP 2000223057 A JP2000223057 A JP 2000223057A
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axis
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speed
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Naomasa Niwa
直昌 丹羽
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Shimadzu Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 電子プローブマイクロアナライザーにおい
て、試料表面形状が変化した場合であっても、オートフ
ォーカスによる自動高さ補正を破綻させることなく線分
析やマッピング分析を継続して行い、信頼性の高い測定
データを得る。 【解決手段】 電子線の照射によって試料から放出され
る特性X線により試料表面の元素分析を行う電子プロー
ブマイクロアナライザー1において、光学的焦点位置検
出装置2と、試料ステージ6をX,Y軸方向及びZ軸方
向に駆動するステージ駆動手段7と、光学的焦点位置検
出装置2からの合焦信号レベルに応じて、試料ステージ
6のX,Y軸方向の駆動速度を制御する駆動速度制御手
段3とを備え、試料表面の変化に応じたX,Y軸方向の
駆動速度制御を行うことによって、オートフォーカス制
御による継続した自動高さ補正を可能とし、測定データ
の信頼性を高める。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子プローブマイ
クロアナライザーに関し、特に試料のZ軸方向の位置制
御に関する。
【0002】
【従来の技術】波長分散型分光器を用いた電子プローブ
マイクロアナライザー(EPMA)では、電子線照射に
よって試料から放出される特性X線を検出するための集
光条件として、試料及び分光結晶,検出器のX線分光器
がローランド円の円周上に精度よく配置されることが求
められている。通常、このX線分光器の集光条件は試料
面の高さを位置合わせすることによって行っている。
【0003】電子プローブマイクロアナライザーを用い
た分析では、試料面の1点を分析する点分析や、試料面
上で分析位置を逐一変更しながらその都度X線信号を検
出することによってX線信号の一次元又は二次元の分布
を得る、線分析及びマッピング分析がある。凹凸のある
試料面に対して、精度よく点分析,線分析,及びマッピ
ング分析を行うには、各分析位置において試料面の高さ
がX線分光器の集光条件を満足するように常に試料ステ
ージの高さを補正する自動高さ補正を行う必要がある。
【0004】従来、電子プローブマイクロアナライザー
の高さ方向(Z軸方向)の位置合わせを行う方法とし
て、光学的焦点位置検出装置によるオートフォーカス制
御によって、分析点毎に試料面の現在の高さ情報を取得
して試料ステージに帰還させ、試料面上の分析点が集光
条件を満たす位置となるように試料ステージの高さ位置
を調整する方法が知られている。
【0005】図8はオートフォーカス制御によるZ軸方
向の位置合わせを行う電子プローブマイクロアナライザ
ーの測定手順を説明するためのフローチャートである。
電子プローブマイクロアナライザーは、試料ステージを
X,Y軸方向に移動して電子線の照射位置を設定した後
(ステップS101)、該照射位置の試料の光学像を用
いてオートフォーカス機能によってZ軸座標を求め(ス
テップS102)、求めたZ軸座標値を用いてZ軸移動
して試料ステージの高さ位置を調整し(ステップS10
3)。試料ステージの高さ位置の調整によってX線分光
器の集光条件は満足され、測定を行う(ステップS10
4)。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来の電子プローブマ
イクロアナライザーで点分析,線分析,及びマッピング
分析を行う場合、オートフォーカスによるZ軸制御で
は、光学的焦点位置検出装置の特性によって良好な制御
が困難となる場合がある。光学的焦点位置検出装置で
