JP4099184B2 - レベルシフト回路及び半導体装置 - Google Patents

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Description

本発明は、レベルシフト回路及び半導体装置に係り、詳しくは、入力信号の電圧レベルをそれよりも高い電圧レベルの信号に変換して出力する回路に関する。
近年、半導体装置(LSI)は多機能化の要請に伴い低電源電圧化・複数電源化が進められている。レベルシフト回路は、このようなLSIにおいて、異なる電源電圧の回路間を接続するインターフェース回路として用いられている。
従来、レベルシフト回路として、例えば特許文献1に記載されている構成が知られている。図4は、この特許文献1に開示されているレベルシフト回路を示す回路図である。
このレベルシフト回路21は、電源電圧VD1と接地電圧GNDとの電圧レベルの入力信号INを、電源電圧VD1よりも高い電源電圧VD2と接地電圧GNDとの電圧レベルの出力信号OUTに変換する回路である。このレベルシフト回路21は、入力回路22、シフト回路23及び電圧発生回路24を備えている。
入力回路22は、インバータ回路であって、低耐圧のpMOSトランジスタ(pチャネル型MOSトランジスタ)Tr31と、低耐圧のnMOSトランジスタ(nチャネル型MOSトランジスタ)Tr32とから構成されている(詳しくは文献1中、段落番号「0026」,「0027」)。この入力回路22は、入力信号INを反転した反転入力信号/IN(‘/’は反転の意味)を生成する。
シフト回路23は、高耐圧のpMOSトランジスタTr41,Tr42と、高耐圧のnMOSトランジスタTr43,Tr44と、低耐圧のnMOSトランジスタTr45,Tr46とから構成されている(詳しくは文献1中、段落番号「0028」〜「0032」)。このシフト回路23には、nMOSトランジスタTr43,Tr44を共通にゲートするバイアス電圧VBが電圧発生回路24から供給される。nMOSトランジスタTr45,Tr46の各ゲートには、それぞれ反転入力信号/IN,入力信号INが供給される。シフト回路23は、これら両信号/IN,INに基づいて各nMOSトランジスタTr45,Tr46が相補にオンオフ制御されることにより、pMOSトランジスタTr41のドレインとnMOSトランジスタTr43のドレインとの接続点より、出力信号OUTを出力する。
電圧発生回路24は、高耐圧のpMOSトランジスタTr51,Tr52,Tr53,Tr54,Tr55,Tr56と、高耐圧のnMOSトランジスタTr57,Tr58とから構成されている(詳しくは文献1中、段落番号「0033」〜「0038」)。この電圧発生回路24は、Hレベルの制御信号CNTLに基づいてpMOSトランジスタTr51とnMOSトランジスタTr57が共にオンに制御されることにより、pMOSトランジスタTr53のドレインとpMOSトランジスタTr54のソースとの接続点より略1/2×VD2を持つバイアス電圧VBを出力する。
上記構成のレベルシフト回路21では、シフト回路23のnMOSトランジスタTr45,Tr46を低耐圧素子により構成することで、入力信号INに対するそれらトランジスタTr45,Tr46のオンオフ応答性を確保している。また、nMOSトランジスタTr43,Tr44を高耐圧素子により構成し、電圧発生回路24で生成したバイアス電圧VBをそれらのゲートに印加することで、上記低耐圧のnMOSトランジスタTr45,Tr46のドレイン(ノードNa,Nb)に、それらのソース−ドレイン間耐圧を超える電圧が印加されることを防止している。
特開2002−190731号公報(第1図)