は、試料表面の光学像に基づいて焦点位置を検出してい
るため、試料表面の状況によって検出される光量が減少
すると、焦点位置を検出するまでの処理時間が長くな
り、形状変化に追従して自動高さ補正を行うことが困難
となる。
【0007】図9は従来の電子プローブマイクロアナラ
イザーのZ軸制御を説明するための図である。検出光量
の減少によって処理時間が長くなると、図9(a)中の
符号Aで示される試料の表面形状のZ軸位置は、オート
フォーカス制御では図9(b)中の符号Bとなり、位置
ずれが生じる。そのため、従来のZ軸制御ではX,Y軸
方向の移動を行うマッピング速度を一定としているた
め、試料表面の状況によって光量が減少し、処理時間が
長くなると、当初設定したマッピング速度ではオートフ
ォーカスが追従できなくなって、Z軸方向の位置誤差に
よって得られる線分析,及びマッピング分析のデータの
信頼性が低下したり、さらには自動高さ制御が困難とな
るおそれがある。
【0008】そこで、本発明は前記した従来の問題点を
解決し、電子プローブマイクロアナライザーにおいて、
試料表面形状が変化した場合であっても、オートフォー
カスによる自動高さ補正を破綻させることなく線分析や
マッピング分析を継続して行うことができ、また、信頼
性の高い測定データを得ることを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、電子線の照射
によって試料から放出される特性X線により試料表面の
元素分析を行う電子プローブマイクロアナライザーにお
いて、光学的焦点位置検出装置と、試料ステージをX,
Y軸方向及びZ軸方向に駆動するステージ駆動手段と、
光学的焦点位置検出装置からの合焦信号レベルに応じ
て、試料ステージのX,Y軸方向の駆動速度を制御する
駆動速度制御手段とを備え、試料表面の変化に応じた
X,Y軸方向の駆動速度制御を行うことによって、オー
トフォーカス制御による継続した自動高さ補正を可能と
し、測定データの信頼性を高めることができる。
【0010】光学的焦点位置検出装置は、電子線が照射
される試料位置の光学像を取り込み、該光学像の焦点位
置を自動で求めるオートフォーカス機能を有し、焦点検
出のための合焦信号を形成する合焦信号形成部と、該合
焦信号を用いてZ軸ステージを制御する制御信号を形成
するZ軸フィードバック制御信号形成手段を備える。
【0011】ステージ駆動手段は、試料ステージを駆動
するステージ機構、試料ステージのX,Y軸方向の駆動
制御を行うX,Y軸駆動制御手段と、試料ステージのZ
軸方向の駆動制御を行うZ軸駆動制御手段とを備える。
Z軸駆動制御手段は、Z軸フィードバック制御信号に基
づいて試料ステージのZ軸方向の制御を行う。また、
X,Y軸駆動制御手段は、線分析やマッピング分析に分
析経路に基づいて試料ステージのX,Y軸方向の制御を
行う。
【0012】駆動速度制御手段は、光学的焦点位置検出
装置から合焦信号を取り込み、取り込んだ合焦信号の信
号レベルの大きさに応じて、X,Y軸駆動制御手段に駆
動速度制御信号を送り、試料ステージのX,Y軸方向の
駆動速度を変更する。合焦信号の信号レベルが大きい場
合には高い駆動速度で駆動させ、信号レベルが小さい場
合には低い駆動速度で駆動させる。この駆動制御によっ
て、試料表面の状態によって光学的焦点位置検出装置で
処理する合焦信号の信号レベルが変動し、処理速度が変
化した場合であっても、その信号レベルに応じた駆動速
度でX,Y軸方向の移動を行い、オートフォーカスによ
る自動高さ補正を破綻させることなく線分析やマッピン
グ分析を継続して行う。
【0013】駆動速度制御手段の第1の形態は、しきい
値を記憶するしきい値記憶手段と合焦信号の信号レベル
をしきい値と比較する比較手段を備える。比較手段は、
しきい値記憶手段に記憶したしきい値との比較によって
合焦信号の信号レベルの大きさを判定し、X,Y軸駆動
制御手段に合焦信号レベルの大きさに対応した駆動速度
制御信号を送る。しきい値は、合焦信号の信号レベルと
オートフォーカスの制御速度との関係から求めることが
できる。複数のしきい値を用いることによって、速度制
御を多段階で行うことができる。
【0014】駆動速度制御手段の第2の形態は、合焦信