ところで、上記構成のレベルシフト回路21においては、電圧発生回路24で生成されるバイアス電圧VBは電源電圧VD2の電圧レベルに依存し、電源電圧VD2が低下すると、それに伴ってバイアス電圧VBも低下するようになる。このようなバイアス電圧VBの低下は、nMOSトランジスタTr43,Tr44のソースに流れる電流を減少させ、nMOSトランジスタTr45,Tr46のドレインに流れる電流を減少させる。図3に示すように、nMOSトランジスタTr45,Tr46は、ドレインに印加される電圧(図4中、ノード電圧Vna,Vnb)が所定の規定電圧Vrを下回ると、動作スピードが低下して十分な能力を発揮できなくなる(図3では、電源電圧VD2が電圧VD2´まで低下すると、ノード電圧Vna,Vnbが規定電圧Vrを下回る)。その結果、入力信号INに対するそれらnMOSトランジスタTr45,Tr46のオンオフ応答性が低下するという問題があった。
本発明は、このような従来の実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、シフト回路に供給するバイアス電圧を最適化し、入力信号に対するトランジスタのオンオフ応答性を好適に維持することができるレベルシフト回路及び半導体装置を提供することにある。
上記目的を達成するため、請求項1,に記載の発明によれば、制御電圧発生回路は、シフト回路の第1ノード(第1及び第3nMOSトランジスタの接続点)又は第2ノード(第2及び第4nMOSトランジスタの接続点)の電圧を擬似する電圧と制御電圧とを比較して、第1及び第2ノードの電圧を制御するための制御電圧を第2電圧の電圧レベルに依存しない略一定電圧レベルで発生し、バイアス発生回路は、上記第1及び第2ノードの電圧を制御電圧に略一致する電圧とするようにバイアス電圧を発生する。この構成では、バイアス電圧を制御電圧に基づいて第2電圧に依存しない略一定電圧レベルで安定的に生成することができる。これにより、入力信号に対するトランジスタ(第1nMOSトランジスタ、第2nMOSトランジスタ)のオンオフ応答性を好適に維持することができる。
請求項2に記載の発明によれば、制御電圧発生回路は、定電流を発生する電流源と、該電流源に対しダイオード接続されるMOSトランジスタとを含み、電流源及びMOSトランジスタの接続点の電位を制御電圧として出力する。これにより、制御電圧を第2電圧に依存しない略一定電圧レベルで発生させることができる。
請求項3に記載の発明によれば、上記MOSトランジスタは、第1nMOSトランジスタ及び第2nMOSトランジスタと同一特性を持つnMOSトランジスタにより構成される。このように、シフト回路を構成するトランジスタと相関関係を持たせて制御電圧発生回路を構成することにより、制御電圧を最適化することができる。
請求項4に記載の発明によれば、バイアス発生回路は、バイアス電圧に基づいて第1及び第2ノードの電圧を出力に再現するノード電圧出力回路と、ノード電圧出力回路の出力電圧を検出し、その出力電圧と制御電圧との電圧差に応じたバイアス電圧を生成するオペアンプとを備える。このように、ノード電圧出力回路とオペアンプとによる負帰還ループを構成することにより、バイアス電圧を安定的に生成することができる。
請求項5に記載の発明によれば、制御電圧発生回路は、定電流を発生する電流源と、該電流源に対しダイオード接続されるMOSトランジスタとを含み、電流源及びMOSトランジスタの接続点の電位を制御電圧として出力する。これにより、制御電圧を第2電圧に依存しない略一定電圧レベルで発生させることができる。
請求項6に記載の発明によれば、上記MOSトランジスタは、第1nMOSトランジスタ及び第2nMOSトランジスタと同一特性を持つnMOSトランジスタにより構成される。このように、シフト回路を構成するトランジスタと相関関係を持たせて制御電圧発生回路を構成することにより、制御電圧を最適化することができる。
請求項に記載の発明によれば、シフト回路を構成するトランジスタと相関関係を持たせてバイアス発生回路を構成することにより、バイアス電圧を最適化することができる。
請求項に記載の発明によれば、第6nMOSトランジスタのしきい値電圧に対応したオフセットを設定することにより、負帰還ループの動作安定化を図り、バイアス電圧をより安定的に生成することができる。
上記発明によれば、シフト回路に供給するバイアス電圧を最適化し、入力信号に対するトランジスタのオンオフ応答性を好適に維持することができる。
以下、本発明を半導体装置に搭載されるレベルシフト回路に具体化した一実施の形態を図1及び図2に従って説明する。
図1は、本実施の形態のレベルシフト回路を示す回路図である。
レベルシフト回路1は、電源電圧VD1と接地電圧GNDとの電圧レベルの入力信号INを、電源電圧VD1よりも高い電源電圧VD2と接地電圧GNDとの電圧レベルの出力信号OUTに変換する回路である。なお、本実施の形態においては、電源電圧VD1が第1電圧を構成し、電源電圧VD2が第2電圧を構成し、接地電圧GNDが基準電圧を構成する。
レベルシフト回路1は、入力回路2、シフト回路3及び電圧発生回路4を備えている。
入力回路2は、インバータ回路であって、低耐圧のpMOSトランジスタ(pチャネル型MOSトランジスタ)Tr1と、低耐圧のnMOSトランジスタ(nチャネル型MOSトランジスタ)Tr2とから構成されている。低耐圧のトランジスタとは、ソース−ドレイン間耐圧の低いトランジスタ(低耐圧素子)である。
pMOSトランジスタTr1のソースには電源電圧VD1が印加されている。pMOSトランジスタTr1のドレインはnMOSトランジスタTr2のドレインと接続され、そのnMOSトランジスタTr2のソースには接地電圧GNDが印加されている。pMOSトランジスタTr1及びnMOSトランジスタTr2のゲートには入力信号INが供給される。そして、pMOSトランジスタTr1のドレインとnMOSトランジスタTr2のドレインとの接続点より、入力信号INを反転した反転入力信号/IN(‘/’は反転の意味)が出力される。
シフト回路3は、後述するバイアス電圧VB1によって活性され、低電圧レベルの入力信号INを高電圧レベルの出力信号OUTにレベル変換する。
このシフト回路3は、高耐圧のpMOSトランジスタTr11,Tr12と、高耐圧のnMOSトランジスタTr13,Tr14と、低耐圧のnMOSトランジスタTr15,Tr16とから構成されている。高耐圧のトランジスタとは、前述した低耐圧のトランジスタよりもソース−ドレイン間耐圧の高いトランジスタ(高耐圧素子)である。
pMOSトランジスタTr11,Tr12の各ソースには電源電圧VD2が共通に印加され、各ゲートは互いのドレインに接続されている。pMOSトランジスタTr11,Tr12の各ドレインは、nMOSトランジスタTr13,Tr14のドレインにそれぞれ接続されている。nMOSトランジスタTr13,Tr14の各ゲートには電圧発生回路4からのバイアス電圧VB1が共通に印加され、各ソースはnMOSトランジスタTr15,Tr16のドレインにそれぞれ接続されている。nMOSトランジスタTr15,Tr16の各ソースには接地電圧GNDが共通に印加され、各ゲートにはそれぞれ反転入力信号/IN及び入力信号INが供給される。
このように構成されたシフト回路3は、電圧発生回路4からのバイアス電圧VB1によって各nMOSトランジスタTr13,Tr14がオンされ、入力信号IN及び反転入力信号/INに基づいてnMOSトランジスタTr15,Tr16が相補にオンオフ制御されることにより、pMOSトランジスタTr11のドレインとnMOSトランジスタTr13のドレインとの接続点から出力信号OUTを出力する。
電圧発生回路4は、制御電圧発生回路11と、バイアス発生回路12とから構成されている。