号の信号レベルに対する駆動速度制御信号を格納したテ
ーブルと、該テーブルから駆動速度制御信号を読み出す
読み出し手段とを備える。合焦信号の信号レベルとオー
トフォーカスの制御速度との関係に基づいて、合焦信号
の信号レベルに対する駆動速度制御信号を求めておき、
テーブルに格納しておく。読み出し手段は、読み込んだ
合焦信号の信号レベルの大きさに対応する駆動速度制御
信号をテーブルから読み出し、X,Y軸駆動制御手段に
送る。
【0015】駆動速度制御手段の第3の形態は、合焦信
号の信号レベルに対する駆動速度制御信号の関係を関数
の形態で記憶しておき、該関数を用いて駆動速度制御信
号を算出する演算手段を備える。合焦信号の信号レベル
とオートフォーカスの制御速度との関係に基づいて、合
焦信号の信号レベルに対する駆動速度制御信号を関数の
形態で求めておき、記憶手段に格納しておく。演算手段
は、記憶手段から読み出した関数を用いて合焦信号の信
号レベルの大きさに対応する駆動速度制御信号を演算し
て求め、X,Y軸駆動制御手段に送る。測定する試料や
測定条件に応じて複数の関数を用意することによって、
試料や測定条件によって合焦信号の信号レベルと駆動速
度との最適条件が変化した場合であっても、適宜対応し
た制御を行うことができる。
【0016】また、本発明の電子プローブマイクロアナ
ライザーは、検出した測定データを駆動速度に応じた値
に補正するデータ補正手段を備える。駆動速度制御手段
によってX,Y軸方向の駆動速度を変更すると、駆動速
度を変化させたことによって測定時間が変化するため、
測定データがあらかじめ設定された測定時間に応じたデ
ータとずれが生じるおそれがある。データ補正手段は、
駆動速度制御手段から駆動速度信号を取り込むことによ
って、測定データを測定時間によって一定の測定時間の
値となるように補正する。
【0017】本発明によれば、試料表面の状況により変
化する合焦信号の信号レベルに応じてX,Y軸ステージ
駆動速度を制御することによって、光学的焦点位置検出
装置のオートフォーカス機能の追従速度が速い場合には
高速でX,Y軸ステージを駆動し、また、光学的焦点位
置検出装置のオートフォーカス機能の追従速度が遅い場
合には低速でX,Y軸ステージを駆動する。これによっ
て、オートフォーカスによる自動高さ補正を中止させる
ことなく、線分析やマッピング分析を行うことができ
る。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図を参照しながら詳細に説明する。図1は本発明の電
子プローブマイクロアナライザーの構成例の概略ブロッ
ク図である。図1に示す電子プローブマイクロアナライ
ザー1において、フィラメント等の電子線源11から発
生された電子線コンデンサレンズや対物レンズ等を介し
て試料ステージ6上に配置された試料に照射される。試
料から放出されたX線は、波長別に分光する分光素子と
分光された特性X線を検出する検出器を含むX線信号検
出手段12で分析される。なお、試料から得られるX線
に限らず他信号を検出することもできる。
【0019】試料ステージ6は、Z軸ステージ駆動制御
手段72によってZ軸方向の駆動を行い、X,Y軸ステ
ージ駆動制御手段71によってX,Y軸方向の駆動を行
う。Z軸ステージ駆動制御手段72及びX,Y軸ステー
ジ駆動制御手段71は、図示しないコンピュータからの
制御コマンドによって、Z軸方向の高さ調整やX,Y軸
方向の位置決めの制御が行われる。
【0020】試料表面は、CCDカメラ等の撮像装置を
備えた光学顕微鏡13で撮像し、オートフォーカス機能
を備える光学的焦点位置検出装置2によってモニタ7に
表示する。
【0021】光学的焦点位置検出装置2は、合焦信号検
出形成手段21及びZ軸フィードバック制御信号形成手
段22を備え、オートフォーカス機能によってZ軸方向
の自動位置決めを行う。合焦信号検出形成手段21は、
光学顕微鏡15で撮像した光学像信号から焦点合わせに
用いる合焦信号を形成する。Z軸フィードバック制御信
号形成手段22は、合焦信号を用いてZ軸フィードバッ
ク制御信号を形成し、ステージ駆動手段7に送る。ステ
ージ駆動手段7は、試料ステージ6とX,Y軸ステージ