制御電圧発生回路11は、前述のシフト回路3において、nMOSトランジスタTr13,Tr14のソースとnMOSトランジスタTr15,Tr16のドレインとの接続点であるノードN1,N2の電圧(ノード電圧Vn1,Vn2)を制御するための制御電圧VR1を発生する回路である。この制御電圧VR1は、nMOSトランジスタTr15,Tr16のソース−ドレイン間耐圧を超えず、且つ、それらnMOSトランジスタTr15,Tr16の能力を十分に発揮させることのできる値に設定される。
この制御電圧発生回路11は、電流源13と、高耐圧のnMOSトランジスタTr21と、低耐圧のnMOSトランジスタTr22とから構成されている。このうち、nMOSトランジスタTr22は、シフト回路3のnMOSトランジスタTr15,Tr16と同一特性(同じ電流駆動能力)を持つトランジスタで構成されている。
電流源13は、電源電圧VD2を供給する電源端子とnMOSトランジスタTr21のドレインとの間に接続されている。nMOSトランジスタTr21のソースは、nMOSトランジスタTr22のドレインに接続され、ゲートには電源電圧VD2が印加されている。従って、nMOSトランジスタTr21は常時オンするように制御される。nMOSトランジスタTr22のソースには接地電圧GNDが印加され、ゲートはnMOSトランジスタTr21のドレインに接続されている。即ち、nMOSトランジスタTr22は、nMOSトランジスタTr21を介して電流源13に対しダイオード接続されている。なお、nMOSトランジスタTr21のドレイン電圧は、nMOSトランジスタTr22のドレイン電圧より後述するnMOSトランジスタTr24のしきい値電圧Vth高い電位に設定されている。
このように構成された制御電圧発生回路11は、電流源13とnMOSトランジスタTr21のドレインとの接続点であるノードN3に、電流源13の定電流値とnMOSトランジスタTr21,Tr22のオン抵抗値とに基づく略一定電圧レベルの制御電圧VR1を発生させる。
バイアス発生回路12は、オペアンプ14と、高耐圧のpMOSトランジスタTr23と、高耐圧のnMOSトランジスタTr24と、低耐圧のnMOSトランジスタTr25とから構成されている。pMOSトランジスタTr23は、シフト回路3のpMOSトランジスタTr11,Tr12と同一特性を持つトランジスタで構成されている。nMOSトランジスタTr24は、シフト回路3のnMOSトランジスタTr13,Tr14と同一特性を持つトランジスタで構成されている。nMOSトランジスタTr25は、シフト回路3のnMOSトランジスタTr15,Tr16と同一特性を持つトランジスタで構成されている。本実施の形態においては、これらpMOSトランジスタTr23及びnMOSトランジスタTr24,Tr25によりノード電圧出力回路が構成されている。
pMOSトランジスタTr23のソースには電源電圧VD2が印加され、そのドレインはnMOSトランジスタTr24のドレインに接続され、そのゲートには接地電圧GNDが印加されている。従って、nMOSトランジスタTr23は常時オンするように制御される。このpMOSトランジスタTr23は、シフト回路3におけるpMOSトランジスタTr11(Tr12)のオン状態を擬似的に作り出す。
nMOSトランジスタTr24のソースはnMOSトランジスタTr25のドレインに接続され、そのゲートはシフト回路3におけるnMOSトランジスタTr13,Tr14の各ゲートと共通にオペアンプ14の出力端子に接続されている。
nMOSトランジスタTr25のソースには接地電圧GNDが印加され、そのゲートは前述の制御電圧発生回路11におけるnMOSトランジスタTr22のゲートに接続されるとともに、nMOSトランジスタTr21のドレインに接続されている。nMOSトランジスタTr25は、制御電圧発生回路11のnMOSトランジスタTr22とカレントミラーを構成している。
オペアンプ14は、非反転入力端子(+)と反転入力端子(−)とを有する差動増幅器であって、非反転入力端子には制御電圧VR1が入力され、反転入力端子には同オペアンプ14の出力がnMOSトランジスタTr24を経由して帰還入力される。具体的には、オペアンプ14の反転入力端子には、nMOSトランジスタTr24のソースとnMOSトランジスタTr25のドレインとの接続点であるノードN4の電圧(ノード電圧Vn4)が入力される。オペアンプ14は、上記各入力端子に入力された制御電圧VR1とノード電圧Vn4との電圧差を増幅してバイアス電圧VB1を発生させ、発生させたバイアス電圧VB1をnMOSトランジスタTr24のゲート及びシフト回路3のnMOSトランジスタTr13,Tr14のゲートに供給する。
なお、本実施の形態においては、前述したnMOSトランジスタTr21のソース−ドレイン間電圧に基づいて、nMOSトランジスタTr24のしきい値電圧Vthに対応したオフセットがオペアンプ14に設定されている。これにより、負帰還ループの動作安定化を図っている。
このように構成された電圧発生回路4は、ノード電圧Vn1,Vn2を制御するための制御電圧VR1を、電源電圧VD2に依存しない略一定電圧レベルで生成する。そして、オペアンプ14を用いた負帰還ループにより、ノード電圧Vn4を制御電圧VR1に略一致する電圧とするようにバイアス電圧VB1を生成する。これにより、ノード電圧Vn1,Vn2をノード電圧Vn4に略一致する電圧、即ち制御電圧VR1に略一致する電圧に制御することができる。
次に、上記のように構成されたレベルシフト回路1の作用を説明する。
図2は、本実施の形態のレベルシフト回路1の特性を示す説明図である。なお、図中、規定電圧Vrは、トランジスタTr13,Tr14の能力(動作スピード)を維持するために必要なドレイン電圧の電圧レベルを示す。
同図に示すように、本実施の形態では、バイアス電圧VB1が電源電圧VD2に依存しない略一定電圧レベルで生成されることにより、ノード電圧Vn1(Vn2)は電源電圧VD2が低下した場合にも、安定した略一定電圧レベル(制御電圧VR1の電圧レベル)に保持される。即ち、従来のレベルシフト回路21(図4)では、電源電圧VD2が電圧VD2´より低くなると、ノード電圧Vna(Vnb)が規定電圧Vrを下回ることで、トランジスタTr45,Tr46の動作スピードが低下していたが、本実施の形態では、電源電圧VD2が制御電圧VR1以上である限り、ノード電圧Vn1(Vn2)は、安定した略一定電圧レベルに保持される。これにより、入力信号INに対するnMOSトランジスタTr13,Tr14のオンオフ応答性は好適に維持される。
以上記述したように、本実施の形態によれば、以下の効果を奏する。
(1)ノード電圧Vn1,Vn2を制御するための制御電圧VR1を電源電圧VD2に依存しない略一定電圧レベルで発生する制御電圧発生回路11と、該ノード電圧Vn1,Vn2を制御電圧VR1に略一致する電圧とするようにバイアス電圧VB1を発生するバイアス発生回路12とを備えた。これにより、電源電圧VD2が変動する時にも、シフト回路3に供給するバイアス電圧VB1を安定的に生成して、入力信号INに対するnMOSトランジスタTr15,Tr16のオンオフ応答性を好適に維持することができる。
(2)バイアス発生回路12は、ノード電圧Vn1,Vn2を擬似的に再現するノード電圧出力回路(トランジスタTr23,Tr24,Tr25)と、その出力電圧であるノード電圧Vn4を検出し、該ノード電圧Vn4と制御電圧VR1との電圧差に応じたバイアス電圧VB1を発生させるオペアンプ14とを備えた。このような負帰還ループを持つ構成により、より安定したバイアス電圧VB1を生成することができる。
(3)制御電圧発生回路11及びノード電圧出力回路を構成するトランジスタをシフト回路3を構成するトランジスタと同一特性を持つトランジスタで構成するようにした。これにより、バイアス電圧VB1を最適化できる。
なお、上記実施の形態は、以下に記載する変形例の態様で実施してもよい。