駆動制御手段71及びZ軸ステージ駆動制御手段72を
備える。
【0022】ステージ駆動手段7は、フィードバックさ
れたZ軸フィードバック制御信号をZ軸ステージ駆動制
御手段72に取り込み、試料ステージ6のZ軸方向の制
御を行って像の焦点を合わせる。また、X,Y軸ステー
ジ駆動制御手段71は線分析やマッピング分析において
定められた移動軌跡に基づいてX,Y軸方向の移動制御
を行い、その移動速度は、駆動速度制御信号によって制
御される。なお、Z軸フィードバック制御信号から試料
の高さデータを取得することができる。
【0023】通常、光学的焦点位置検出装置2は試料上
の焦点位置と、X線分光器の試料上における集光条件を
満足する分析位置とが一致するよう設定し、光学像の焦
点合わせを行うことによってX線分光器の集光条件を合
わせることができる。オートフォーカス機能によって焦
点を合わせた後、X線信号検出手段12で測定を行う。
【0024】本発明の電子プローブマイクロアナライザ
ー1は、X,Y軸ステージ駆動制御手段71の駆動速度
を制御する駆動速度制御手段3を備える。駆動速度制御
手段3は、合焦信号形成手段21で形成された合焦信号
の信号レベルを取り込み、取り込んだ合焦信号の信号レ
ベルに対応した駆動速度制御信号を形成し、X,Y軸ス
テージ駆動制御手段71に送る。X,Y軸ステージ駆動
制御手段71は、駆動速度制御信号に基づく駆動速度で
試料ステージ6を駆動する。
【0025】X線信号検出手段12等の検出装置で検出
された測定データは、データ保存手段4に保存される。
このデータ保存において、測定データと測定時間の関係
を補正するためにデータ補正手段5を備える。データ補
正手段5は、駆動速度制御手段から駆動速度信号を取り
込むことによって、駆動速度が変化した場合であっても
ずれが生じないように、測定データと測定時間の関係を
補正する。
【0026】図2は駆動速度制御手段3の構成例を説明
するためのブロック図である。図2では3つの構成例を
示している。図2(a)は第1の構成例を示している。
第1の構成例は、しきい値を記憶するしきい値記憶手段
32と合焦信号の信号レベルをしきい値と比較する比較
手段31とを備える。比較手段31は、光学的焦点位置
検出装置2から取り込んだ合焦信号の信号レベルと、し
きい値記憶手段32から取り込んだしきい値とを比較
し、これによって合焦信号の信号レベルの大きさを判定
する。比較の結果、X,Y軸駆動制御手段71に合焦信
号レベルの大きさに対応した駆動速度制御信号を送る。
また、データ補正手段5に駆動速度信号を送ることもで
きる。
【0027】しきい値は、合焦信号の信号レベルとオー
トフォーカスの制御速度との関係から求める。しきい値
を求める手順について、図3のフローチャート及び図4
(a),(b)のグラフを用いて説明する。図3のフロ
ーチャートにおいて、しきい値を設定するために、合焦
信号の信号レベルLとオートフォーカスの制御速度vと
の相関関係をあらかじめ求めておく。図4(a)におい
て、合焦信号レベルLが大きい場合には、オートフォー
カスによる制御速度vは速くなり、合焦信号レベルLが
小さい場合には、オートフォーカスによる制御速度vは
遅くなる(ステップS1)。
【0028】オートフォーカスによる制御速度vが遅く
なると、X,Y軸を駆動する駆動速度が高速のままでは
ることが困難となる。そこで、X,Y軸の駆動をオート
フォーカスによる制御速度vに対応させて変更させ、Z
軸制御に遅れが生じさせずに試料表面形状に高い精度で
追従させる。そこで、図4(b)において、破線で示さ
れるオートフォーカスによる制御速度vの特性に対し
て、駆動速度v0〜v4を定める(ステップS2)。
【0029】設定した駆動速度v0〜v4に対して、破
線で示されるオートフォーカスによる制御速度vに対応
する合焦信号のレベルLを求め(ステップS3)、合焦
信号のレベルLをしきい値Lcとして設定する(ステッ
プS4)。
【0030】図4(b)に示す設定によれば、例えば合
焦信号の信号レベルLaがしきい値Lc2と〜Lc3の
間の場合には対応する駆動速度はv2となり、駆動速度
制御手段はこの駆動速度v2に対応する駆動速度制御信
号を出力する。
【0031】なお、図4(b)では、しきい値をステッ