・制御電圧発生回路11の電流源13に接続する電源は電源電圧VD2を供給する電源に限定されない。
・制御電圧発生回路11のnMOSトランジスタTr21は抵抗でもよい。
・電圧発生回路4のトランジスタとシフト回路3のトランジスタとを相関関係を有するように構成することに必ずしも限定されない。
・電圧発生回路4は上記実施の形態の構成に限定されず、本発明の技術的思想の範囲内において適宜変更することができる。
一実施の形態のレベルシフト回路を示す回路図。 一実施の形態のレベルシフト回路の特性を示す説明図。 従来のレベルシフト回路の特性を示す説明図。 従来のレベルシフト回路を示す回路図。
符号の説明
1 レベルシフト回路
2 入力回路
3 シフト回路
4 電圧発生回路
11 制御電圧発生回路
12 バイアス発生回路
13 電流源
14 オペアンプ
IN 入力信号
/IN 反転入力信号
OUT 出力信号
VD1 電源電圧(第1電圧)
VD2 電源電圧(第2電圧)
GND 接地電圧(基準電圧)
VB1 バイアス電圧
N2 ノード(第1ノード)
N1 ノード(第2ノード)
N3,N4 ノード
Vn1,Vn2,Vn4 ノード電圧
VR1 制御電圧
Tr16 nMOSトランジスタ(第1nMOSトランジスタ)
Tr15 nMOSトランジスタ(第2nMOSトランジスタ)
Tr14 nMOSトランジスタ(第3nMOSトランジスタ)
Tr13 nMOSトランジスタ(第4nMOSトランジスタ)
Tr12 pMOSトランジスタ(第1pMOSトランジスタ)
Tr11 pMOSトランジスタ(第2pMOSトランジスタ)
Tr22 nMOSトランジスタ
Tr25 nMOSトランジスタ(第5nMOSトランジスタ)
Tr24 nMOSトランジスタ(第6nMOSトランジスタ)
Tr23 pMOSトランジスタ(第3pMOSトランジスタ)

Claims (9)

  1. 基準電圧と第1電圧との電圧レベルを持つ入力信号を、前記基準電圧と前記第1電圧よりも高い第2電圧との電圧レベルを持つ出力信号に変換するシフト回路と、該シフト回路にバイアス電圧を供給する電圧発生回路とを備えるレベルシフト回路において、
    前記シフト回路は、各ソースに前記基準電圧が印加され、各ゲートに前記入力信号及び該入力信号を反転した反転入力信号がそれぞれ供給される第1nMOSトランジスタ及び第2nMOSトランジスタと、各ソースが前記第1nMOSトランジスタ及び第2nMOSトランジスタのドレインにそれぞれ接続され、各ゲートに前記バイアス電圧が印加される第3nMOSトランジスタ及び第4nMOSトランジスタと、各ソースに前記第2電圧が印加され、各ドレインが互いのゲートに接続されるとともに前記第3nMOSトランジスタ及び第4nMOSトランジスタのドレインにそれぞれ接続される第1pMOSトランジスタ及び第2pMOSトランジスタとを備えており、
    前記電圧発生回路は、
    前記第1nMOSトランジスタ及び前記第3nMOSトランジスタの接続点である第1ノード、及び、前記第2nMOSトランジスタ及び前記第4nMOSトランジスタの接続点である第2ノードの電圧を制御するための制御電圧を前記第2電圧の電圧レベルに依存しない略一定電圧レベルで発生する制御電圧発生回路と、
    前記第1又は第2ノードの電圧を擬似する電圧と前記制御電圧とを比較して、前記第1及び第2ノードの電圧を前記制御電圧に略一致する電圧とするように前記バイアス電圧を発生するバイアス発生回路と、
    を備えることを特徴とするレベルシフト回路。
  2. 前記制御電圧発生回路は、定電流を発生する電流源と、該電流源に対しダイオード接続されるMOSトランジスタとを含み、前記電流源及び前記MOSトランジスタの接続点の電位を前記制御電圧として出力する、
    請求項1記載のレベルシフト回路。
  3. 前記MOSトランジスタは、前記第1nMOSトランジスタ及び第2nMOSトランジスタと同一特性を持つnMOSトランジスタにより構成される、
    請求項2記載のレベルシフト回路。
  4. 基準電圧と第1電圧との電圧レベルを持つ入力信号を、前記基準電圧と前記第1電圧よりも高い第2電圧との電圧レベルを持つ出力信号に変換するシフト回路と、該シフト回路にバイアス電圧を供給する電圧発生回路とを備えるレベルシフト回路において、
    前記シフト回路は、各ソースに前記基準電圧が印加され、各ゲートに前記入力信号及び該入力信号を反転した反転入力信号がそれぞれ供給される第1nMOSトランジスタ及び第2nMOSトランジスタと、各ソースが前記第1nMOSトランジスタ及び第2nMOSトランジスタのドレインにそれぞれ接続され、各ゲートに前記バイアス電圧が印加される第3nMOSトランジスタ及び第4nMOSトランジスタと、各ソースに前記第2電圧が印加され、各ドレインが互いのゲートに接続されるとともに前記第3nMOSトランジスタ及び第4nMOSトランジスタのドレインにそれぞれ接続される第1pMOSトランジスタ及び第2pMOSトランジスタとを備えており、
    前記電圧発生回路は、
    前記第1nMOSトランジスタ及び前記第3nMOSトランジスタの接続点である第1ノード、及び、前記第2nMOSトランジスタ及び前記第4nMOSトランジスタの接続点である第2ノードの電圧を制御するための制御電圧を前記第2電圧の電圧レベルに依存しない略一定電圧レベルで発生する制御電圧発生回路と、
    前記バイアス電圧に基づいて前記第1及び第2ノードの電圧を出力に再現するノード電圧出力回路と、該ノード電圧出力回路の出力電圧を検出し、該出力電圧と前記制御電圧との電圧差に応じた前記バイアス電圧を生成するオペアンプとを備え、前記第1及び第2ノードの電圧を前記制御電圧に略一致する電圧とするように前記バイアス電圧を発生するバイアス発生回路と、
    を備えることを特徴とするレベルシフト回路。
  5. 前記制御電圧発生回路は、定電流を発生する電流源と、該電流源に対しダイオード接続されるMOSトランジスタとを含み、前記電流源及び前記MOSトランジスタの接続点の電位を前記制御電圧として出力する、
    請求項4記載のレベルシフト回路。
  6. 前記MOSトランジスタは、前記第1nMOSトランジスタ及び第2nMOSトランジスタと同一特性を持つnMOSトランジスタにより構成される、
    請求項5記載のレベルシフト回路。
  7. 前記ノード電圧出力回路は、前記第1nMOSトランジスタ及び第2nMOSトランジスタと同一特性を持つ第5nMOSトランジスタと、前記第3nMOSトランジスタ及び第4nMOSトランジスタと同一特性を持つ第6nMOSトランジスタと、前記1pMOSトランジスタ及び第2pMOSトランジスタと同一特性を持つ第3pMOSトランジスタとを備え、
    前記第5nMOSトランジスタは、ソースに前記基準電圧が印加され、ドレインが前記第6nMOSトランジスタのソースに接続され、ゲートに前記制御電圧が印加され、前記第6nMOSトランジスタは、ドレインが前記第3pMOSトランジスタのドレインに接続され、ゲートに前記バイアス電圧が印加され、前記第3pMOSトランジスタは、ソースに前記第2電圧が印加され、ゲートに前記基準電圧が印加されており、
    前記第5nMOSトランジスタ及び前記第6nMOSトランジスタの接続点の電位を前記出力電圧として出力する、
    請求項4乃至6のいずれか一項記載のレベルシフト回路。
  8. 前記オペアンプには、前記第6nMOSトランジスタのしきい値電圧に対応したオフセットが設定される、
    請求項7記載のレベルシフト回路。
  9. 請求項1乃至8のいずれか一項記載のレベルシフト回路を備えた半導体装置。
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