プS3で設定した駆動速度の4段階に対応して4段階と
しているが、駆動速度の段階に合わせて任意の段階に設
定することができる。
【0032】図2(b)は第2の構成例を示している。
第2の構成例は、テーブル記憶手段34と読み出し手段
33とを備える。テーブル記憶手段34は、合焦信号の
信号レベルとオートフォーカスの制御速度との関係に基
づいて合焦信号の信号レベルに対する駆動速度制御信号
を求めておき、この合焦信号の信号レベルと駆動速度制
御信号との関係をテーブルデータの形態で格納してい
る。読み出し手段33は、読み込んだ合焦信号の信号レ
ベルの大きさに対応する駆動速度制御信号をテーブルか
ら読み出し、X,Y軸駆動制御手段に送る。
【0033】図2(c)は第3の構成例を示している。
第3の構成例は、関数記憶手段36と演算手段35とを
備える。関数記憶手段36は、第2の構成例と同様にし
て求めた合焦信号の信号レベルと駆動速度制御信号との
関係を関数の形態で格納している。演算手段35は、関
数を用いて読み込んだ合焦信号の信号レベルから対応す
る駆動速度制御信号を算出し、X,Y軸駆動制御手段に
送る。
【0034】図4(c)は合焦信号の信号レベルと駆動
速度制御信号との関係を示しており、オートフォーカス
による制御速度の特性に基づいて駆動速度の特性を定め
る。第2の構成例は、図4(c)の特性をテーブルデー
タの形態で格納し、第3の構成例は、図4(c)の特性
を関数の形態で格納する。なお、図中の破線は、オート
フォーカスによる制御速度の特性と駆動速度の特性とを
一致させた例を示している。
【0035】第2及び第3の構成例によれば、試料や測
定条件に対応した特性のテーブルや関数を複数備えてお
き、必要に応じて選択して最適な条件で駆動制御を行う
ことができる。
【0036】以下、本発明の電子プローブマイクロアナ
ライザー1が行う動作例について図5,6を用いて説明
する。電子プローブマイクロアナライザー1において、
マッピング分析や線分析等の分析準備を行い(ステップ
S11)、光学的焦点位置検出装置2のオートフォーカ
ス機能をセットした後(ステップS12)、分析を開始
する(ステップS13)。
【0037】X,Y軸ステージ駆動制御手段71は、試
料ステージ6をX軸方向及びY軸方向に駆動して、電子
線を試料上の分析点に位置合わせする。光学的焦点位置
検出装置2の合焦形成手段21は、光学顕微鏡15から
取り込んだ試料の光学像の合焦信号を形成する(ステッ
プS14)。
【0038】駆動速度制御手段3は、合焦形成手段21
から合焦信号を取り込み、駆動速度制御信号を求め(ス
テップS15)、該駆動速度制御信号をX,Y軸ステー
ジ駆動制御手段71に送り、求めた駆動速度でX,Y軸
を駆動する(ステップS16)。
【0039】一方、Z軸フィードバック制御信号形成手
段22はオートフォーカス機能によって合焦信号からZ
軸フィードバック制御信号を形成し、Z軸ステージ駆動
制御手段72に送る。Z軸ステージ駆動制御手段72
は、このZ軸フィードバック制御信号を取り込み、Z軸
を駆動する(ステップS17)。
【0040】データ補正手段5は、ステップS18でに
おいてX線信号検出手段12が検出した検出信号を、
X,Y軸方向の移動に合わせて補正し(ステップS1
8)、補正した検出信号をデータ保存手段4に格納する
(ステップS19)。なお、データ補正手段5は、駆動
速度制御手段3から駆動速度信号を取り込み、この駆動
速度信号に基づいてX,Y軸方向の移動に合わせて補正
を行う。前記ステップS14〜ステップS19をマッピ
ングが終了するまで繰り返す。
【0041】図6の信号図は、合焦信号の信号レベルL
の大きさと駆動速度vとの関係を示している。図6
(a),(b)の例は、しきい値を用いて駆動速度を段
階的に制御する場合であり、4つのしきい値Lc1〜L
c4によって5段階の駆動速度v0〜v4を設定する例
を示している。
【0042】例えば、図4(b)で定められるように、
合焦信号のレベルがしきい値Lc4以上である場合には
駆動速度v4を用い、合焦信号のレベルがしきい値Lc
3とLc2の間である場合には駆動速度v3を用いて駆
動速度制御を行う。
【0043】また、図6(c)の例は、テーブルあるい
は関数を用いて駆動速度を制御する場合であり、図4
(c)で設定される駆動速度特性を用いて駆動速度vを
設定する例を示している。これによれば、図4(a)の
合焦信号のレベルに対応した特性の駆動速度を用いて駆
動速度制御を行うことができる。
【0044】図7は本発明の電子プローブマイクロアナ
ライザーの他の構成例を示す概略ブロック図である。こ
の構成例は、図1に示すデータ補正手段を用いずに、測
定データとX,Y軸方向の関係を整合させるものであ
る。データ保存手段4はX線信号検出手段12からの検
出信号を取り込むと共に、X,Y軸ステージ駆動制御手
段71からX,Y軸の座標データを取り込み、両データ
を関連付けてデータ保存を行う。これによって、測定デ
ータとX,Y軸方向の位置とを関連付けて記憶すること
ができる。なお、Z軸フィードバック制御信号について
も、測定データと共に記憶することもできる。
【0045】これによって、試料表面の状況により変化
する合焦信号の信号レベルに応じてX,Y軸ステージ駆
動速度を制御し、光学的焦点位置検出装置のオートフォ
ーカス機能の追従速度が速い場合には高速で、また、追
従速度が遅い場合には低速でX,Y軸ステージを駆動す
る。これによって、オートフォーカスによる自動高さ補
正を中止させることなく、線分析やマッピング分析を行
うことができる
【0046】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
電子プローブマイクロアナライザーにおいて、試料表面
形状が変化した場合であっても、自動高さ補正を破綻さ
せることなく線分析やマッピング分析を継続して行うこ
とができ、また、信頼性の高い測定データを得ることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電子プローブマイクロアナライザーの
構成例の概略ブロック図である。
【図2】駆動速度制御手段の構成例を説明するためのブ
ロック図である。
【図3】しきい値を設定する手順を説明するためのフロ
ーチャートである。
【図4】しきい値を設定する手順を説明するためのグラ
フである。
【図5】本発明の電子プローブマイクロアナライザーの
動作を説明するためのフローチャートである。
【図6】本発明の電子プローブマイクロアナライザーの
動作を説明するための信号図である。
【図7】本発明の電子プローブマイクロアナライザーの
他の構成例の概略ブロック図である。
【図8】オートフォーカス制御によるZ軸方向の位置合
わせを行う測定手順を説明するためのフローチャートで
ある。
【図9】従来の電子プローブマイクロアナライザーのZ
軸制御を説明するための図である。
【符号の説明】
1…電子プローブマイクロアナライザー、2…光学的焦
点位置検出装置、3…駆動速度制御手段、4…データ保
存手段、5…データ補正手段、6…試料ステージ、7…
ステージ駆動手段、10…電子プローブマイクロアナラ
イザー本体、11…電子線源、12…X信号検出手段、
13…光学顕微鏡、21…合焦信号形成手段、22…Z
軸フィードバック制御信号形成手段、31…比較手段、
32…しきい値記憶手段、33…読み出し手段、34…
テーブル記憶手段、35…演算手段、36…関数記憶手
段、71…X,Y軸ステージ駆動制御手段、72…Z軸
ステージ駆動制御手段。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電子線の照射によって試料から放出され
    る特性X線により試料表面の元素分析を行う電子プロー
    ブマイクロアナライザーにおいて、光学的焦点位置検出
    装置と、試料ステージをX,Y軸方向及びZ軸方向に駆
    動するステージ駆動手段と、光学的焦点位置検出装置か
    らの合焦信号レベルに応じて、試料ステージのX,Y軸
    方向の駆動速度を制御する駆動速度制御手段を備える、
    電子プローブマイクロアナライザー。
JP11019801A 1999-01-28 1999-01-28 電子プローブマイクロアナライザー Withdrawn JP2000223057A (ja)

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